「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The fourth process is for baking the stuck base board under the second atmosphere to coat the pixel area with the resin layer 121.例文帳に追加

第４の工程は、貼り合せ基板を第２の雰囲気下でベークし、画素領域を樹脂層１２１で被覆させる工程である。 - 特許庁

Stacked members each comprising a plurality of materials with different characteristics and an area in a prescribed unit are layered, a plurality of the stacked members are fixed by an adhesion process or a thermo compression bonding process to configure a single module, and a plurality of the single modules are fixed by an adhesion process or a thermo compression bonding process to form the outer package member with a required area.例文帳に追加

複数の異なる特性を有する素材からなり、所定単位の面積を備える積層部材を積層し、積層部材同士を貼付加工または熱圧着加工により複数固着することにより単一のモジュールを構成し、単一のモジュール同士を貼付加工または熱圧着加工により複数固着することにより必要面積の外装部材を形成する。 - 特許庁

The image pickup apparatus includes: adjustment processors 15, 16, and 18 that set an evaluation area 106 in an image generated by picking up the image, and perform a focusing adjustment processing or a color adjustment process based on evaluation information obtained from an image signal of the evaluation area; and a masking processor 17 that sets a mask area 302 in the image, and performs a masking process for the mask area.例文帳に追加

撮像装置は、撮像により生成した画像中に評価領域１０６を設定し、該評価領域の画像信号から取得した評価情報に基づいて焦点調節処理または色調節処理を行う調節処理手段１５，１６，１８と、該画像中にマスク領域３０２を設定し、該マスク領域にマスキング処理を行うマスキング処理手段１７とを有する。 - 特許庁

A main control part is configured to execute a color reproduction accuracy improving process when a colorimetric adapting area suitable for measuring a multi-dimensional color is found in images, and to execute a deposition amount stabilizing process when a colorimetric adapting area is not found.例文帳に追加

画像の中から多次色を測色するのに適した測色適応領域が見つかった場合には、色再現精度向上処理を実施する一方で、見つからなかった場合には付着量安定化処理を実施するように、メイン制御部を構成した。 - 特許庁

Based on the reflection information of the reflection map texture, the lighting model and the light source information, the lighting process part performs a lighting process for expressing the gloss of the liquid in a liquid sticking area set as the area of the character's surface to which the liquid (sweat) sticks.例文帳に追加

ライティング処理部は、反射マップテクスチャの反射情報と照明モデルと光源情報に基づいて、キャラクタの表面のうち液体（汗）が付着する領域として設定される液体付着領域において、液体の光沢を表すためのライティング処理を行う。 - 特許庁

In the comparison judging process, whether the broken chilled layer having quantity of such a degree becoming a defected article as the die-cast article 30 is contained in the die-cast article 30 or not, is judged by comparing the area ratio calculated with the area ratio calculating process and a prescribed standard value.例文帳に追加

比較判断工程では、面積率算出工程により算出された面積率と所定の基準値とを比較することにより、ダイカスト品３０が不良品となる程度の量の破断チル層がダイカスト品３０中に含まれているか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a color filter for a translucent liquid crystal display device, capable of being provided with desired color characteristics in the reflecting area and the transmission area, respectively, and manufactured suppressing increase in manufacturing process, and further capable of preventing failure from occurring in an alignment film coating process.例文帳に追加

反射表示と透過表示とでそれぞれ所望の色特性（色純度、明るさ、色調）を半透過型液晶表示装置用カラーフィルターを低コストに製造し、さらには配向膜塗布工程での不良発生を防止するカラーフィルターを提供する。 - 特許庁

The screen 27 is extended upward by prescribed length X from the upper surface of the flange 25 in the process tube 1 and opposes the inner surface of the process tube 1, and then forms a gap 12 of which an upper end is open at an area to the inner surface of the process tube 1.例文帳に追加

衝立部２７は、プロセスチューブ１内でフランジ２５の上面よりも所定長さＸだけ上方に延出してプロセスチューブ１の内側面に対向し、プロセスチューブ１の内側面との間に上端が開放した間隙１２を形成する。 - 特許庁

On a cache RAM, when a process is not executed or when the process is executed under an external mode or a state without ROM, the process is jumped to the cache RAM area after the data are copied from the ROM to the RAM.例文帳に追加

そして、キャッシュＲＡＭ上で、処理が実行されていない場合や外部モードやＲＯＭレスの状態で処理が実行されている場合、ＲＯＭからＲＡＭへデータのコピーが行われた後、キャッシュＲＡＭ領域へと処理がジャンプされる。 - 特許庁

The method for forming the thin film pattern comprises: a process of forming a bank B on a substrate P; a process of arranging a function liquid L in an area partitioned by the bank B; and a process of forming the film pattern F by drying the function liquid L arranged on the substrate P.例文帳に追加

基板Ｐ上にバンクＢを形成する工程と、バンクＢによって区画された領域に機能液Ｌを配置する工程と、基板Ｐ上に配置された機能液Ｌを乾燥させて膜パターンＦを形成する工程とを有する。 - 特許庁

A resident resource management resident process 6 which is not supervised by a supervisory process 7 is prepared, and only a file descriptor acquired from an SS7 physical circuit termination device driver 2 is stored in a common memory area 8 by the resource management resident process 6.例文帳に追加

監視プロセス７にて監視されない常駐のリソース管理常駐プロセス６を設け、ＳＳ７物理回線終端デバイスドライバ２から取得したファイルディスクリプタだけをこのリソース管理常駐プロセス６にて共有メモリエリア８に保持する。 - 特許庁

To install a liquid crystal display device which makes a game role object visually recognizable through a transparent non-display area and secure the quality of display, for example by making the border between the display area and the non-display area clear without a sort of sophistication of the production process.例文帳に追加

透明な非表示領域を透して遊技役物を目視させる液晶表示装置を備え、製造プロセスを高度化等することなく表示領域と非表示領域との境界部分を鮮明にする等して表示品質を確保する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a foam roller capable of increasing the cell opening area to an area within a specified range by opening closed cells at the peripheral surface of a rubber foam body produced through the molding process of the foam roller and suppressing fluctuation of the opening area.例文帳に追加

発泡ローラの成形工程で生じたゴム発泡体外周面の未開口セルを開口し、また開口面積のバラツキを抑え、所定範囲の面積にセル開口を拡大可能な発泡ローラの製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

Moreover, in the solder reflow process, the diameter Db of the resist aperture of the land 9 on the substrate side arranged at the central area of the mother substrate 8 is reduced than that at the end area, in order to cancel floating of the mother substrate of the central area of the semiconductor device 1.例文帳に追加

また、はんだのリフロー工程では、半導体装置１の中央部がマザー基板８から浮き上がるのを相殺するために、マザー基板８の中央部に配設された基板側ランド９のレジスト開口径Ｄｂを端部より縮小する。 - 特許庁

To solve the problem that it is further necessary to secure an area for a transfer part and an addition part and to process wiring for driving when a distance measuring area and an imaging area are enlarged, and therefor chip size is increased and the degree of freedom of sensor layout is decreased.例文帳に追加

測距エリアや撮像エリアの拡大を行う場合、転送部や加算部の面積の確保や駆動のための配線処理などが更に必要になるため、チップサイズの増加や、センサレイアウトの自由度が狭められるという問題を解決する。 - 特許庁

To secure the quality of display by clearly indicating the boundary between a display area and a non-display area in a liquid crystal display device for making a game generator visible through the transparent non-display area without sophisticating the manufacturing process, etc.例文帳に追加

透明な非表示領域を透して遊技役物を目視させる液晶表示装置を備え、製造プロセスを高度化等することなく表示領域と非表示領域との境界部分を鮮明にする等して表示品質を確保する。 - 特許庁

To provide a technology of reducing the area of a memory unit regarding a nonvolatile semiconductor memory device manufactured by a standard CMOS process.例文帳に追加

標準ＣＭＯＳプロセスで製造可能な不揮発性半導体記憶装置に関し、メモリユニットの省面積化技術を提供する。 - 特許庁

A partial restoration process part 2C restores only a designated file in a user data volume V1 and stores the file in a temporary restoration area V3.例文帳に追加

部分リストア処理部２Ｃは、ユーザデータボリュームＶ１のうち、指定されたファイルのみをリストアし、一時リストア領域Ｖ３に記憶させる。 - 特許庁

The method comprises a process where environmental factors within an area of a predetermined radius R_2, with an investigation point Z of location as the center are digitized as risk factors and summed up.例文帳に追加

調査地点Ｚを中心として所定半径Ｒ_2 内の環境要因を、リスク要因として数値化して、合算する。 - 特許庁

Consequently, the graphic area is not extracted in accordance with the other areas under the influence of separating process for the other areas.例文帳に追加

これにより、図形領域は、他の領域の分離処理の影響を受けて当該他の領域に付随して抽出されることがなくなる。 - 特許庁

At this time, if the terminal is outside an area that the PHS system covers, the portable telephone process (PDC) part 2 and a data card part 4 mainly operate.例文帳に追加

その際、ＰＨＳシステムがカバーする圏外の場合は、携帯電話処理部（ＰＤＣ部）２及びデータカード部４が主に動作する。 - 特許庁

To realize a large-area image pickup device using a stepper with exposure width limited while a process rule realized by the stepper is maintained.例文帳に追加

露光幅の制限されたステッパを使い、かつステッパで実現されるプロセスルールを維持しながら大面積の撮像装置を実現する。 - 特許庁

To provide a plasma process device capable of forming uniform plasma and also capable of corresponding to a substrate of a large area at a low cost.例文帳に追加

均一なプラズマを形成することが可能であり、かつ低コストで大面積の基板に対応可能なプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁

To provide a W type ferrite sintered compact which has high existence ratio of a W phase in the entire area of the sintered compact and to provide its production process.例文帳に追加

Ｗ相の存在比率が焼結体の全域で高いＷ型フェライト焼結体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the process for forming the opening, dry etching is performed so as to expose a second embedding oxide film 40 at an area 55 wherein a bipolar transistor is formed.例文帳に追加

開口部を設ける工程では、ドライエッチングを行って、バイポーラトランジスタ被形成領域55の、第２埋め込み酸化膜40を露出させる。 - 特許庁

To provide an electrooptical device in which pixels have a narrow pitch and a high open area ratio without making manufacturing process complicated.例文帳に追加

製造プロセスを煩雑化させることなく、画素の狭ピッチ化や高開口率化を実現することができる電気光学装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an electronic component in which a larger number of conductor patterns can be formed as compared with the area of a substrate.例文帳に追加

基板の面積に比してより多くの導体パターンを形成することができる、電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device contributive to reduce the chip area furthermore in a cross point type FeRAM, and to provide its fabricating process.例文帳に追加

クロスポイント型ＦｅＲＡＭにおいて、チップ面積のさらなる削減に寄与できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A rendering process is performed on an area including all the extracted sample points to acquire color values at the respective sample points (step S180).例文帳に追加

抽出されたサンプルポイントの全てを含む領域についての描画処理を行い、各サンプルポイントの色値を取得する（ステップＳ１８０）。 - 特許庁

In a translucency treatment process, a GCL reads image data in a prescribed area including a prescribed character image in a performance image.例文帳に追加

半透明化処理において、ＧＣＬは、演出画像における所定のキャラクタ画像を含む所定の領域の画像データを読み出す。 - 特許庁

To reduce the area of a memory cell and to simplify manufacturing process by fine patterning in a semiconductor memory device, having an erasing gate electrode.例文帳に追加

消去ゲート電極を備えた半導体記憶装置において、微細化によるメモリセル面積の縮小と工程の簡略化とを図る。 - 特許庁

To control the film thickness of an on-chip micro lens in proportion to the area of a unit pixel, to make a process control easy and to improve optical transparent efficiency.例文帳に追加

単位画素の面積に対してオンチップマイクロレンズの膜厚を抑制でき、プロセスコントロールが容易で光の透過効率を向上できる。 - 特許庁

The adjustment wall 40 is formed, for example, with the same material and by the same process as an organic passivation film 108 in a display area.例文帳に追加

調整壁４０は、例えば、表示領域の有機パッシベーション膜１０８と同じ材料によって同じプロセスによって形成する。 - 特許庁

The transmitted data are the result of the statistical process, weather determined by residents in the area or the place of the name, and the most effective information.例文帳に追加

この送信データは統計処理の結果であり、当該地域、地名の住民が判断した「天気」であり、最も有効な情報である。 - 特許庁

The TCP/IP data acquisition process 2 writes an error status in the parameter area when an error occurs during data editing.例文帳に追加

ＴＣＰ／ＩＰデータ取得プロセス２ではデータ編集中にエラーが発生した場合に前記パラメータ領域にエラーのステータスを書き込む。 - 特許庁

Moreover, higher reliability can also be attained because it is not required to process the central area of the quantum dot active layer 3 which makes contribution to laser oscillation.例文帳に追加

また、量子ドット活性層３のうちレーザ発振に寄与する中心部を加工する必要がないため、高い信頼性が得られる。 - 特許庁

To provide a word line driving circuit which simplifies device configuration and manufacturing process and reduces chip area more effectively.例文帳に追加

装置構成及び製造工程を簡素化し、より効果的にチップ面積の低減を図ることができるワード線駆動回路を提供する。 - 特許庁

In the process for forming the hole, wet etching is performed so as to remove the second embedding oxide film at the area wherein a bipolar transistor is formed.例文帳に追加

空孔部を設ける工程では、ウェットエッチングにより、バイポーラトランジスタ被形成領域内の第２埋め込み酸化膜を除去する。 - 特許庁

A capacitance value and a resistance value can be set within a range independent of an extreme increase in a chip area in a used process, respectively.例文帳に追加

容量値、抵抗値はいずれも使用プロセスにおける、チップ面積の極端な増大につながらない範囲内の値で設定できる。 - 特許庁

When the laser power setting process is started, an optical pickup accesses a management area on a magneto optical disk and reproduces management data (Step S1).例文帳に追加

レーザパワー設定処理が起動されると、光ピックアップが光磁気ディスク上の管理エリアにアクセスして管理データを再生する（ステップＳ１）。 - 特許庁

To obtain a large area fiber plate which is suited for downsizing a radiation imaging apparatus and reducing its cost and excellent workability in the manufacturing process.例文帳に追加

放射線撮像装置の小型化、低コスト化に適し、製造工程での作業性にもより優れた大面積のファイバープレートを得る。 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM FOR DETERMINING ARRANGEMENT OF SEMICONDUCTOR ELEMENT FORMING AREA, AND PRODUCTION PROCESS OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子形成領域の配置決定方法、半導体素子形成領域の配置決定用プログラム、及び半導体素子の製造方法 - 特許庁

In the process of manufacturing a shift catalyst, first rutile-type titania and anatase-type titania area prepared (step S100) and mixed (step S110).例文帳に追加

シフト触媒を製造する際に、まず、ルチル型チタニアとアナターゼ型チタニアとを用意し（ステップＳ１００）、両者を混合する（ステップＳ１１０）。 - 特許庁

A data process part 3 calculates a first projection conversion coefficient from the pixel coordinates and actual size coordinates of the four indexes in the wide-area image.例文帳に追加

データ処理部３は、広域画像における４指標のピクセル座標と実寸座標とから、第１射影変換係数を算出する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording head chip that has an electrode capable of providing an enough bonding area, and is manufactured in a simple process.例文帳に追加

単純な工程で製造可能であり、充分な接合面積が得られる電極を備えたインクジェット記録ヘッドチップを提供する。 - 特許庁