「Ra be」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A relation between a diameter Ra of the hole, a length L of the notch and an outermost diameter Rb (Ra<Rb) of a washer to be used together with a head of the screw or the screw is Ra+L>Rb.例文帳に追加

また、穴の径Ｒａ、切り欠きの長さＬ、および、ねじの頭またはねじとともに用いる座金の最外径Ｒｂ（Ｒａ＜Ｒｂ）の関係がRa+L>Rbである。 - 特許庁

A smoothing processing is executed to a substrate after molding so as to turn the surface roughness Ra of the slope part of the substrate to be 2.0 nm or less.例文帳に追加

基板の斜面部の表面粗さRaが2.0nm以下になるように成型後基板に平滑化処理を施す。 - 特許庁

If the desired PER characteristics can be acquired, communication is performed in a transmission rate of PHY(k+1, RA[j, k+1])(steps 302-306).例文帳に追加

所望のＰＥＲ特性が得られる場合には、伝送レートをPHY（k+1,RA[j,k+1]）にして通信を行う（ステップ３０２〜３０６）。 - 特許庁

The surface roughness of a heat roller is made to be ≥0.2 μm to ≤0.5 μm in Ra and that of a backup roller is made to be larger than 0.5 μm in Ra.例文帳に追加

ヒートローラ表面粗さをＲａで0.2μｍ以上0.5μｍ以下とし、バックアップローラ表面粗さをＲａで0.5μｍよりも大きくする。 - 特許庁

If the desired PER characteristics can be acquired, it is judged whether or not the characteristics can be acquired when the communication is performed in PHY(k+1, RA[J, k+1]).例文帳に追加

所望のＰＥＲ特性が得られる場合には、通信をPHY（k+1,RA[j,k+1]）にて行った場合に所望の特性が得られるかどうかを判断する。 - 特許庁

It is judged whether or not desired PER characteristics can be acquired when communication is continued by a transmission mode PHY(k, RA[j, k]) used last time, and if the desired PER characteristics cannot be acquired, communication is performed in a transmission rate of PHY(k-1, RA[j, k-1])(steps 300-303).例文帳に追加

前回用いられた伝送モードPHY（k,RA[j,k]）で通信を続けた場合に所望のＰＥＲ特性が得られるか否かを判断し、所望のＰＥＲ特性が得られない場合には、伝送レートをPHY（k-1,RA[j,k-1]）にして通信を行う（ステップ３００〜３０３）。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the first coating layer is specified to be lower than the surface roughness Ra of the substrate and the thickness of the second coating layer is specified to be ≤150 nm.例文帳に追加

第１の塗布層の表面粗さＲａを支持体の表面粗さＲａより小とし、第２の塗布層の厚さを１５０ｎｍ以下とする。 - 特許庁

The radius R is set to be smaller than the radius Ra, the radius Ra ranges from 3 mm to 20 mm, and the radius Rb is set to be 1.5Ra or more.例文帳に追加

各半径Ｒ、Ｒａ、及びＲｂが、Ｒａ＞Ｒで、Ｒａが３ｍｍ〜２０ｍｍの範囲で、Ｒｂ≧１．５Ｒａの各寸法関係に設定した。 - 特許庁

Surface roughness Ra to be a bonding interface is set to be 0.01 to 2 μm.例文帳に追加

接着界面となるべき面の表面粗さＲａは０．０１μｍ〜２μｍに設定されている。 - 特許庁

According to this constitution, the value of RA can be reduced and the resistance change rate (ΔR/R) can be enlarged.例文帳に追加

これにより、ＲＡを小さくし、且つ抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）を大きくすることが可能である。 - 特許庁

Therefore, a current Is flowing in the bit line 11b is Is=Vs(Rb-Ra)/(Ra×Rb). Where, a resistive value of the storage element Ia is assumed to Ra, a resistive value of the storage element Ib is assumed to be Rb.例文帳に追加

従って、ビット線１１ｂに流れる電流Ｉｓは、記憶素子１ａの抵抗値をＲａ、記憶素子１ｂの抵抗値をＲｂとすると、Ｉｓ＝Ｖｓ・（Ｒｂ−Ｒａ）／（Ｒａ・Ｒｂ）となる。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the electrolytic oxide ceramic coating is set to be ≤0.7 μm.例文帳に追加

電解酸化セラミックス被膜の表面粗さは、Ｒａ＝０．７μｍ以下に設定されている。 - 特許庁

The surface roughness of the magnetic recording medium is specified to be in the range of 0.1≤Ra≤2.0 nm.例文帳に追加

また、磁気記録媒体の表面粗さを、０．１ｎｍ≦Ｒａ≦２．０ｎｍの範囲内とする。 - 特許庁

An RA filter 9 is attached laterally to the front panel 3, and the RA filter 9 can be attached/detached to/from the front panel 3, by moving it in the horizontal direction.例文帳に追加

また、フロントパネル３に横向きでＲＡフィルタ９が取り付けられ、ＲＡフィルタ９は、水平方向に動かしてフロントパネル３に着脱が可能である。 - 特許庁

A necessary transfer time calculating part 121 in an arbiter 113 calculates time T2 to be required for transferring requested data, based on burst length, bus width, and a necessary transfer rate Ra.例文帳に追加

アービタ113内の必要転送時間計算部121は、バースト長と、バス幅と、必要転送レートRaとから、要求されたデータの転送に必要な時間T2を計算する。 - 特許庁

(1) The immersing nozzle 3 for continuously casting a steel has a smooth inside wall surface 4 which is to be brought into contact with a molten steel and has an average roughness (Ra) not larger than 7 μm.例文帳に追加

(1)溶鋼と接触するノズル内壁面4が、平均粗さ(Ra)が7μm以下の平滑な面である鋼の連続鋳造用浸漬ノズル3である。 - 特許庁

In the method, catalytic materials are one or more kinds selected from LiMBN_2 (M is shown as Ca, Sr, Ba, Ra, Be, and Mg), alkali metals, alkaline earth metals, their nitrides, and their boronitrides.例文帳に追加

触媒物質としてLiMBN_2（Mは、Ca、Sr、Ba、Ra、Be、Mgを示す。）と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、これらの窒化物およびこれらのホウ窒化物からなる群から選ばれた少なくとも1種を用いる。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a front face of the surface layer 11 is specified to be 0.5 μm or smaller.例文帳に追加

表面層１１の表面の表面粗さＲａが０．５μｍ以下に設定されている。 - 特許庁

To provide a method for operating an electric furnace by which desired arc resistance Ra can be maintained.例文帳に追加

所望のアーク抵抗Ｒａを維持することが可能な電気炉の操業方法を提供する。 - 特許庁

Means 2: surface roughness Ra of outer circumferential surface of a roller in the roller follower is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加

（手段２）ローラフォロアのローラ外周面の表面粗さＲａを０．４〜２．２μｍとする。 - 特許庁

Both the RA layer 14 and the RB layer 16 can be peeled from the adhesive layer 12.例文帳に追加

ＲＡ層１４およびＲＢ層１６は、いずれも、粘着層１２から剥離可能である。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the part not subjected to polishing treatment is set to be not less than 0.5 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工を施していない部分の表面粗さＲａを、０．５μｍ以上に設定する。 - 特許庁

The surface roughness of the peripheral surfaces of the rollers 30 and 31 are finished to be in the range of Ra=2.0 to 7.0.例文帳に追加

ニップローラ３０，３１の周面の表面粗さをＲａ＝２．０〜７．０の範囲に仕上げる。 - 特許庁

A photographer operates his work so that the reflection images Ra and Rb come into the standard indicators Ma and Mb, and the contrast of the reflection images Ra and Rb can be most clear.例文帳に追加

撮影者は基準指標Ｍａ、Ｍｂの中に反射像Ｒａ、Ｒｂが入り、反射像Ｒａ、Ｒｂのコントラストが最も明瞭になるように操作する。 - 特許庁

In this case, both the surface roughness Ra of a first principal surface of the GaN substrate and the surface roughness Ra of a second principal surface thereof can be set as not larger than 20 nm.例文帳に追加

ここで、ＧａＮ基板の第１の主面の表面粗さＲａを２０ｎｍ以下、第２の主面の表面粗さＲａを２０μｍ以下とすることができる。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the part subjected to polishing treatment is set to be within the range of 0.1 μm to 0.4 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工を施した部分の表面粗さＲａを、０．１μｍ〜０．４μｍの範囲に設定する。 - 特許庁

The RA filter 9 can be attached and detached to the suction opening cover 32 by opening the suction opening cover 32.例文帳に追加

ＲＡフィルタ９は、吸込口カバー３２を開くことで、吸込口カバー３２に対して着脱が可能である。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the varistor element is desirable to be 0.06 μm to 0.11 μm.例文帳に追加

さらに、バリスタ素体の表面粗さＲａが０．０６μｍ以上０．１１μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Kunbi-ra originally was a water god transformed into a god from crocodiles in the Ganges River and in Japan is considered to be in snake form. 例文帳に追加

クンビーラは元来、ガンジス川に棲むワニを神格化した水神で、日本では蛇型とされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The wrap film storage case includes a core member 1 to be inserted in a wrap film roll R in which a wrap film Ra is wound in a roll shape, and a casing 2 in which the wrap film roll R is stored therein and the wrap film Ra can be delivered therefrom.例文帳に追加

ラップフィルムＲａがロール状に巻回されたラップフィルムロールＲに挿入される芯部材１と、ラップフィルムロールＲを内部に収納してラップフィルムＲａを繰出し可能にするケーシング２とを備えている。 - 特許庁

Thus, only the angle in the radial direction Ra of the objective lens 2 can be adjusted in the conventional damper base, but even the positional adjustment in the radial direction Ra of the objective lens can be made possible in this damper base 4A.例文帳に追加

これにより、従来のダンパベースでは、対物レンズのラジアル方向Ｒａの角度しか調整できなかったのが、本発明のダンパベース４Ａでは、対物レンズのラジアル方向Ｒａの位置調整までも可能となる。 - 特許庁

By such a structure, RA can be suppressed to a small value and the rate of the change of the resistance value (ΔR/R) can be made high compared with a prior art.例文帳に追加

これにより、従来に比べてＲＡを小さく抑えつつ抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）を高くすることが可能となる。 - 特許庁

Accordingly, the wiring resistance value (Ra+Rb) can be adjusted by adjusting the length of the part 5a.例文帳に追加

従って、一部５ａの長さを調整することにより、配線抵抗値（Ｒａ＋Ｒｂ）を調整することができる。 - 特許庁

The centerline means roughness Ra of the image receiving sheet S is set to be 0.6 μm to 1.0 μm.例文帳に追加

受像シートＳの表面の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍ以上１．０μｍ以下とする。 - 特許庁

The dew point temperature of return air RA and the like may be detected instead of the dew point temperature of the supply air SA.例文帳に追加

なお、給気ＳＡの露点温度ではなく、還気ＲＡの露点温度などを検出するようにしてもよい。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the polished margin part 52 is set to be the range of 0.1 μm to 0.3 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工が施されたマージン部５２の表面粗さＲａを、０．１μｍ〜０．３μｍの範囲に設定する。 - 特許庁

It is preferable that the secondary side resistance Ra of the secondary coil 1ws be nearly equalized to the secondary reactance Xa.例文帳に追加

２次コイル１ｗｓの２次側抵抗値Ｒａを２次リアクタンスＸａにほぼ等しくすることが望ましい。 - 特許庁

As a result, the actual steering angle RA can be prevented from becoming greater than the target lower limit value TA2-x.例文帳に追加

その結果、実操向角ＲＡが目標下限値ＴＡ２−ｘよりも大きくなるのを防止できる。 - 特許庁

Part of the return air RA may be discharged to the outside world and only small amount of part of the outside air OA may be mixed with the supply air SA side.例文帳に追加

なお、還気ＲＡの一部を外界へ排出したり、外気ＯＡの一部を少しだけ給気ＳＡ側に混ぜるようにしたりしてもよい。 - 特許庁

The difference between the surface roughness Ra of a part of the resistance applying portion 33 to be in contact with the contact area and the surface roughness Ra of the contact area is from -0.2 μm to 1.1 μm.例文帳に追加

抵抗付与部３３のうちの上記接触領域に接触する部位の表面粗さＲａと、上記接触領域の表面粗さＲａとの差は−０．２μｍ〜１．１μｍとなっている。 - 特許庁

Pitting resistance can be further improved by making the surface roughness of the tenacious film Ra 0.30 μm or less.例文帳に追加

また、靱性皮膜の表面粗度をＲａ０．３０μm以下とすることにより、耐ピッチング性をより向上させることができる。 - 特許庁

In a plasma chemical vapor phase deposition(CVD) apparatus, the surface roughness (Ra) of a member in a vacuum tank is set to be ≤5.0 μm.例文帳に追加

プラズマ化学気相堆積（ＣＶＤ）装置において、真空槽内の部材の表面粗さ（Ｒa）を５．０μｍ以下とする。 - 特許庁

Means 1: the cam lobe comprises iron-based sintered material, and surface roughness Ra of its outer circumferential surface is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加

（手段１）鉄系焼結材からなるカムロブを用い、その外周面の表面粗さＲａを０．４〜２．２μｍとする。 - 特許庁

Next, the average roughness Ra of the center line on the surface of the raceway 1c is finished to be ≥0.35 μm by turning.例文帳に追加

次いで、旋削によって当該軌道部１ｃの表面の中心線平均粗さＲａを０．３５μｍ以上に仕上げる。 - 特許庁

Surface roughness of bonding face 11ba on the mandrel 11 adhering the multipolar magnet 14 shall be Ra 0.8 or more.例文帳に追加

多極磁石１４を接着する芯金１１の接着面１１ｂａの表面粗さをＲａ０．８以上とする。 - 特許庁