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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Stress strainの意味・解説 > Stress strainに関連した英語例文

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Stress strainの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 525



例文

This elastic woven or knitted fabric having 150-600 N/5 cm stress at 10% elongation in at least either one of directions of warp and weft and ≤1% residual strain R after repeated deformation in the direction is obtained by heat-treating a woven or a knitted fabric comprising elastic yarns composed of two or more kinds of polyetherester-based elastomers different in melting point and arranged therein.例文帳に追加

少なくとも経緯いずれか一方向の10%伸長時の応力が150N/5cm〜600N/5cmで、且つ当該方向における繰り返し変形後の残留歪みRが1%以下である弾性織編物を融点の異なる2種以上のポリエーテルエステル系エラストマーからなる弾性糸を配した織編物を熱処理することにより得る。 - 特許庁

To solve the problem of the conventional joint for power cable that generation of strain stress over a long period of time occurs, since a cable insulator is restricted in conventional power cable connection which prevents shrink back by fitting a metal spacer on a conductor joint, causing this metal spacer to have claws, and engaging them with a groove formed on the cable insulator.例文帳に追加

導体接続部上に金属スペーサを装着し、この金属スペーサにツメを設け、ケーブル絶縁体上に形成した溝に嵌合させることでシュリンクバックを防止する従来の電力ケーブル接続において、ケーブル絶縁体を拘束しているため長期間に亘りひずみ応力が発生するという問題点を解決する。 - 特許庁

To provide a high-quality nitride semiconductor layer as well as a gallium nitride layer, a semiconductor element and a semiconductor device, which are capable of manufacturing a high performance device by the nitride semiconductor layer, and to provide the manufacturing method of them by reducing the occurrence of strain and stress due to the difference of thermal expansion coefficient between the nitride semiconductor and a substrate.例文帳に追加

窒化物半導体と基板の熱膨張係数の差に由来する歪と応力の発生を低減し、高品質の窒化物半導体層並びに前記窒化物半導体層により高性能なデバイスを作製することが可能な窒化ガリウム層、半導体素子及び半導体デバイスおよびそれらの作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a structure for mounting a front part to a frame body which is capable of mounting front part at frame body by simple structure in a stable state free of shaking with sure fixing power and hardly transmits the stress and strain of the frame body to the front part.例文帳に追加

フロント部を簡単な構造で取り付けることができ、また、フロント部をフレーム本体にガタ付きのない安定した状態で確実な固定力をもって取り付けることができ、更には、フレーム本体の応力や歪みがフロント部に伝わり難いフレーム本体に対するフロント部の取り付け構造を提供すること。 - 特許庁

例文

The laminated film made of a polyolefinic resin is constituted by providing a surface layer on at least the single surface of a base material layer and the 10% strain/stress relaxation ratio thereof is 30% or more and the tensile elastic modulus thereof is 100-700 MPa and the bending elastic modulus of the resin composition constituting the surface layer is higher than that of the resin composition constituting the base material layer.例文帳に追加

基材層の少なくとも片面に表面層を有するポリオレフィン系樹脂製積層フィルムであって、フィルムの10%歪み応力緩和率が30%以上、引張弾性率が100〜700MPa、かつ表面層を構成する樹脂組成物の曲げ弾性率が基材層を構成する樹脂組成物の曲げ弾性率より高い積層フィルム。 - 特許庁


例文

In a 2nd computation stage S40, finite element analysis is taken by using the stress-strain matrix computed in the 1st computation stage to compute a target function and the sensitivity of the target function and in a convergence decision stage S50, the relation between the target function computed by the finite element analysis and a predetermined threshold is estimated to decide convergence.例文帳に追加

第2の演算工程S40では、第1の演算工程で算出された応力−歪マトリックスを用いて有限要素解析を行い、目的関数および目的関数の感度計算を行い、収束判定工程S50では、有限要素解析により算出された目的関数と、あらかじめ定められた閾値との関係を評価して収束判定する。 - 特許庁

In the heat sensor 1 provided with the heat sensing part 11 sensing heat in a surveillance area, a control part issuing an alarm in response to a sensing state by the heat sensing part 11, and the casing 81 protecting a control means, the heat sensing part 11 and the casing 81 are fixed via a stress absorbing means for absorbing strain of the heat sensing part 11.例文帳に追加

監視領域における熱を感知する感熱部11と、感熱部11による感知状態に応じて警報を行う制御部と、制御手段を保護する筐体81とを備えた熱感知器1において、感熱部11と筐体81とを、感熱部11の歪みを吸収するための応力吸収手段を介して固定した。 - 特許庁

The membrane gas sensor 1 is constituted so as to prevent the occurrence of the microcracks by interposing an intermediate buffer layer 16 functioning in the same way as a strain superlattice between the electric insulating layer 14 and the sensing layer 15b and absorbing the stress change of the electric insulating layer 14 and the sensing layer 15b caused by a thermal shock by the intermediate buffer layer 16.例文帳に追加

電気絶縁層14と感知層15bとの間に歪超格子と同様に機能する中間バッファ層16を設け、この中間バッファ層16により熱衝撃に起因する電気絶縁層14とガス感知層15bとの応力変化を吸収し、その結果マイクロクラックの発生を抑止するような薄膜ガスセンサ1とした。 - 特許庁

This polyester yarn is characterized in that the yarn is a multifilament yarn substantially composed of polytrimethylene terephthalate and has ≥3 cN/dtex strength, ≤25 cN/dtex Young's modulus and ≤10 cN/dtex minimum value of differential Young's modulus at 3-10% elongation in the stress-strain curve and ≥90% elastic recovery ratio after elongated to 10%.例文帳に追加

実質的にポリトリメチレンテレフタレートからなるマルチフィラメント糸であって、ストレス−ストレイン曲線での強度が3cN/dtex以上、ヤング率が25cN/dtex以下であるとともに、伸度3〜10%での微分ヤング率の最小値が10cN/dtex以下を示し、10%伸長後の弾性回復率が90%以上であることを特徴とするポリエステル糸。 - 特許庁

例文

The glass substrate for a display has an approximately rectangular plane shape with the short side300 mm, the long side ≤3,000 mm, and the thickness ≥0.3 mm and ≤6 mm, and the deviatoric stress in the substrate plane due to residual strain in the glass substrate measured in the thickness direction is ≤1 MPa at all positions in the substrate.例文帳に追加

短辺が300mm以上、長辺が3000mm以下の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下のガラス基板であって、ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板内のすべての位置で1MPa以下であるディスプレイ用ガラス基板。 - 特許庁

例文

Since the thin films 122a and 124a containing nitrogen are formed at the light shielding film 120, the stress generated by the thermal strain at the time of the annealing treatment is absorbed by the thin films 122a and 124a containing nitrogen and therefore the generation of the cracks in the insulating film and semiconductor layer with the light shielding film 120 as the initiation point can be prevented.例文帳に追加

遮光膜120に窒素を含有する薄膜122a,124aを形成したので、アニール処理の際の熱歪みによって発生する応力が窒素を含有する薄膜122a,124aにて吸収されるので、遮光膜120を起点とする絶縁膜や半導体層に対するクラックの発生を防止することができる。 - 特許庁

When the plurality of kinds of metal plates are press-worked with one kind of the press-working die, prestrain is imparted to one or more kinds of the metal plates of the plurality of kinds of metal plates so that yield stress when reaching strain anticipated to be imparted by a predetermined press-working is equalized in the plurality of kinds of metal plates.例文帳に追加

一種類のプレス加工用金型で、複数の種類の金属板をプレス加工することがある場合に、予定しているプレス加工により、付与されると予想される歪に達した際の、降伏応力が、前記複数の種類の金属板で、等しくなるように、前記複数の種類の金属板のうちの1種類以上の金属板に、予歪を付与する。 - 特許庁

The optical member 40 is equipped with a lens part 40a which functions as a lens, a frame part 40b which is fitted with a support 1 supporting the optical member 40, and a stress relief 40c which connects the frame part 40b to lens part 40a and prevents strain generated at the frame part 40b from being transmitted to the lens part 40a.例文帳に追加

光学部材40は、レンズとして機能するレンズ部40aと、光学部材40を支持する支持体1が取り付けられる枠部40bと、枠部40bとレンズ部40aとを接続するとともに、枠部40bで生じた歪みがレンズ部40aに伝達されるのを阻止するストレスリリーフ40cとを備えている。 - 特許庁

An equation with a non-linear term derived from a strain energy change generated from the displacement of the pontoon 17 caused by a contraction in the radial direction of a deck 16 of the floating roof 15 added to this non-linear differential equation is derived, and this non-linear ordinary differential equation calculates stress exerted to the pontoon 17 so as to cause the ovalized deformation by performing a response analysis.例文帳に追加

この非線形常微分方程式に、浮き屋根15のデッキ16の半径方向の縮みによるポンツーン17の変位によって生じる歪エネルギ変化から導かれる非線形項を付加した方程式を導出し、応答解析を行うことで、ポンツーン17に対して楕円形に変形させるように作用する応力を算出させる。 - 特許庁

The information processor prepares the roughly visualized model used in a roughly visualized molecular dynamics simulation (step S108), it calculates equilibration and a stress-strain curve of the roughly visualized model by the roughly visualized molecular dynamics simulation (steps S110 and S112), and it calculates adherence energy (step S114).例文帳に追加

情報処理装置はこれらの値から粗視化分子動力学シミュレーションに用いる粗視化モデルを作成し(ステップS108)、粗視化分子動力学シミュレーションにより粗視化モデルの平衡化、および応力−ひずみ曲線の算出を行い(ステップS110、S112)、密着エネルギーを算出する(ステップS114)。 - 特許庁

In addition, in the manufacture method of this invention, a crystallized glass body of a desired profile is made in contact with a molten salt adjusted near the strain point temperature of the crystallized glass, and an alkali metal ion of R_2O in a glassy phase of the side of the free surface 1a is substituted by an alkali metal ion having a larger ionic radius than it to form the compressive stress lamina 2.例文帳に追加

また、本発明の製造方法は、結晶化ガラスの歪点温度付近に調整した溶融塩に、所望の形状の結晶化ガラス体を接触させ、自由表面1a側のガラス相中のR_2Oのアルカリ金属イオンをそれよりもイオン半径が大きいアルカリ金属イオンと置換し、圧縮応力層2を形成する。 - 特許庁

To provide a crystal oscillator in which a problem is solved, the problem wherein adverse effects is caused on oscillation characteristics such as a change in its oscillated frequency and a change over time in its frequency due to direct transmission of strain and stress from a support of a circular piezoelectric substrate to a oscillating body from a frame through a support part.例文帳に追加

従来における圧電振動子では、圧電板の形状を円形とした場合、最も安定した圧電板自体の支持位置は、円形圧電板を上下に二等分する線上に設けられが、この二等分する線上には振動体と枠体とを繋ぐ支持部があり、支持体からの歪みや応力が枠体から支持部を介して振動体に直接伝わり、発振周波数変化や周波数の経年変化などの振動特性へ悪影響が生じる。 - 特許庁

This glass substrate is an approximately rectangular plane having300 mm short side, ≤3,000 mm long side and ≥0.3 mm and ≤6 mm thickness and has ≤1 Mpa deviation stress in the substrate plane, due to residual strain in the glass substrate, in all positions in the substrate and measured in the thickness direction.例文帳に追加

短辺が300mm以上、長辺が3000mm以下の略矩形の面形状であり、かつ板厚が0.3mm以上、6mm以下のガラス基板であって、ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板内のすべての位置で1MPa以下であるディスプレイ用ガラス基板。 - 特許庁

Since frictional force between the scale 11 and the one member 28 can be reduced even if they exhibit different expansion/contraction upon variation of the ambient temperature, the strain based on thermal stress can be reduced, and since an error in the coefficient of temperature correction can be reduced, a sufficient measurement accuracy can be ensured even in case of high accuracy measurement.例文帳に追加

これにより、環境温度の変化によりスケール11と一方の部材28とが異なる伸縮量を示しても、その間に生じる摩擦力を低減できるので、熱応力に基づく歪みを低減できるとともに温度補正係数の誤差を低減できるから、高精度な測定でも十分な測定精度を確保できる。 - 特許庁

To provide an electronic component device comprising electronic components which are mounted via bumps on a wiring board, the electronic component device enhancing the reliability of connection between the electronic component and the wiring board by preventing the occurrence of stress and strain in each bump by virtue of its simple structure and also allowing the miniaturization and slimming of electronic instruments.例文帳に追加

電子部品がバンプを介して配線基板に実装されてなる電子部品装置であって、簡易な構造で前記バンプに応力及びひずみが発生することを防止して、電子部品と配線基板との接続信頼性の向上を図ると共に、電子機器の小型化・薄型化に対応することができる電子部品装置を提供する。 - 特許庁

To increase the rigidity by creating a dilatancy due to shear deformation to the waste tire thereby forming a stress-strain type non-linear loop in a cylindrical laminated body and thus a subgrade making method by waste tires filled with particulate matter capable of forming hard pile-shaped improved bodies and of adaptively following up any deformation in the subgrade in addition to the creation of the subgrade.例文帳に追加

廃タイヤにせん断変形によるダイレイタンシーを生じさせて剛性の増加を図ると共に筒型積層体に応力—歪の非線形ループを形成させ、硬い杭状改良体の形成と地盤変形に順応的追随ができる粒状体の充填廃タイヤによる地盤造成方法と造成された地盤を提供する。 - 特許庁

Medicinal composition for promoting recovery from stress loading containing matsutake mushroom, a hot water extract of the matsutake mushroom or its dried material or an alkali solution extract of the matsutake mushroom or its dried material together with a pharmaceutically acceptable carrier, and a new matsutake mushroom strain FERM BP-7304, are disclosed.例文帳に追加

マツタケ、マツタケの熱水抽出液若しくはその乾燥体、あるいは、マツタケのアルカリ溶液抽出液若しくはその乾燥体と、薬剤学的に許容することのできる担体とを含有する、ストレス負荷に対する回復促進用医薬組成物、及び新規のマツタケFERM BP−7304株を開示する。 - 特許庁

A rein-coated layer is formed by a powder coating requiring a completely curing time of ≤3 min in a temperature range of 180-220°C as at least a part of anti-corrosive coating on a surface of a steel pipe with a positive gradient of a nominal stress-nominal strain curve, a uniform elongation of5% and a yield ratio of80%.例文帳に追加

公称応力−公称歪み曲線の勾配が正であり且つ一様伸びが5%以上、降伏比が80%以下の鋼管の表面に、防食被覆の少なくとも一部として、180〜220℃の温度範囲で完全硬化するまでの時間が3分以下である粉体塗料による樹脂被覆層を有する。 - 特許庁

The biting of silicon is suppressed, the generated stress is easily liberated, the residual amount of internal strain in silicon is reduced, and the photoelectric conversion efficiency of the polycrystalline silicon is improved by making the inner surface of the vessel into such a flat surface that the undulation is ≤3 mm and the surface roughness Ra is10 μm, preferably ≤6 μm.例文帳に追加

また、容器内面のうねりを3mm以下、表面粗さRaを10μm以下、更に好ましくは6μm以下の平滑な表面とすることによってシリコンの食い込みを低減して発生応力を逃げ易くし、シリコン内部歪の残留を軽減し、多結晶シリコンの光電変換効率を向上させる。 - 特許庁

例文

Characteristic value of a specific component member of a tire to be simulated is calculated on the basis of the information of either the strain in or the stress on the specific component member, and a tire model reproducing the tire is prepared on the basis of the calculated characteristic value of the specific component member, and using this tire model, the tire behavior under the prescribed conditions is predicted and calculated.例文帳に追加

シミュレーション対象タイヤの特定構成部材の歪み、またはこの特定構成部材にかかる応力の少なくともいずれか一方の情報に基づき、シミュレーション対象タイヤにおける特定構成部材の特性値を算出し、算出した特定構成部材の特性値に基づき、タイヤを再現するタイヤモデルを作成し、この作成したタイヤモデルを用い、所定の条件下におけるタイヤ挙動を予測算出する。 - 特許庁

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