「SILICA GLASS」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The bubble-containing silica glass is manufactured by using non-crushed synthetic silica particles composed of silica glass having ≥1,300°C to ≤1,700°C softening point, ≥50 μm to ≤2000 μm average particle diameter and ≥0.9 average particle circularity as a main raw material and fusing the raw material by a flame melting method.例文帳に追加

軟化点が１３００℃以上１７００℃以下のシリカガラスからなり、平均粒子径が５０μｍ以上２０００μｍ以下、かつ、粒子の平均円形度が０．９以上である非破砕の合成シリカ粒子を主原料として、火炎溶融法により融着させて、気泡含有シリカガラスを製造する。 - 特許庁

The method for producing the porous glass includes: a step for separating phases into a silica-rich phase and a non-silica rich phase by carrying out phase separating processing by heating the borosilicate glass; and a step for dissolving out the silica-rich phase by etching with solution.例文帳に追加

前記ホウケイ酸塩ガラスを加熱による分相処理をしてシリカリッチ相と非シリカリッチ相に相分離させる工程、前記非シリカリッチ相を溶液によるエッチングにより溶出させる工程を有する多孔質ガラスの製造方法。 - 特許庁

In the manufacturing of a silica glass crucible having a straight body part and a bottom part, an inner layer is formed on the inner surface from an opening part to the straight body part of the crucible by depositing transparent silica glass by using a silica powder having particle diameters of 70-300 μm and an oxyhydrogen flame.例文帳に追加

直胴部及び底部を有するシリカガラスルツボの製造において、前記ルツボの開口部から直胴部にかけての内表面に、粒径７０〜３００μｍのシリカ粉と酸水素火炎とにより透明シリカガラスを堆積させて内層を形成する。 - 特許庁

To provide the production method of glass in which a surface degenerated layer in a phase separated borosilicate glass is selectively removed, and by which particularly in the case of a phase separated glass, a glass having a silica skeleton of a phase separated structure is produced.例文帳に追加

相分離ホウケイ酸塩ガラスにおける表面の変質層を選択的に取り除き、特に相分離ガラスの場合では、相分離構造のシリカ骨格を有するガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The synthetic quartz glass is manufactured by immersing the synthetic quartz glass in an aqueous solution containing porous silica, Al and F, then heating and clarifying the glass in such a manner that the Al and F contained in the synthetic quartz glass respectively attain ≥2 ≤9 ppm and ≥1 to <100 ppm.例文帳に追加

合成石英ガラスを、多孔質シリカをAlとＦとを含有する水溶液に浸漬した後、加熱して透明化して、合成石英ガラスに含まれるAl、Ｆがそれぞれ2ppm以上9ppm以下、1ppm以上100ppm未満となるように製造する。 - 特許庁

The colored fine particle-involved glass particle is preferably silica glass and further preferably flaky silica glass having 0.1-2 μm average thickness, 5-150 aspect ratio and ≤200 nm flatness or granular silica glass having 0.1-50 μm average particle size and 0.1-50 μm sphericity.例文帳に追加

前記着色微粒子内包ガラス粒子が、シリカガラスであることが好ましく、また、前記着色微粒子内包ガラス粒子が、平均厚さ０．１〜２μｍ、アスペクト比５〜１５０であり、かつ、平面度が２００ｎｍ以下のフレーク状であるもの、または、平均粒子径０．１〜５０ μｍ、真球度０．１〜５０μｍの粒状であるものが好ましい。 - 特許庁

This method for producing a synthesized silica glass optical member to be applied in irradiating laser beams of ultraviolet region is characterized by treating a porous silica glass body at high temperature in an atmosphere containing hydrogen or oxygen wherein the porous glass is obtained by flame hydrolysis of a glass forming material and, thereafter, heating and sintering the porous silica body to transparently vitrify it in an atmosphere containing fluorine.例文帳に追加

紫外線波長域のレーザー光を照射する際に使用される合成石英ガラス光学部材の製造方法であって、ガラス形成原料を火炎加水分解して形成した多孔質石英ガラス体を水素または酸素含有雰囲気下で高温処理した後、該多孔質石英ガラス体をフッ素含有雰囲気下で加熱，焼結して透明ガラス化することを特徴としている。 - 特許庁

To obtain a synthesized silica glass member much excellent in laser radiation resistance as an ultraviolet ray-transparent optical glass by improving transmittance of a fluoridated synthesized silica glass in ultraviolet region and suppressing excimer laser light adsorption and fluorescence emission due to the laser, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

フッ素添加合成石英ガラスの紫外線領域での透過率の改善を図り、エキシマレーザー光照射による吸収・蛍光発光の生成を抑え、紫外線透過用光学ガラスとして、特に耐レーザー光特性に優れた合成石英ガラス光学部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The invented silica glass crucible includes: an inner layer comprising silica whose OH group is 0.1 ppm or more and 30 ppm or less: an intermediate layer formed outside the inner layer, comprising silica whose OH group is 200 ppm or more and 500 ppm or less: and an outer layer formed outside the intermediate layer, comprising silica glass or inorganic material.例文帳に追加

本発明に係るシリカガラスルツボは、ＯＨ基が０．１ｐｐｍ以上３０ｐｐｍ以下のシリカからなる内層と、前記内層の外側に形成されＯＨ基が２００ｐｐｍ以上５００ｐｐｍ以下のシリカからなる中間層と、前記中間層の外側に形成されシリカガラスまたは無機材料からなる外層と、から構成されている。 - 特許庁

Since fabrication of the silica micropowder 5 by pulverizing the waste glass to an average particle diameter of ≤100 μm in the pulverizing step and the granulation in an atmosphere of helium, which more easily leaves than air, makes bubbles hardly remain in the silica micropowder 5, the use of the granulated silica powder can easily manufacture a silica glass crucible having a transparent layer on the inner surface side of the crucible.例文帳に追加

前記粉砕工程で、平均粒径が１００μｍ以下になるように廃ガラスを粉砕してシリカ微粉５を作成するとともに、空気よりも離脱しやすいヘリウムの雰囲気下で造粒を行うことにより、シリカ微粉５内に気泡が残留しにくくなるので、前記造粒シリカ粉を用いれば、ルツボの内面側に透明層を有するシリカガラスルツボを容易に製造することができる。 - 特許庁

To provide a silica container which has high dimensional precision, of which the inner wall consists of a thick transparent silica glass layer containing substantially no bubble, and has high durability even at high temperature, and is produced at a low cost, and a method for manufacturing the silica container and to provide silica powder for manufacturing the silica container and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

高寸法精度であり、内壁が実質的に気泡を含まない肉厚の透明シリカガラス層であるとともに、高温でも高い耐久性を有するシリカ容器を低コストで製造できるシリカ容器及びその製造方法、並びにそのようなシリカ容器を製造するためのシリカ粉及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing high purity colloidal silica comprises the first step to obtain silica aqueous solution by subjecting water glass to cation exchange treatment, the second step to add an acid and hydrogen peroxide to the obtained silica aqueous solution, which is then subjected to cation exchange treatment again and the third step to mix the silica aqueous solution obtained by the second step with ammono alkali, which is then formed into colloidal silica.例文帳に追加

水ガラスを陽イオン交換処理してシリカ水溶液を得る第１工程と、得られたシリカ水溶液に酸および過酸化水素を添加して再度陽イオン交換処理を行う第２工程と、前工程で得られたシリカ水溶液をアンモニア性アルカリと混合し、これをコロイダルシリカ化する第３工程と、を含む。 - 特許庁

The quality-evaluating method of abrasive material particles for polishing glass adds the abrasive material particles to a silica dissolved aqueous medium, adsorbs silica to the abrasive material particles, under the condition that the silica not be substantially polymerized in the aqueous medium, measures the concentration of the silica remaining in a mother liquid after filtration and an adsorption rate (η) of the silica with respect to the abrasive material particles.例文帳に追加

シリカ溶解水性媒体に、研磨材粒子を添加して、シリカがこの水性媒体中で実質的に重合しない条件下で研磨材粒子に吸着させて、濾過後に母液中に残存するシリカ濃度を測定し、シリカの研磨材粒子への吸着率（η）を測定し、このシリカ吸着率がある特定の値（η_０）、例えば５０％以下のものを選択・判別してガラス研磨用研磨材粒子に使用する。 - 特許庁

To provide a method for production of silica-titania glass improving its homogeneity by removing in one or three directions, the striae unacceptable in the optical system for EUV lithography in a silica-titania glass substrate, and also to provide the silica-titania glass having no stria in one or three directions.例文帳に追加

シリカ・チタニアガラス基板においてＥＵＶリソグラフィー用の光学系に許されない脈理を一方向あるいは三方向に除去し、シリカ・チタニアガラスの均質性を向上させることができるシリカ・チタニアガラスの製造方法及び一方向あるいは三方向に脈理の存在しないシリカ・チタニアガラスを提供する。 - 特許庁

In the silica glass member for ultraviolet optical use in which thermal aberration generated by ultraviolet irradiation is reduced, when ultraviolet light with the wavelength of ≤200 nm transmits through the silica glass member, the attenuation of light produced by the conversion into heat energy at the inside of the silica glass member is ≤1/1,000 per 1 cm.例文帳に追加

紫外線照射によって発生する熱収差を低減した紫外線光学用シリカガラス部材であって、波長２００ｎｍ以下の紫外光をシリカガラス部材中に透過させた時、シリカガラス部材内部で熱エネルギーに変換されて生じる光の減衰量が光路長１ｃｍあたり１／１０００以下であるようにした。 - 特許庁

The fluorine-added silica glass body is manufactured through (1) a process for obtaining a silica glass soot deposited body by depositing the silica glass soot and (2) a process for heating the deposited body in an atmosphere containing a 1st gas containing at least fluorine atoms and a 2nd gas having reducing property and containing no fluorine atoms nor hydrogen atoms.例文帳に追加

フッ素添加シリカガラス体は、(１)シリカガラススートを堆積させシリカガラススート堆積体を得る工程、及び(２)少なくともフッ素原子を含有する第一のガス、および還元性を有しフッ素原子ならびに水素原子を含有しない第二のガスを含む雰囲気中で堆積体を加熱する工程を経て製造される。 - 特許庁

To provide copper-containing silica glass which emits fluorescence having a peak within 520-580 nm wavelength by irradiation with the ultraviolet light having ≤400 nm wavelength and has excellent long-term stability even when used at a high output and to provide a method for manufacturing the copper-containing silica glass and a xenon flash lamp using the copper-containing silica glass.例文帳に追加

波長４００ｎｍ以下の紫外線の照射により、波長５２０ｎｍから５８０ｎｍにピークを持つ蛍光を発するガラスであり、高出力での使用においても長期安定性に優れた銅含有シリカガラス及びその製造方法、並びにそれを用いたキセノンフラッシュランプを提供することを目的とする。 - 特許庁

In the ultraviolet discharge lamp using the borosilicate glass for the glass tube, a silica as a first metal oxide film 7 and a metal oxide film as a second metal oxide film 8 having a charging tendency closer to mercury oxide (HgO) than to the silica are formed on the inner wall of the glass tube 1 of the borosilicate glass, in sequence from the side of the borosilicate glass.例文帳に追加

ガラス管に硼珪酸ガラスを用いた紫外線放電ランプであって、前記硼珪酸ガラスのガラス管１の内壁に、前記硼珪酸ガラス側から順に、第１の金属酸化物膜７としてシリカ、第２の金属酸化物膜８として帯電傾向がシリカよりも酸化水銀（ＨｇＯ）に近い金属酸化物膜が形成されている。 - 特許庁

The photosensitive insulating paste comprises at least a silica powder, a glass powder and a photosensitive organic component, wherein the glass powder contains a low melting glass, having softening point of 350-550°C and a high melting glass having softening point of 600-900°C, wherein a relative dielectric constant of the high melting glass is ≤8.例文帳に追加

少なくともシリカ粉末、ガラス粉末および感光性有機成分からなるペーストであって、ガラス粉末が、軟化点が３５０〜５５０℃の低融点ガラスと軟化点が６００〜９００℃の高融点ガラスを含有し、高融点ガラスの比誘電率が８以下であることを特徴とする感光性絶縁ペースト - 特許庁

LITHIA-ALUMINA-SILICA-CONTAINING GLASS COMPOSITION AND GLASS SUITABLE FOR CHEMICAL TEMPERING, AND ARTICLE MADE USING THE CHEMICALLY TEMPERED GLASS例文帳に追加

リチア−アルミナ−シリカを含むガラス組成物および化学的焼戻しに適したガラスならびに化学的に焼戻しされたガラスを用いて製造される物品 - 特許庁

The glass flake has on its surface a covering layer formed by covering the surface with one or more metal oxides selected from silica, alumina, zirconia, zinc oxide and cerium oxide in order to prevent the elution of a glass component from the glass flake.例文帳に追加

表面に、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化セリウムから選ばれた１種または２種以上の金属酸化物によるガラス成分溶出防止被覆を形成したことを特徴とするガラスフレークである。 - 特許庁

This is a glass for discharge container of an excimer lamp using a wavelength of 200 nm or less and is an excimer lamp glass made of fluorine-doped silica glass.例文帳に追加

２００ｎｍ以下の波長を用いたエキシマランプの放電容器用のガラスであって、フッ素ドープシリカガラスからなることを特徴とするエキシマランプ用ガラス。 - 特許庁

To provide a glass spacer for an electron beam excited display element from a no-alkali glass having an equivalent coefficient of linear expansion as a soda lime silica glass.例文帳に追加

線膨張係数がソーダライムシリカガラスの線膨張係数と同等の無アルカリガラス製電子線励起ディスプレイ素子用ガラススペーサを提供する。 - 特許庁

The cable for cabling 1 has a compound conductor 2 covered with a mica glass tape insulating layer 3, and the mica glass tape insulating layer 3 is covered with a silica glass insulating layer 4.例文帳に追加

配線用ケーブル１は、複合導体２がマイカガラステープ絶縁層３により覆われ、マイカガラステープ絶縁層３がシリカガラス絶縁層４により覆われているものである。 - 特許庁

To provide glass having preferable properties as substrate glass for a plasma display (PDP) without drastically changing the operation conditions for a practical furnace and sheet production conditions in a float method from those for conventional soda-lime silica glass.例文帳に追加

フロート法における実窯の操業条件ならびに製板条件を一般的なソーダ石灰シリカ系ガラスと大きく変えずに、かつプラズマディスプレイ (ＰＤＰ) 用基板ガラスとして好適な性質を持つガラスが求められている。 - 特許庁

To provide a method of producing synthetic quartz glass powder that can obtain high-purity synthetic quartz glass powder by starting with inexpensive water glass as a raw material even when the starting silica is simply washed.例文帳に追加

低コストな水ガラスを原料とし、簡便な原料シリカの洗浄であっても高純度の合成石英ガラス粉が得られる合成石英ガラス粉末の製造方法を提供する。 - 特許庁

The silica glass is then cooled from the target fictive temperature to a temperature below the strain point of the glass at a cooling rate that is greater than the relaxation rate of the glass at the target fictive temperature.例文帳に追加

次いで、シリカガラスを目的の仮想温度から、目的の仮想温度でのガラスの緩和速度よりも速い冷却速度でガラスの歪み点未満の温度まで冷却する。 - 特許庁

To provide a production method of a porous glass in which treatment time can be shortened in selective etching step of a phase separated glass with an acid solution, and remaining and deposition of gel silica in the pores of an obtained porous glass are suppressed.例文帳に追加

分相ガラスの酸溶液による選択エッチングの工程で、処理時間が短縮でき、且つ多孔質の細孔中にゲル状シリカの残留、堆積が抑制された多孔質ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

As a result, the quartz glass crucible 111 is obtained which is made of quartz glass 121 as a whole and substantially has no crystal phases 151 of silica in the outer layer part 142 of the quartz glass crucible 111.例文帳に追加

この結果、前記石英ガラスルツボ１１１の全体が石英ガラス１２１からなり、前記石英ガラスルツボ１１１の外層部１４２にシリカの結晶相１５１が実質的に存在しない石英ガラスルツボ１１１が得られる。 - 特許庁

To provide a method of drawing a glass tube by which the inside of the glass tube to be drawn is kept as a closed space in the continuous drawing of the silica glass tube.例文帳に追加

シリカガラス管を連続延伸する際に、延伸するシリカガラス管の内側を閉塞空間として保つことができるガラス管の延伸方法を提供する。 - 特許庁

The clad layers are composed of a boro-phospho-silicate glass (BPSG) film or a boro-silicate glass (BSG) film and the core layer is made of silica glass based material in which germanium density is set equal to or greater than 20wt%.例文帳に追加

クラッド層をボロフォスフォシリケートガラス（ＢＰＳＧ）膜又はボロシリケートガラス（ＢＳＧ）膜によって構成するとともに、コア層をゲルマニウム濃度を２０ｗｔ％以上としたシリカガラス系材料によって構成する。 - 特許庁

To solve the problem that in the conventional molding method of a silica glass, a blister is generated in the glass when molding a TiO_2-SiO_2 glass to lower the yield.例文帳に追加

従来のシリカガラスの成型方法では、ＴｉＯ_２−ＳｉＯ_２ガラスを成型する際にガラス内で泡が生じ、歩留まりを低下するという問題を有する。 - 特許庁

Then, the silica gel 13a degraded in the lower part of the glass cylinder 2 is not intermixed with the silica gel 13b not degraded in the upper part thereof, and the silica gel 13a in the lower part thereof is preferentially discharged from a moisture absorbent outlet 4a.例文帳に追加

そして、ガラス筒２内の下部に位置する劣化しているシリカゲル１３ａと上部に位置する劣化していないシリカゲル１３ｂとが混在することなく、下部に位置するシリカゲル１３ａが優先的に吸湿剤排出口４ａから排出される。 - 特許庁

The photocatalytic fiber is composed of a silica material such as glass and manufactured by depositing a silica fine particle 2 having many fine projecting and recessed parts on the outer circumferential surface of a clad part 1B of an optical fiber 1 and supporting a proper photocatalytic fine particle 3 on the surface of the silica fine particle.例文帳に追加

シリカ、ガラス等のシリカ材から成り、表面に多数の微細な凹凸部を有するシリカ微粒子２を光ファイバ１のクラッド部１Ｂの外周面に付着させ、そのシリカ微粒子のその表面に、適宜の光触媒微粒子３を担持させてなる光触媒ファイバである。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing high purity silica powder capable of easily producing high purity and easily handleable silica powder by producing a porous quartz glass body and, at the same time, disposing of exhaust gas generated, and to provide high purity silica powder.例文帳に追加

多孔質石英ガラス体を製造するとともに、同時に生成する排ガスを処理して、高純度で取り扱いの容易なシリカ粉を容易に製造することのできる高純度シリカ粉の製造方法及び装置、並びに高純度のシリカ粉を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the glass substrate 3 is immersed into a gelled silica 1, thereupon the gelled silica 1 bulges spherically and selectively at the irradiated area of the coating film 2 and adheres to the coating film 2.例文帳に追加

その後、ガラス基板３をゲル状シリカ１に浸漬すると、被膜２の照射領域４にゲル状シリカ１が選択的に半球面上に盛り上がって付着する。 - 特許庁

In this invention, slurry of silica powders and dopant powders in a liquid carrier is prepared and the inside surface of a silica glass starter tube is coated with the slurry.例文帳に追加

本発明では、液体キャリア内にシリカ粉末とドーパント粉末を入れたスラリーが準備され、開始シリカ・ガラス・チューブの内表面にこのスラリーが被覆される。 - 特許庁

The titania-silica glass comprises 8-10 wt.% of titania and 90-92 wt.% of silica, wherein concentration of the trivalent titanium ion is 10-60 wt. ppm.例文帳に追加

チタニア８〜１０重量％およびシリカ９０〜９２重量％からなり、３価のチタンイオン濃度が１０〜６０重量ｐｐｍである構成を有するチタニア−シリカガラスを用いる。 - 特許庁

The method for forming a porous silica phase comprises immersing a base material such as a glass substrate or a test tube in the above coating liquid so as to form a porous silica phase on a predetermined base material.例文帳に追加

多孔質シリカ相の形成方法は、上記塗布液中にガラス基板または試験管等の基材を浸漬させることにより、所定の基材に多孔質シリカ相を形成させる。 - 特許庁

To provide a device for manufacturing quartz glass which can prevent generation of static electricity in raw material silica powder and further can supply the raw material silica powder without contamination of impurities.例文帳に追加

原料シリカ粉における静電気の発生を防止し、かつ、不純物が混入することなく、原料シリカ粉を供給することができる石英ガラス製造装置を提供する。 - 特許庁

An ultraviolet reflecting film (5) containing silica particles is formed on the outer face of a discharge container (2) made of silica glass, and electrodes (3) are arranged on the outside of this ultraviolet reflecting film (5).例文帳に追加

シリカガラスよりなる放電容器（２）の外面には、シリカ粒子を含む紫外線反射膜（５）が形成されており、この紫外線反射膜（５）の外側に、電極（３）が配置されたことを特徴とする。 - 特許庁

The fiber matrix is at least one selected from the group consisting of a glass fiber, a carbon fiber, a silicon carbide fiber, a silica fiber, an alumina fiber and a silica-alumina fiber.例文帳に追加

ファイバーマトリックスはガラス繊維、炭素繊維、炭化珪素繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維およびシリカ・アルミナ繊維からなる群より選ばれる少なくとも１つである。 - 特許庁

The method of preparing the array object of the silica particulates comprises bringing colloidal silica into contact with a substrate composed of glass whose surface is subjected to molecular modification by a compound having a plurality of OH groups bonded to a phosphorus atom.例文帳に追加

燐原子に結合した複数のＯＨ基を有する化合物によってその表面を分子修飾されたガラスからなる基体に、コロイダルシリカを接触させることを特徴とするシリカ微粒子配列物の作製方法。 - 特許庁

The laser-resistant material is characterized in that a fluoride component comprising a fluoride powder is solid solubilized in amorphous silica glass comprising a silica powder to form a uniform solid solution.例文帳に追加

本発明に係る耐レーザ性材料は、シリカ粉からなるアモルファス状のシリカガラスに、フッ化物粉からなるフッ化物成分が均質に固溶化されていることを特徴とする。 - 特許庁

The optical fiber 50 comprises a core made of pure silica and a clad made of silica glass into which F element is added, wherein a zero dispersion wavelength of ground mode is less than 1.3 μm.例文帳に追加

光ファイバ５０は、コアが純シリカからなり、クラッドがＦ元素添加のシリカガラスからなり、基底モードの零分散波長が１.３μｍより短い。 - 特許庁