「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the substrate comprises a process preparing the substrate provided with a transparent conductive layer and a process forming an inorganic layer on the transparent conductive layer, a process performing surface treatment in a prescribed area to increase wettability over a first solution by performing surface modification in the prescribed area of the inorganic layer.例文帳に追加

この基板の製造方法は、透明導電層が形成された基板を用意する工程と、透明導電層の上に無機層を形成する工程と、無機層の所定の領域を表面改質することによって第１溶液に対する濡れ性を高くするように、所定の領域に表面処理を行う工程とを包含する。 - 特許庁

To provide a planographic printing plate having satisfactory printing performance as the printing plate and using a silver complex salt diffusion transfer process in which the optical reflection density of a silver printing area deposited on a physical developing nucleus layer lowers and discrimination between a printing area and non-printing area is easy in a planographic printing plate material applying a silver complex salt diffusion transfer process.例文帳に追加

本発明の目的は、銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版材料に於て、平版印刷版としての十分な印刷性能を有し、物理現像核層上に析出した銀画線部の光学反射濃度が低下し、画線部と非画線部の識別が容易な銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版を提供することである。 - 特許庁

This game system includes a hit area setting process part 114 to change at least one of a size, shape, precision, and relative position of a hit area against a target object according to a game condition and a hit checking process part 116 to check a hit on the object using the hit area.例文帳に追加

標的オブジェクトに対するヒット領域の大きさ、形状、精密度、ヒット対象となるオブジェクトに対する相対的な位置の少なくともひとつをゲーム状況に応じて変化させるヒット領域設定処理部１１４と、ヒット領域を用いて前記オブジェクトに対するヒットチェックを行うヒットチェック処理部１１６とを含むゲームシステムである。 - 特許庁

This data transfer control method is provided with a process for allocating a fixed size of buffer area on the share memory to a pipe, and a process for controlling the USB host controller to transfer the data between a USB host unit and a USB device unit, via the fixed size of buffer area allocated to the pipe.例文帳に追加

パイプに共有メモリ上の固定サイズのバッファ領域を割り当てる工程と、パイプに割り当てた前記固定サイズのバッファ領域を介して、ＵＳＢホスト装置とＵＳＢデバイス装置との間でデータ転送を行うように、ＵＳＢホストコントローラを制御する工程と、を備える。 - 特許庁

The method for producing the sugar cane lineage having an increased leaf area is provided by comprising a process of extracting the chromosome of a progeny plant in which at least one of its parents is the plant belonging to the sugar cane plant, and a process of measuring the presence or absence of the leaf area-related marker of the sugar cane in the obtained chromosome.例文帳に追加

少なくとも一方の親がサトウキビ植物である後代植物の染色体を抽出する工程と、得られた染色体におけるサトウキビ葉面積関連マーカーの存在・非存在を測定する工程とを含む、葉面積が増大したサトウキビ系統の製造方法。 - 特許庁

(2) Subsection (1) does not apply if, before the priority date, the person: (a) had stopped (except temporarily) exploiting the product, method or process in the patent area; or (b) had abandoned (except temporarily) the steps to exploit the product, method or process in the patent area. 例文帳に追加

(2) 優先日前に，その者が， (a) 当該特許地域においてその製品，方法又は工程の実施を停止していた(一時的な場合を除く)，又は (b) 当該特許分野においてその製品，方法又は工程を実施するための準備を放棄していた(一時的な場合を除く)場合は，(1)は適用しない。 - 特許庁

A process content determination unit can determine the hatching part in the input image A from the calculated output image B as an effective area by inverse mapping, and can determine that the area other than the hatching part is less influenced even when a simple decoding process is conducted.例文帳に追加

処理内容判定部は、算出された出力イメージＢから入力イメージＡにおけるハッチング部分が有効エリアであると、逆写像により求めることができ、ハッチング部分以外の領域が簡易復号処理を行っても影響がない（少ない）エリアであることを判定することができる。 - 特許庁

In a manufacturing process for a semiconductor integrated circuit device using electron beam exposure at least in part of the process, a dummy chip area is exposed to light using a mask having a dummy chip pattern of a size equal to or smaller than a maximum opening area allowable in an electron beam exposure device.例文帳に追加

プロセス工程の少なくとも一部で電子ビーム露光を用いる半導体集積回路装置の製造工程において、ダミーチップ領域を露光する際に、電子ビーム露光装置で許容される最大開口面積以下のサイズのダミーチップ用パターンを有するマスクを用いて露光する。 - 特許庁

In a laser processing process, the electrode pattern formation programming area of a dielectric block 1 is irradiated with a laser beam to remove prescribed thickness from the electrode pattern formation programming area, and in a succeeding surface correction process, a dielectric part deteriorated by laser beam irradiation is removed or repaired.例文帳に追加

レーザ加工工程で誘電体ブロック１の電極パターン形成予定領域にレーザビームを照射して電極パターン形成予定領域を所定厚み分除去し、続く表面修正工程で、レーザビームの照射によって変質した誘電体部分の除去または修復を行う。 - 特許庁

After that, relational expression of DN(digital number) values of pixels except the clouded part areas of the both images is created by a relational expression creation process 17 and an image from which influence of clouds is restored from the DN value of the clouded area in the satellite image for reference by the clouded part area restoration process 18.例文帳に追加

その後、該両画像の覆雲部領域を除いた画素のDN値（ディジタルナンバー）の関係式を関係式作成工程17で作成し、覆雲部領域復元工程18で参照用衛星画像中の覆雲部領域のDN値から、雲の影響を除いた画像を復元する。 - 特許庁

Since a stage processing space R3 in the process line 10L is opened to both the area R2 side exclusive for the robot and the area R1 side exclusive for the worker, the robot 80 and the worker perform processing on the process line 10L by cooperating with each other.例文帳に追加

本発明では、処理ライン１０Ｌにおけるステージ処理空間Ｒ３をそれらロボット専用領域Ｒ２側と作業者専用領域Ｒ１側との両方に開放したので、ロボット８０と作業者とが互いに補助し合って処理ライン１０Ｌ上で処理を行うことができる。 - 特許庁

The adhesive sheet is peeled from the adherend in a peeling process while a foldable area R4 is folded by sticking a release tape on the adhesive sheet in a sticking process by using a press head 33 having a foldable area forming portion 355 formed between a first press portion 351 and a second press portion 352.例文帳に追加

第１押圧部３５１と第２押圧部３５２との間に可折領域形成部３５５が形成された押圧ヘッド３３を用い、貼付工程にて剥離用テープを接着シートに貼付することで、剥離工程にて、可折領域Ｒ４を折り曲げつつ接着シートを被着体から剥離することができる。 - 特許庁

A process for storing the color information relating to a designated arbitrary area via the pointer within the editing image area, and a process for clearly displaying the color information as the coordinate value on a color coordinate to be given by phase, saturation, and brightness are also to be executed as the color adjustment technology.例文帳に追加

また、色調整技術として、編集画像領域内でポインタを通じて指定された任意の領域に関する色情報を保存する処理と、色情報を、位相、彩度及び明度で与えられる色座標上の座標値として明示的に表示する処理とを実行するものを提案する。 - 特許庁

The manufacturing method of the solid electrolyte film including a process, which manufactures rare earth oxide particles whose specific surface area is 5 to 30 m^2/g, the process, which manufactures the solid solution of the rare earth oxide particles and zirconia, and the process, which forms the film using the solid solution, are provided.例文帳に追加

比表面積が５〜３０ｍ^2／ｇの希土類酸化物粒子を製造する工程と、該希土類酸化物粒子とジルコニアとの固溶体を製造する工程と、該固溶体を用いて製膜する工程とを含む固体電解質膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dry etching apparatus for shortening the time until start of process of the next processing work after start of process of the first processing work in the process to form a recessed area or a through-hole to the processing work, and also to provide a processing method of a processing work.例文帳に追加

被加工物に凹部又は貫通孔を形成する工程において、第１の被加工物の加工を開始してから次の被加工物の加工を開始するまでの時間を短くする事ができるドライエッチング装置及び被加工物の加工方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device having a Cu wiring 12 includes a process for oxidizing the surface area of the Cu wiring 12 after forming the Cu wiring 12, and a process for removing oxide 17 formed by the oxidation process.例文帳に追加

Ｃｕ配線１２を有する半導体装置の製造方法であって、Ｃｕ配線１２を形成した後にＣｕ配線１２の表面領域に酸化処理を施す工程と、この酸化処理によって形成された酸化物１７を除去する工程とを有する。 - 特許庁

When the finalizing process is executed on information recorded in a user data area of the recording medium, in a case where the amount of information recorded in the user data area is less than a predetermined value, dummy information is recorded subsequent to the recorded area such that its amount becomes the predetermined value or more.例文帳に追加

記録媒体のユーザデータエリアに記録された情報に対してファイナライズ処理を行う際に、ユーザデータエリアに記録されている情報量が、所定値を満たない場合には、所定値以上にするために、記録された領域に続いてダミー情報を記録する。 - 特許庁

In the generation advancing process, a ratio of the number of individuals selected by the user to the total number of individuals inside the selection area is computed, and if the ratio is a predetermined value or higher, the selection area is shrunk, while the selection area is expanded if the ratio is less than the predetermined value.例文帳に追加

世代進行の過程では、選択領域内の個体の総数に対する使用者が選択した個体の数の割合を算出し、割合が所定値以上であるときは、選択領域を縮小し、そうでないときは、選択領域を拡大する。 - 特許庁

The second process if for making a stuck base board by sticking together a substrate 101 having a pixel area and a non-pixel area with an organic EL element formed on the pixel area, and the sealing substrate 120 at a temperature lower than a softening temperature of resin.例文帳に追加

第２の工程は、画素領域及び非画素領域を有すると共に当該画素領域に有機ＥＬ素子が形成された基板１０１と、封止基板１２０とを、樹脂の軟化温度よりも低い温度で貼り合せて貼り合わせ基板とする工程である。 - 特許庁

In a first process, a shape-changeable area and a shape-unchangeable area are set in an initial shape, and the outer shape of a machine structure is obtained by deleting the shape-changeable area from the initial shape (SP1 to SP3).例文帳に追加

第１工程において、初期形状のうち、形状の変更が不可能な領域と形状の変更が可能な領域と設定し、形状の変更が可能な領域を初期形状から削減した機械構造物の外形形状を求める（ＳＰ１〜ＳＰ３）。 - 特許庁

A control unit 15 performs a process in which the photograph image is taken again when an area selected according to an operation of an operation unit 16 is determined as the focus determination area and the focus determination unit 14 determines that the focus determination area is not focused on.例文帳に追加

制御部１５は操作部１６の操作に応じて選択した領域を前記焦点判定領域として、焦点判定領域に対して合焦判定部１４によって焦点が合っていないと判定されたときに、撮像画像の撮り直し処理を行う。 - 特許庁

The image forming apparatus detects a maximum lamination number for the toner image of each area to which the fixing process is applied, for the sheet on which toner images for each color are multiple-transferred and the caloric value applied in fixing for each area is determined based on the maximum lamination number for each area.例文帳に追加

画像形成装置は、各色のトナー像が多重転写されたシートについて、定着処理を行なうエリア毎にトナー像の最大積層数を検出し、この各エリアの最大積層数に基づいて、定着時に加える各エリア毎の熱量を決定する。 - 特許庁

To provide a method for forming a substrate, in which a desired fine uneven structure having a comparatively large area can be formed on a surface of the substrate, by paying attention to mask formation by a nano-inprint process allowing a mask having a comparatively large area to be obtained and chemical etching allowing a large area to be processed.例文帳に追加

比較的大面積化が可能なナノインプリントプロセスによるマスクの形成と、大面積の処理が可能な化学エッチングとに着目することで，基板の表面に比較的大面積の所望の微細凹凸構造を形成可能な方法を提供する。 - 特許庁

The IC tag data management method has: a dividing process for dividing the user area of the IC tag into a plurality of data fields; a data generation process for generating recording data to be written to the IC tag; a write process for writing for each data field recording data generated in the data generation process; and a read process for reading storage data in the data field.例文帳に追加

本ＩＣタグ用データ管理方法は、ＩＣタグのユーザ領域を複数のデータフィールドに分割する分割過程と、前記ＩＣタグに書き込む記録データを生成するデータ生成過程と、前記データ生成過程で生成された前記記録データを前記データフィールド毎に書き込む書込み過程と、前記データフィールド内の保管データを読み出す読出し過程と、を有する。 - 特許庁

The effected area can readily be removed in its whole part at a cleaning process after imaging, thus obtaining an image spot of a larger diameter than that of an incident beam.例文帳に追加

作用を受けた領域はイメージング後の洗浄工程で全体を容易に除去でき、入射ビーム径より大きなイメージスポットが得られる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a memory element, and which is manufactured by a simplified manufacturing process, and reduces the area of capacitance elements.例文帳に追加

作製工程が簡略化され、容量素子の面積が縮小化されたメモリ素子を有する半導体装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an interleaved device in which an increase in cell area can be prevented and process portability is improved and which can continuously access a memory.例文帳に追加

セル面積の増大を防止でき、プロセスポータビリティの向上を図れ、しかも連続してメモリアクセスを可能とするインタリーブ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an output circuit of low current consumption and a small area, which can be manufactured by a CMOS process of a low manufacturing cost.例文帳に追加

製造コストの低いＣＭＯＳ工程により製造可能な、低消費電流かつ低面積の差動出力形出力回路を提供する。 - 特許庁

In the partition process (b), the bending area is divided into a plurality of sections having no bending section, and the divided ceramic plates are stuck on every section.例文帳に追加

分割工程(b) ：屈曲領域を屈曲部を有しない複数の区画に分割し、各区画毎に分割されたセラミック板を貼り付ける。 - 特許庁

The editing process unit 42 creates integrated finding information 85 which indicates the arranging order of the findings in the finding display area 67.例文帳に追加

編集処理部４２は、所見文表示領域６７における各所見文の並び順を表す統合所見文情報８５を作成する。 - 特許庁

To provide a peripheral exposure method that simplifies an alignment process and accurately secures a peripheral exposure area parallel to a reference side.例文帳に追加

アライメント工程の簡略化と、基準辺に平行な周辺露光領域を正確に確保することのできる周辺露光方法を提供する。 - 特許庁

After the ferroelectric capacitors are formed at the manufacturing process, prescribed data are written into the ferroelectrfic capacitors in the ROM area.例文帳に追加

製造工程において強誘電体キャパシタが形成された後、ＲＯＭ領域の強誘電体キャパシタ対に所定のデータが書き込まれる。 - 特許庁

To not only form an auxiliary capacitive part without increasing a forming process at a manufacturing time and to reduce an area of a capacitive electrode.例文帳に追加

製造の際の成膜工程を増やすことなく補助容量部を形成できるばかりでなく、容量電極の面積を小さくできる。 - 特許庁

To provide a part packaging apparatus improved in packaging density for each step of a process for packaging semiconductors on a large-area liquid crystal panel.例文帳に追加

大版の液晶パネルに半導体部品を実装する各工程において、より高い実装精度を実現した部品実装装置を提供する。 - 特許庁

Only the pixel values of the pixels included in the specific color area are subjected to a prescribed color conversion process on the a*b* plane to be output to a monitor 13.例文帳に追加

特定の色領域に含まれる画素の画素値のみａ^＊ｂ^＊平面上で所定の色変換を施し、モニタ１３へと出力する。 - 特許庁

The FPGA 10 performs picture capturing processing including a process which imports a picture signal from a CCD area sensor 4 and stores the signal in a memory 11.例文帳に追加

ＦＰＧＡ１０は、ＣＣＤエリアセンサ４からの画像信号を取り込んでメモリ１１に格納する処理を含む画像取込処理を行う。 - 特許庁

To provide a device and a method capable of performing a trimming process of an image while performing validation of a hidden area which is shielded by a frame.例文帳に追加

額縁に遮蔽されて見えない領域を確認しながら画像のトリミング作業を行うことができる装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method that prevents silicon horns from being formed in a recess gate area and increases a margin in the etching process.例文帳に追加

リセスゲート領域にシリコンホーンが形成されることを防止し、食刻工程のマージンを高める半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To accurately search a corresponding point without increasing a process cost, and to prevent a large area outside an object to be processed from being generated.例文帳に追加

処理コストを増大させなくても精度良く対応点を探索し、かつ、大きな処理対象外の領域が発生することを防止する。 - 特許庁

To safely perform a process involving toxic gases by preventing leakage of a specific gas and particles from a loading area to the outside.例文帳に追加

ローディングエリア内から外部への特定のガスおよびパーティクルの漏洩を防止し、危険ガスを使用するプロセスを安全に行うことを可能とする。 - 特許庁

To perform process control over a log of access to learning contents, a log of access to question information (Q&A), and a log of access in learning area units.例文帳に追加

この発明は、学習コンテンツのアクセスログと、質問情報（Ｑ＆Ａ）へのアクセスログと、学習エリア単位でのアクセスログのプロセス管理に関する。 - 特許庁

To provide a power storage device with a small occupied area of a terminal part and easy to manufacture and with a high mounting yield even in a process of miniaturizing.例文帳に追加

端子部の占有面積が小さく、小型化に際しても製造が容易でかつ実装歩留まりの高い電力貯蔵デバイスを提供する。 - 特許庁

To reduce greatly sludge volume by hyperfinely pulverizing sludge to enlarge a unit surface area so as to carry out an effective biodegradable process in an aeration tank.例文帳に追加

汚泥を超微細化して単位表面積を拡大して曝気槽で効率的に生物分解処理して大幅に汚泥を減容化する。 - 特許庁

To establish fine appearance by fitting fast a tray in a back face opening of a seat back and subjecting the skin in the area with opening to a terminating process.例文帳に追加

シート・バックの背裏面開口部にトレイをはめ込んで固定し、同時にその開口部において表皮の端末処理を行い見映え良くする。 - 特許庁

To cut down the occupying area and the cost of an excimer laser annealing system of a double-process chamber method giving a high throughput of low-temperature polysilicon TFT liquid crystal panel.例文帳に追加

低温ポリシリコンＴＦＴ液晶パネルの高スループットダブルプロセスチャンバ方式エキシマレーザアニーリングシステムの専有面積及びコストを削減する。 - 特許庁