「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, the task 401B stands by translation of the PDL data when a memory full state occurs, releases the memory area occupied by the language/task that process the precedent job and then carries on the translation processing after an idle area is enlarged.例文帳に追加

これにより、インタプリタ・タスク４０１Ｂは、メモリフルが発生するとＰＤＬデータの翻訳を待機し、前ジョブを処理する言語・タスクが占有するメモリ領域を解放し、空き領域が拡大した後、翻訳処理を続行する。 - 特許庁

To equalize the entirely looking feeling of a respectively reproduced color picture though a color area is different by each device by executing conversion opposite to that executed to a second color area in a virtual color leading out process to third color data so as to generate second color data.例文帳に追加

大きさの異なる色域の間でカラーデータを変換する際に、色の欠落、画像全体の明度変動、階調潰れを防止し、表示画像と印刷画像で全体としての見た目が変わらないよう変換する。 - 特許庁

In addition, information on the defective replacement blocks contained in the user area and information on the defective blocks in the spare area to be used are stored in a new SDL entry when the overflow is encountered in partial formatting passed through a verification process.例文帳に追加

また、検証の過程を経る部分フォーマッティング時にオーバーフローが発生すると、ユーザー領域に含まれる交替欠陥ブロックの情報と使用するスペア領域の欠陥ブロックの情報を新たなＳＤＬエントリに格納する。 - 特許庁

Pads 3 (M1 to M5) located on each layer of the multilayered wiring layer where a semiconductor integrated circuit 2 is provided are reduced in area by areas a, b, c, and d excluding an uppermost layer M5, through a process of subtracting the areas a to d from the area of the uppermost layer M5, respectively.例文帳に追加

半導体集積回路２が設けられた半導体基板上の多層配線層の各層の複数のパッド３（Ｍ１〜Ｍ５）は最上層以外は、最上層のパッドＭ５に対して面積が削減（ａ〜ｄ）されている。 - 特許庁

Based on the ratio of the area with the first space to the area with the second space in the process for the step S32, the second locus, for which the size of the first locus is changed, is generated by designated normalization.例文帳に追加

ステップＳ３２の処理において、第１の大きさの領域に対する第２の大きさの領域の大きさの比率に基づいて、所定の正規化により、第１の軌跡の大きさを変更した第２の軌跡が生成される。 - 特許庁

At the same time when the first locus is displayed in the process for a step S33, the display is controlled so that the first locus is superimposed to display the second locus on the area with the second space overlaying on the area with the first space.例文帳に追加

ステップＳ３３の処理において、第１の軌跡の表示と同時に、第１の大きさの領域と重複する第２の大きさの領域に、第１の軌跡に重ねて、第２の軌跡を表示するように表示が制御される。 - 特許庁

The band-shaped projection 74 is formed to the height higher than the surface of the ITO film 83 in the display area 10b, so as to trap foreign substances generating during a rubbing process and to prevent foreign substances from entering other display area 10b.例文帳に追加

帯状の凸部７４は、表示領域１０ｂのＩＴＯ膜８３の表面より突出するように形成され、ラビング処理時に発生する異物をトラップすると共に、他の表示領域１０ｂへの異物の進入を防ぐ。 - 特許庁

In a boundary area coating process, a rotary spray head type coater 31 is arranged to be inclined to the body 12 toward the boundary area, a B- colored coating material is sprayed toward the body 12 only with the centrifugal force to form a boundary coating film surface PB1.例文帳に追加

次に境界エリア塗装工程では回転霧化頭型塗装機３１をボディ１２に対し境界エリアに向けて傾けて配置し、Ｂ色塗料を遠心力だけでボディ１２に向け噴霧し境界塗膜面ＰＢ1 を形成する。 - 特許庁

If the write-back fails owing to power interruption, after power restoration, the updated part stored in the file system area 203 is written back to the corresponding area of the nonvolatile memory 20 and the update process is resumed.例文帳に追加

この書き戻しが電源断により失敗したとき、電源回復後にファイルシステム領域２０３内に格納されている更新後の更新対象部分を不揮発性メモリ２０の当該領域に書き戻した後、更新処理を再開する。 - 特許庁

In an image forming process of forming toner images at a plurality of stations by receiving toner transferred from a photosensitive drum, the impedance of the transfer area is detected where the contact area between a transfer roller and a transfer belt is the largest.例文帳に追加

複数のステーションで感光ドラムからトナーの転写を受けてトナー像を形成する画像形成装プロセスで、転写領域のインピーダンス検知を、転写ローラーと転写ベルトの接触面積が最も大きいところで、行う。 - 特許庁

When a state in which the pixel area 608 is changed (step S15) or the pixel area is in contact with or moves outside the frame 606 is detected (step S16), a recording process by high speed continuous imaging is immediately started (step S18).例文帳に追加

そして、この画素領域６０８に変化が生じたか（ステップＳ１５）、或いは、枠６０６に接触したか若しくは越えたことを検出すると（ステップＳ１６）、直ちに高速連続撮影による記録処理を開始する（ステップＳ１８）。 - 特許庁

Then a mail text based upon mail data is displayed in the mail text display area at the display part and an image based upon the attached image file is displayed in the image display area through a process of a step S109.例文帳に追加

次に、ステップＳ１０９での処理により、表示部のメール本文表示領域にメールデータに基づくメール本文を表示させるとともに、画像表示領域に添付されていた画像ファイルに基づく画像を表示させる。 - 特許庁

A TFT constituting a data line driving circuit, a scanning line driving circuit or the like is formed in the peripheral area on the TFT array substrate in the same manufacturing process as the TFT, however, no light-shielding film is formed below the TFT in the peripheral area.例文帳に追加

このＴＦＴと同一製造プロセスでＴＦＴアレイ基板上の周辺領域に形成されるデータ線駆動回路、走査線駆動回路等を構成するＴＦＴについては、その下側に遮光膜を設けない。 - 特許庁

When creating a mask used for a photoengraving process (Fig(1)), a peripheral circuit area (1) effective for high-speed operation or low consumption is intensively formed so that a pattern becomes coarse (2A<B), distinguishably from a memory area (2) wherein the pattern is made fine (2A≥B).例文帳に追加

図１（イ）：写真製版に使用するマスクの作成時に、高速動作や低消費に効く周辺回路部領域（１）を意図的にパターンが疎（２Ａ＜Ｂ）となるように形成し、パターンを密（２Ａ≧Ｂ）にするメモリ部領域（２）と区別する。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate with many recesses comprises: a mask forming process of forming a mask having a first opening of many ring shapes on a substrate; a first etching process of etching the substrate through the first opening; an opening area enlargement process of extending the opening area of the opening and forming a second opening; and a second etching process of etching the substrate through the second opening.例文帳に追加

本発明の凹部付き基板の製造方法は、多数の凹部を有する凹部付き基板の製造方法であって、基板上に、多数のリング形状の第１の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、第１の開口部を介して基板をエッチングする第１のエッチング工程と、開口部の開口面積を拡げ、第２の開口部を形成する開口面積拡大工程と、第２の開口部を介して基板をエッチングする第２のエッチング工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photoelectric converter which is fabricated inexpensively by a convenient and simple process, and in which photoelectric conversion efficiency is enhanced while reducing surface recombination on the periphery of an electrode by ensuring the cross-sectional area of the electrode while reducing the occupation area thereof by reducing the width of the electrode depending on the structure and fabrication process of the electrode, and also to provide its fabricating process.例文帳に追加

電極の構造及びその製造方法によって、電極幅を低減して電極占有面積を縮小しながら、電極断面積を確保して、光電変換効率を向上させるとともに、電極周辺の表面再結合を低減することができ、さらに、簡便かつ容易な方法により安価に製造することができる光電変換装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device including a laser radiation process that radiates a laser beam of intensity distribution having the minimum intensity beam or the minimum intensity point optically modulated by an optical modulation element to the crystallized area of a non-single crystal semiconductor thin film to crystallize the same and a heating process that radiates light to the crystallized area by a flash lamp to heat the crystallized area.例文帳に追加

非単結晶半導体薄膜の結晶化領域に、光学変調素子で光変調されて極小光強度線もしくは極小光強度点を有する光強度分布のレーザ光を照射して結晶化するレーザ照射工程と、結晶化された領域にフラッシュランプによる光照射して結晶化された領域を加熱する加熱工程とを包含する半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the electro-optical device comprises a process of forming a plurality of pixel electrodes 27, a process of forming barrier ribs for commonly zoning the plurality of pixel electrodes 27, a process of forming a functional layer containing an organic conductive layer 61 with a glycol based solvent added in an area surrounded by the barrier ribs, and a process of irradiating light R on the organic conductive layer 61.例文帳に追加

複数の画素電極２７を形成する工程と、複数の画素電極２７を共通して区画する隔壁２５を形成する工程と、隔壁２５により囲まれた領域に、グリコール系の溶剤が添加された有機導電性層６１を含む機能層を形成する工程と、有機導電性層６１に光Ｒを照射する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

As a method for selectively heating the prescribed area of the semiconductor thin film in a heating treatment process to be executed for improving the electric characteristics of the semiconductor thin film produced at a low temperature, a process for injecting energy in the manner of pulse with the time width of ≤10 ms and a following energy injection stop process are executed as a process to be alternately repeated.例文帳に追加

低温で作製された半導体薄膜の電気的特性を向上する目的で実施する加熱処理工程を、半導体薄膜の所定の領域に対して、選択的に加熱をする手法として、時間幅を１０ミリ秒以下として、パルス的にエネルギーを投入する過程と、それに続く、エネルギー投入休止過程とを、交互に繰り返し行う工程として実施する。 - 特許庁

In constructing a system by processing of input information sent from the client side on a server side, a process to read data from the input information, a process to check the read data, and a process to store the checked data in a prescribed area are performed based on data items necessary for system construction.例文帳に追加

クライアント側から送られてきた入力情報をサーバ側にて処理してシステムを構築する際に、システムの構築に必要なデータ項目に基づいて、前記入力情報からのデータ取出し処理と、取り出したデータをチェックする処理と、チェックしたデータを所定の領域に格納する処理とを行う。 - 特許庁

In a mixing process 2, carbon black 3 having characteristics of 3 to 4 in pH value and 100 to 150 m^2/g in specific surface area and/or the fine powder 4 produced in a classifying process in a toner manufacturing process are added to the raw materials, by which the surface of wax is coated with the carbon black 3 and/or the fine powder 4.例文帳に追加

混合工程２において、ｐＨ値が３以上４以下、比表面積が１００〜１５０ｍ^2／ｇの特性を持つカーボンブラック３および／またはトナー製造工程における分級工程で生じた微紛４とを加えることで、該カーボンブラック３および／または微紛４によりワックスの表面が被覆される。 - 特許庁

In the cold extruding method having at least three stages, only when an area reduction of the cold extrusion process of a preceding stage is about two times or more larger than that of the cold extrusion process of a succeeding process, a heat treatment to remove the internal strain of a material to be worked is conducted between these cold extrusion processes.例文帳に追加

少なくとも３段の冷間押出し工程を有する冷間押出し方法において、前段の冷間押出し工程の減面率が次段の冷間押出し工程の減面率より約２倍以上大きいときにのみ、これら冷間押出し工程の間で、被加工材の内部ひずみを除去するための熱処理を行う。 - 特許庁

The method for disposing of the products has (a) a process for recovering unnecessary products to a recovering station installed in each prescribed local area, (b) a process for delivering the products to a disposal station from the recovering station and (c) a process for disposing of the products at the disposal station.例文帳に追加

（ａ）不要になった製品を、所定の地域ごとに設置された回収ステーションに回収する工程と、（ｂ）前記製品を前記回収ステーションから廃棄ステーションへ配送する工程と、（ｃ）前記製品を前記廃棄ステーションで廃棄処理する工程とを有することを特徴とする製品の廃棄方法。 - 特許庁

To efficiently cope with the increase/decrease of an amount of production by providing an apparatus for performing a scribing process and a breaking process on the same machine to cut a glass plate, the apparatus which can provide productivity similar to that of a special purpose machine even if used for a single process for scribing or breaking and requires only a small installation area.例文帳に追加

スクライブ工程とブレーク工程とを同一の機台上で行ってガラス板を割断する装置に関し、スクライブ又はブレークの単独工程に用いても専用機と同様な生産性が得られる、設置面積が小さい上記装置を提供することにより、生産量の増減に効率的に対応できるようにする。 - 特許庁

Further, preferably, as a process subsequent to the fatigue cracking periphery peening process, the method includes a fatigue cracking immediately-above peening process of providing plastic deformation to the surface of the steel plate 1 by performing peening of a portion immediately above the fatigue cracking 3 to increase a contact area of the cracking contact surface 3a and/or a contact pressure.例文帳に追加

さらに、好ましくは、疲労き裂周辺ピーニング工程の後工程として、疲労き裂３の直上をピーニングすることにより鋼板１の表面に塑性変形を付与し、き裂接触面３ａの接触面積及び／又は接触圧力を増加する疲労き裂直上ピーニング工程を有する。 - 特許庁

The apparatus further includes a second storage means adapted to sequentially perform a rotation process on the image data of segmented area, and store the rotated image data, a compression means adapted to compress the image data of each area read from the second storage unit, and a third storage means adapted to sequentially store the image data of each area obtained from the compression unit.例文帳に追加

そして、分割された各領域の画像データに順次回転処理をして記憶する第２記憶手段と、第２記憶手段から読み出される各領域の画像データを圧縮する圧縮手段と、圧縮手段から得られた各領域の画像データを順次記憶する第３記憶手段と、を備える。 - 特許庁

An image process part 105 inputs image data imaged by encoding exposure, open/close pattern information of a shutter, and run-out information, and an excluding area extraction part 107 extracts an image area of motion where the run-out information differs from the motion of an entire image from a plurality of image data, and cuts down the image of the image area.例文帳に追加

画像処理部105は、コード化露光によって撮像した画像データ、シャッタの開閉パターン情報、振れ情報を入力し、除外領域抽出部107は、振れ情報が画像全体の動きとは異なる動きの画像領域を、複数の画像データから抽出し、画像領域の画像を切り出す。 - 特許庁

The process executed by the system control unit 200 further includes a step of executing recording in the selected area (S1180) when recorded data is erased (YES in S1160) in the case recording is inhibited in the area (NO in S1130), and when another recordable area is selected (YES in S1170).例文帳に追加

システム制御部２００が実行する処理は、さらに、そのエリアに録画可能でない場合に（Ｓ１１３０にてＮＯ）、録画済みデータが消去された場合（Ｓ１１６０にてＹＥＳ）と、録画可能な他のエリアが選択された場合（Ｓ１１７０にてＹＥＳ）、選択されたエリアに録画を実行するステップ（Ｓ１１８０）とを含む。 - 特許庁

In this case, each partitioned area 19 is formed into a tapered shape where its cross-sectional area is reduced toward an opening 19a from an element substrate 11; and the hole transport film 22 and the organic EL film 23 are formed by arranging a predetermined functional liquid in the partitioned area 19 by a droplet jetting method and thereafter passing through a drying process.例文帳に追加

ここで、区画領域１９は、素子基板１１から開口部１９ａに向かって断面積を減じるテーパー形状をなしており、正孔輸送膜２２および有機ＥＬ膜２３は、液滴吐出法により所定の機能液を区画領域１９内に配置した後、乾燥工程を経て形成される。 - 特許庁

Display control means 100 and 300 extract the first discrimination information group prior to the second discrimination information group in the process of executing the display game, and extract the second discrimination information group in a target area, a limited area inside the vacant area after the extraction of the first discrimination information group.例文帳に追加

表示制御手段１００，３００は、表示遊技の実行過程で、第１識別情報群を第２識別情報群に優先して導出するとともに、第１識別情報群導出後の空き領域の中の限定された領域である目標領域に第２識別情報群を導出する。 - 特許庁

A primary opening area 11a where many through-holes are formed at a primary numerical aperture with high aperture ratio, and a secondary opening area 11b where many through-holes are formed at a secondary numerical aperture with an aperture ratio lower than the primary one are formed alternately in layers on a thin material (opening area forming process).例文帳に追加

薄肉の素材に、開口率の高い第一の開口率で多数の貫通孔が形成された第一開口部１１ａと、第一の開口率よりも開口率の低い第二の開口率で多数の貫通孔が形成された第二開口部１１ｂを交互に層状に形成する（開口形成工程）。 - 特許庁

A movement source computer 100 is composed of a movement source file storage area 120 for storing data to be moved to a movement destination computer 200; and a movement source watching process 110 for moving the file stored in the storage area 120 to a file movement work area 302 of a storage device 300.例文帳に追加

移動元コンピュータ１００は、移動先コンピュータ２００に移動させたいデータを格納する移動元ファイル格納領域１２０と、移動元ファイル格納領域１２０にあるファイルを記憶装置３００のファイル移動作業領域３０２に移動させる移動元監視プロセス１１０と、から構成されている。 - 特許庁

A control part 90 compares a printing rate bmn of each area Rm with a first reference printing rate C1 in every print sheet, and calculates a printing length Lmn in every area, using a difference between the first reference printing rate C1 and a printing rate bmn, as to the area of Bmn<C1, to execute a first process for delivering toner.例文帳に追加

制御部９０は、印刷１枚毎に各領域Ｒｍの印字率ｂｍｎと第１の基準印字率Ｃ１とを比較し、ｂｍｎ＜Ｃ１である領域についてＣ１とｂｍｎとの差を用いて領域毎の印字長さＬｍｎを算出してトナーの吐出を行う第１の工程を実行する。 - 特許庁

Message transfer control between the OSs is performed by executing a mapping state switching process of a message area in a physical address space in a multi OS environment from a message area of a logical partition address space of a message transmission side OS to a message area of a logical partition address space of a message reception side OS.例文帳に追加

マルチＯＳ環境において、物理アドレス空間のメッセージ領域をメッセージ送信側ＯＳの論理パーティションアドレス空間のメッセージ領域から、メッセージ受信側ＯＳの論理パーティションアドレス空間のメッセージ領域へマッピング状態を切り替える処理を実行してＯＳ間のメッセージ転送制御を行なう。 - 特許庁

A matching process part 3 sets a plurality of candidates for correlated areas for each correlating area, and specifies either of the plurality of candidates for correlated areas as a correlated area by calculating for each of the candidates a correlation value CB that indicates the degree of correlation with the correlating area, and comparing the correlation values CB.例文帳に追加

マッチング処理部３は、複数の相関先候補を相関元領域毎に設定し、相関元領域との相関の程度を示す相関値ＣＢを相関先候補毎に算出するとともに、この相関値ＣＢ同士を比較することによって、複数の相関先候補のいずれかを相関先領域として特定する。 - 特許庁

Character codes and font data are previously stored on a disk drive, and an initializing process (S2) copies and saves the character codes and a specific character group of high use frequency in a cache area secured in a RAM and also secures a general cache area where characters other than the specific character group are saved in the cache area.例文帳に追加

文字コードとフォントデータとをディスク装置に予め格納しておき、初期化処理（Ｓ２）でＲＡＭ上に確保されたキャッシュ領域に文字コードと使用頻度の高い所定文字群をコピーして保存し、前記所定文字群以外の文字を保存する一般キャッシュ領域をキャッシュ領域上に確保する。 - 特許庁

To provide an abrasive composition that can reduce the erosion, caused when a wiring concentrating area is polished excessively as compared with a non-wiring area to ≤30 nm in an area having a narrow wiring width, during the course of a CMP process performed on a semiconductor device, having a copper film, a barrier layer composed of a tantalum compound, and an SiO_2 insulating layer.例文帳に追加

銅膜、タンタル化合物のバリア層、ＳｉＯ_2の絶縁層を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、配線幅が細い領域において、配線密集領域が無配線領域比べて過剰に研磨され起こるエロージョンを３０ｎｍ以下にすることのできる研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

In a machining process executing mode on the return path, the difference of α and the contour data of each of layers is found and this difference is defined as a machining area on each of layers (steps S17-S22).例文帳に追加

復路での切削工程実行モードでは、αと、各層のコンターデータとの差分を求め、この差分を各層での切削領域とする（ステップＳ１７〜Ｓ２２）。 - 特許庁

Thus, in the plastic deformation of the sheet material 10 during the forming process, elongation in the severe bend forming area 13 can be reduced and the load required for forming can also be reduced.例文帳に追加

このため、成形工程における板材１０の塑性変形では、強曲げ加工部分１３の伸び量を少なくでき、加工に要する荷重を小さくできる。 - 特許庁

When the illustration is executed on the partially magnified screen, an operation process part 13b executes the same operation to the said generation on an area selected by the user in the main screen.例文帳に追加

操作処理部１３ｂは、部分拡大画面に対して作画操作を行うと、その操作と同じ操作を、主画面においてユーザに選択された領域に行う。 - 特許庁

To inexpensively and easily effect the surface treatment of a substrate even if the area of the same is especially large, in the treatment method of the conductive substrate utilizing a light excitation process.例文帳に追加

光励起プロセスを利用して導電性の基板を処理する方法において、安価にかつ特に大面積の基板であっても容易に表面処理を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device in which a bit line sense enable-signal can be generated to be immune from process changes, voltage fluctuations temperature fluctuations or the like without increasing layout area.例文帳に追加

レイアウト面積を増加させないで、工程、電圧、及び温度等の変化に鈍感にビットラインセンスイネーブル信号を発生しうる半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, which can form a pair of capacitors in one photolithographic process and can reduce the occupied area of the pair of capacitors on a chip.例文帳に追加

１回のフォトリソグラフィ工程で一対のキャパシタを形成でき、チップ上における一対のキャパシタの占有面積を小さくできる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion device which is kept high in pattern accuracy, improved in sensitivity, and manufactured at a low cost with high yield through a simple process by improving itself in rate of hole area.例文帳に追加

パターン精度や、歩留を確保しつつ、開口率を稼ぐことにより、感度をより向上させた光電変換装置を、簡単な工程で、低コストで実現する。 - 特許庁

To provide a non-volatile memory which occupies almost the same area as those of conventional DRAM cells and is realized by a relatively simple structure, and to provide a manufacturing process.例文帳に追加

従来のＤＲＡＭセルとほぼ同程度の占有面積で、かつ、比較的簡単な構造及び製造工程により実現することができる不揮発性メモリを提供すること。 - 特許庁