「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To make an image process apparatus provided with image processing functions small in its occupancy area as a whole.例文帳に追加

複数の画像処理機能を備えた画像処理装置において、装置全体の省面積化を実現すること。 - 特許庁

To reduce an area occupied by a protection circuit, without increasing the number of manufacturing process for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置において、製造工程を増加させることなく、保護回路が占める面積を縮小する。 - 特許庁

Thus, the data to be preliminarily stored in the ROM area in the manufacturing process are surely read out.例文帳に追加

この結果、製造工程において予めＲＯＭ領域に格納されるデータを、確実に読み出すことができる。 - 特許庁

The folding tabs of an outer packaging material is connected to each other by wholly heat-sealing a surface area, and as a result, a shrink packaging process is started.例文帳に追加

外側包装材の折り曲げタブは、表面エリア全体の加熱シールによって互いに接続される。 - 特許庁

To accurately and efficiently detect a residual in a stripping-off process for a resin layer in a terminal attaching area.例文帳に追加

端子装着領域の樹脂層の剥ぎ取り工程における残留物の検出を正確に効率良く行う。 - 特許庁

To provide a method performing process control without enlargement of chip area or the like in a single-wafer treatment.例文帳に追加

枚葉式処理においてチップ面積の増大等を伴わずに工程管理を行う方法を提供する。 - 特許庁

To process a lens accurately in a wide pressurized area, enabling fine adjustment of pressure.例文帳に追加

広い加圧力の範囲でレンズを加工すると共に、加圧力の微調整を可能としてレンズを高精度に加工する。 - 特許庁

To form an electron emitting element using nitride-based compound semiconductor particles in a large area by a low-temperature process.例文帳に追加

窒化物系化合物半導体粒子を用いた電子放出素子を低温プロセスでかつ大面積に形成する。 - 特許庁

To provide an aluminum material for electrolytic capacitor electrodes which can increase the effective area through the etching process.例文帳に追加

エッチングによって実効面積を増大させることが出来る電解コンデンサ電極用アルミニウム材を提供する。 - 特許庁

An element separation area 2 comprising trench separation is formed on a semiconductor substrate 1 in a process shown in figure 2 (a).例文帳に追加

図２（ａ）に示す工程で、半導体基板１にトレンチ分離からなる素子分離領域２を形成する。 - 特許庁

To provide a phase transition type optical recording medium having low laser power per unit area necessary for an initialization process.例文帳に追加

初期化処理に必要な単位面積当たりのレーザーパワーが低い相変化型光記録媒体を提供する。 - 特許庁

The other area is Hachijojima island where Shoemon TANSO who was an exile from Satsuma, brought the process to make it. 例文帳に追加

他の産地として、薩摩出身の流人である丹宗右衛門が製法を持ち込んだ八丈島などが挙げられる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a graphic accelerator by which a mounting area can be reduced and the process speed can be increased.例文帳に追加

実装面積を少なくするとともに、処理速度の向上を図ることのできるグラフィックアクセラレータを提供する - 特許庁

To provide a filter circuit which is reduced in a capacitor dedicated area and eliminates the need of an exclusive process only for capacitor formation.例文帳に追加

キャパシタ専有面積が小さく、キャパシタ形成のためだけの専用プロセスが不要なフィルタ回路を提供する。 - 特許庁

The gradation compression method for a digital image comprises an image area division process 30 for dividing the area of the digital image to a high-luminance area and a low-luminance area according to the luminance of a pixel; and a retina response compression process 40 for gradation-compressing the high-luminance area and the luminance of the pixel by response characteristic of a retina cell which logarithmically senses stimulation of light.例文帳に追加

デジタル画像の階調圧縮方法において、画素の輝度に応じて、デジタル画像の領域を高輝度領域と低輝度領域とに分割する画像領域分割工程３０と、光の刺激を対数的に感知する網膜細胞の応答特性により高輝度領域及の画素の輝度を階調圧縮する網膜応答圧縮工程４０とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

After forming element areas 1aa to 1ac by an element forming process, the element separation areas 1ba and 1bb are etched by an element separation area etching process, and an insulation film 20 is embedded to their etching parts 16b and 16c by a trench element separation area embedding process.例文帳に追加

素子形成工程によって素子領域１ａａ〜１ａｃを形成した後に、素子分離領域エッチング工程によって、素子分離領域１ｂａ、１ｂｂのエッチングを行い、トレンチ素子分離領域埋め込み工程によって、そのエッチング部１６ｂ、１６ｃに絶縁膜２０を埋め込む。 - 特許庁

This method also comprises a process of decomposing the time series of collected data in a wavelet area; a process of constructing an energy plot based on the time series decomposed in the wavelet area; and a process of analyzing the energy plot and determining a network abnormal event.例文帳に追加

該方法は更に、ウェーブレット領域において収集データの時系列を分解する工程、ウェーブレット領域において分解された時系列に基づいてエネルギ・プロットを構築する工程及びエネルギ・プロットを解析してネットワーク異常イベントの徴候を判定する工程も含む。 - 特許庁

In the method for producing the semiconductor structure, this method is provided with a process for controlling the SOI wafer having a plurality of active areas thereon, a process for forming the CMOS in the first active area on the wafer, and a process for forming the SiGe HBT in the other active area on the wafer.例文帳に追加

半導体構造を製造する方法は、上に複数の活性領域を有するＳＯＩ基板を調整する工程と、基板上の第１の活性領域にＣＭＯＳを形成する工程と、基板上の別の活性領域にＳｉＧｅ ＨＢＴを形成する工程とを包含する。 - 特許庁

The photoresist polymer containing a proper amount of silicon element has largely improved etching resistance and is not only suitable for a thin resist process and a process using a bilayer resist but also can extremely increase a contract ratio between a development area and a nondevelopment area.例文帳に追加

シリコン元素を適正量含んでいる本発明のフォトレジスト重合体はエッチング耐性が大きく向上し、シンレジスト工程（thin resist process）及び二分子層レジストを用いた工程に適するだけでなく、露光地域と非露光地域の間の対照比を大きく増加させることができる。 - 特許庁

The photoresist polymer containing an appropriate amount of a silicon element exhibits remarkably improved etching resistance, and therefore is not only suitable for a thin resist process and a process where a bilayer resist is used but also capable of remarkably increasing a contrast ratio between an exposed area and a non-exposed area.例文帳に追加

シリコン元素を適正量含んでいる本発明のフォトレジスト重合体は、エッチング耐性が大きく向上し、シンレジスト工程（thin resist process）及び二分子層レジストを用いた工程に適するだけでなく、露光地域と非露光地域の間の対照比を大きく増加させることができる。 - 特許庁

The display control method includes: an input reception process of receiving the input of the specification of the area in an image displayed at a display part; and a display control process of superimposing the area frame which indicates the area and has a regular first pattern on the image and displaying it at the display part.例文帳に追加

表示制御方法は、表示部に表示された画像における領域の指定の入力を受け付ける入力受付工程と、前記領域を示し、規則的な第一の模様を有する領域枠を、前記画像に重ねて前記表示部に表示させる表示制御工程とを備える。 - 特許庁

The method for manufacturing the ultrasonic probe for an ultrasonic treatment device includes a preparation process for preparing a rod of material 58 formed of titanium material, and an area reduction molding process for area reduction molding of at least one end side of the material 58 by use of an area reduction molding die 52.例文帳に追加

超音波処置装置用超音波プローブの製造方法は、チタン材で形成されている棒状の素材５８を準備する準備工程と、素材５８の少なくとも一端側を減面成形金型５２を用いて減面成形する減面成形工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

If a process space for programs is not held and there is not enough available area in a memory space when the programs are started, the management means 13 releases the process space for lower priority programs selected from not executing programs, and then creates an available area in the memory space to newly secure a process space in the available area.例文帳に追加

そして、管理手段１３、プログラム起動時、そのプログラムのプロセス空間が保持されておらず、かつメモリ空間上に十分な空き領域が無ければ、管理手段１３は、実行中でないプログラムの中で優先度の低いプログラムのプロセス空間を破棄してメモリ空間上に空き領域を作り、その空き領域にプロセス空間を新たに確保する。 - 特許庁

Then process areas A, B, C and contents of gradation processing of each process area are set to an original read by a scanner 20, an area processing section 212 transmits the setting contents in each process area to a CPU 131 at reading and the CPU 131 transfers programs required for the setting gradation processing to a gradation processing section 210.例文帳に追加

そして、スキャナ２０によって読み取る原稿に処理領域Ａ，Ｂ，Ｃと、処理領域毎の階調処理の内容を設定し、読み取り時にエリア処理部２１２が各処理領域における設定内容をＣＰＵ１３１に伝達し、設定された階調処理に必要なプログラムをＣＰＵ１３１が階調処理部２１０に転送する。 - 特許庁

An information recording medium 10 has an IC area 13 wherein process management information is stored for each prescribed process and a display area 11 for rewritably displaying the stored process management information as visible information and allows to be accessed through a communication means 80 by a rewritable device 70 for rewriting visible information displayed on the display area 11.例文帳に追加

情報記録媒体１０は、所定の工程毎に工程管理情報を記憶したＩＣ領域１３と、該記憶した工程管理情報を可視情報として書き換え可能に表示する表示領域１１とを有し、表示領域１１に表示された可視情報をリライトするリライタブル装置７０に通信手段８０を介してアクセス可能とする。 - 特許庁

The method of tagging the upper comprises: a laser treatment process of forming a tag adhering area by irradiating a protective layer at the prescribed position of the upper having the protective layer formed on its surface with laser beams; an adhesive applying process of applying an adhesive to the tag adhering area of the upper, and a tagging process of tagging the tag adhering area.例文帳に追加

本発明は、表面に保護層が形成されたアッパーの所定位置をレーザビームで前記保護層を照射しタグ貼着エリアを形成するレーザ処理工程と、前記アッパーの前記タグ貼着エリアに接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、前記タグ貼着エリアにタグを付けるタグ付け工程とを含むことを特徴とするアッパーへのタグ付け方法を提供する。 - 特許庁

Heat generated by the welding process is dissipated by the radiators 60 and 62 and gases generated during the welding process are vented through-holes in the outer capillary tubes 34 into the optical fiber splice area.例文帳に追加

溶接時に発生する熱は上記放熱器60,62により放熱され溶接時に発生するガスは外部細管34の穴から光ファイバ継目領域に排気される。 - 特許庁

The airtightness of an acting area 8 in a housing 12 is secured before a welding process by temporarily sealing an injection passage 2c before the welding process under vacuum.例文帳に追加

真空下で、溶接工程前に注入路２ｃが仮封止されることにより、溶接工程前に筐体１２内の作用領域８の気密性を確保することができる。 - 特許庁

Rank determination of the liquid crystal panel is performed based on a defect area of the irregular defect and average brightness detected in the irregular defect detection process (ST300) (rank determination process ST400).例文帳に追加

ムラ欠陥検出工程（ＳＴ３００）にて検出されたムラ欠陥の欠陥面積、平均輝度に基づいて液晶パネルをランク判定する（ランク判定工程ＳＴ４００）。 - 特許庁

To easily measure process dispersion in a chip with a small area, and to monitor process dispersion in the chip after packaging.例文帳に追加

半導体集積回路の微細化が進むにつれて半導体チップのプロセスばらつきが大きくなり、その結果、プロセス管理幅をはずれ、歩留まりが低下する課題が発生している。 - 特許庁

To provide an element for confirmation and an inspection method thereof for determining the end point of polishing process in the CMP process to form an embedded conductive layer within the recessed area of an insulation film.例文帳に追加

絶縁膜の凹部内に導電層を埋め込み形成するＣＭＰ工程おける研磨終点を判断できる確認用素子及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

A process to thin a film thickness of the field oxide film 2 is performed in an area including a position for the contact hole 8 formed after the process to form the field oxide film 2.例文帳に追加

フィールド酸化膜２を形成する工程の後に、コンタクトホール８が形成される位置を含む領域において、フィールド酸化膜２の膜厚を薄くする工程を行う。 - 特許庁

The same production method is used in every area in Japan to process by pounding boiled glutinous rice, however, the shaping method used following this process differs between Kanto Region and Kansai Region (except kagami-mochi: literally, mirror mochi, which is round mochi offered to deify at the New Year's Day). 例文帳に追加

もち米を搗くまではどの地方でも同じ製法をとるが、その後の形成方法は関東地方と関西地方で異なる（鏡餅を除く）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Drag your selection to the PartnerView box in the design area,between the Receive1 and Process End activities.The IDE provides visual clues that indicate where you can drop the selection.The Reply1 activity is added. 例文帳に追加

選択項目を、デザイン領域の、Receive1 と Process End アクティビティーの間にある「PartnerView」ボックスにドラッグします。 IDE には、選択項目をドロップできる場所を示す視覚的な手がかりが表示されます。 - NetBeans

To prevent a heat dissipation from an inner lead to a die pad area at the time of soldering process of the inner lead by providing a discontinuous part between the die pad area and the inner lead frame.例文帳に追加

ダイパットエリアとインナーリードとの間に不連続部を設けることで、インナーリードの半田付処理時におけるインナーリードからダイパットエリアへの熱放散を防止する。 - 特許庁

After that, the image of a previous frame to which the blurring process was applied, saved in a second area 602, is composited with the image saved in the first area 601.例文帳に追加

そして第２のエリア６０２に保存されている１フレーム前のブラー処理を施された画像群を、第１のエリア６０１に保存されている画像群に合成する。 - 特許庁

The internal space area 4a is kept as a cylindrical space, and a conventional positioning member for the stem centering (to the internal space area) in the assembly process is used without any change.例文帳に追加

内部空間域４ａは筒状空間のままなので、組立工程におけるステムセンタリング用の（当該内部空間域に対する）従来の位置決め部材をそのまま利用。 - 特許庁

In the process of this aging treatment, the stacked CSP 2 in the area 12 to be inspected is selected, and the flash memory 4 is inspected by the inspection circuit forming area 11.例文帳に追加

このエージング工程中に被検査領域１２内にあるスタックドＣＳＰ２が選択され、そのフラッシュメモリ４が検査回路形成領域１１によって検査される。 - 特許庁

In a cache 9, a data area access right definition table wherein whether a task (or interruptive process) being executed is allowed or disallowed to access a data area is defined.例文帳に追加

キャッシュ９内に、実行中のタスク（または割り込み処理）に対するデータ領域へのアクセスの許可、不許可を定義したデータ領域アクセス権定義テーブルを設ける。 - 特許庁

Consequently, the interface of writing area and non-writing area unstable on the electrophotographic process is prevented from being positioned on the boundary of scanning as much as possible.例文帳に追加

このように、垂直に交差することによって電子写真プロセス上不安定な描画部分と非描画部分の界面が走査境界に位置することを最小限に押さえる。 - 特許庁

Then an area specification part 53 performs a process of specifying a processing object area shown by an outline of specific line width in the normalized image.例文帳に追加

次いで、その正規化画像データの表わす正規化画像に、所定の線幅の輪郭線で示される処理対象領域を指定する処理を、領域指定部５３により行なう。 - 特許庁

Write area selection signal generation circuits 6A and 6B generate a signal selecting a write area in the process of data writing from a CPU write flag and read flag.例文帳に追加

書き込みエリア選択信号生成回路６Ａ，６ＢはＣＰＵの書き込み中フラグと、読み出し中フラグから、データ書き込み中の書き込みエリア選択信号を生成する。 - 特許庁

At that time, when adjustment of a wiring area is required in a wiring path assignment process of another signal group, the number of the signal lines and the wiring area are changed.例文帳に追加

このとき、他の信号群の配線経路割り当て処理で、配線領域の調整が必要となった場合は、信号本数と配線領域の変更を行う。 - 特許庁

A chip is prepared which has a plurality of inspection areas 301 divided by a chip area 202 and includes an element formed by a semiconductor process in an element area 203.例文帳に追加

チップ領域２０２で分割される複数の検査領域３０１を有し、素子領域２０３に半導体プロセスによって形成された素子を有するチップを準備する。 - 特許庁

A direction input area is defined on a site of a character (e.g., head, shoulder) and an action control process for the character is stored correspondingly to the direction input area.例文帳に追加

キャラクタの部位（例えば頭、肩など）上に指示入力領域を定義し、キャラクタの行動制御処理を指示入力領域と対応付けて記憶しておく。 - 特許庁