「alignment marks」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To enhance alignment accuracy as much as possible for an optical member having alignment marks and a liquid crystal display.例文帳に追加

アライメントマークを有する光学部材及び液晶表示装置に対し、アライメント精度を可及的に向上させる。 - 特許庁

The laser array has precision fiducial marks that aid in the alignment of the laser array.例文帳に追加

レーザーアレイは、レーザーアレイの整列を援助する精密な認識マークを有する。 - 特許庁

To measure alignment deviation at an arbitrary position without using any inspection marks.例文帳に追加

検査用マークを用いることなく、任意の位置における合わせずれを計測する。 - 特許庁

By forming the first and second alignment marks 1, 2 in respective two electronic members requiring alignment, a simple and accurate alignment is performed by visually observing a Moire fringe pattern generated by overlapping of the two alignment marks.例文帳に追加

位置合わせを必要とする２つの電子部材に、第１，第２アライメントマーク１，２をそれぞれ形成しておくことで、両者の重なりから生じるモアレ縞模様を観察して、目視でも正確かつ簡単に位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

A plurality of alignment marks 3R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 3G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 3B for the coloring pattern of B are disposed on a substrate 1 at different intervals for each coloring pattern.例文帳に追加

また、基板１に、Ｒの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用の複数のアライメントマーク３Ｂを、着色パターン毎に異なる間隔で設ける。 - 特許庁

To provide a coordinate-measuring method capable of measuring the coordinates of alignment marks, even when the accuracy of the coordinate measurement of the alignment mark is low in rough alignment.例文帳に追加

ラフアライメントにおけるアライメントマークの座標測定の精度が低い場合であっても、アライメントマークの座標を測定できる座標の測定方法を提供する。 - 特許庁

The alignment of the photomask A in an exposure system is performed by irradiating the alignment marks 1c with a prescribed detecting light.例文帳に追加

フォトマスクＡの露光装置での位置合わせは、レチクル合わせマーク１ｃに所定の検出光を照射することで行う。 - 特許庁

Alignment marks 37, 38, 39 and 40 not transmitting light are formed in the opening region of the alignment hole 16.例文帳に追加

位置合わせ孔１６の開口領域内には、光不透過性の位置合わせマーク３７，３８，３９，４０が形成されている。 - 特許庁

To detect two alignment marks on a work even though the work has large positional variation of the alignment mark.例文帳に追加

アライメントマークの位置のばらつきが大きいワークであっても、ワーク上の２個所のアライメントマークを検出できるようにすること。 - 特許庁

During scanning, the light from the alignment reticle image is reflected and scattered by the wafer and its alignment marks.例文帳に追加

走査の間に、アライメントレチクルイメージからの光線はウェファおよびそのアライメントマークによって反射され、そして散乱される。 - 特許庁

An embodiment relates to a method for forming a set of alignment marks on a substrate.例文帳に追加

実施形態は、基板上にアラインメントマークのセットを提供する方法に関する。 - 特許庁

To narrow the space occupied by alignment marks of a substrate to be packaged with electronic components.例文帳に追加

電子部品が実装される基板のうちアライメントマークが占めるスペースを狭くする。 - 特許庁

The insulating layer 12 is formed with concave portions 13 above individual alignment marks 23.例文帳に追加

絶縁層１２は、位置決めマーク２３上の部分に凹部１３が形成されている。 - 特許庁

To image alignment marks of a wafer stage and a mask stage by one imaging apparatus.例文帳に追加

ウェハステージとマスクステージのアライメントマークを１台の撮像装置で撮像可能とする。 - 特許庁

To surely detect whether a semiconductor package having alignment marks formed is rotated by 180° on a horizontal plane while minimizing the number of the alignment marks.例文帳に追加

アライメントマークの配設数を最小限に抑えつつも、アライメントマークが形成された半導体パッケージの水平面内における１８０度の回転の有無を確実に検出すること。 - 特許庁

The layout data of alignment marks on each layer are arranged so that the layout data about the alignment marks on the first and fifth layers may overlap each other in the transversal and longitudinal directions of a chip 1 of an IC pattern.例文帳に追加

ＩＣパタ−ンであるチップ１の横方向及び縦方向に各層におけるアライメントマ−クのレイアウトデ−タを例えば１層と５層と重なるように配置する。 - 特許庁

The fiducial marks enable precise alignment of the microlenses in the microlens array.例文帳に追加

基準マークは、マイクロレンズアレイ内にマイクロレンズを正確に配列することを可能にする。 - 特許庁

In an alignment process of the mask 4 with respect to the substrate 3, each part (an alignment mark 4M) of the mask is aligned to a plurality of alignment positions (alignment marks 3M) on the substrate 3.例文帳に追加

基板３に対するマスク４のアライメント工程では、基板３の上に複数設けられたアライメント位置（アライメントマーク３Ｍ）にマスク４の各部（アライメントマーク４Ｍ）を位置合わせする。 - 特許庁

The method comprises a step of forming alignment marks 1 together with a device pattern on a semiconductor wafer, a step of coating the semiconductor wafer with resist, a step of aligning exposure positions according to the alignment marks 1, and a step of exposing specified regions to form alignment deviation measuring marks 2 at specified positions near the alignment marks 1 together with a resist pattern.例文帳に追加

半導体ウエーハ上に、デバイスパターンとともに、アライメントマーク１を形成する工程と、半導体ウエーハ上にレジストを塗布する工程と、前記アライメントマーク１により、露光位置合わせを行う工程と、所定領域を露光し、レジストパターンとともに、前記アライメントマーク１近傍の所定位置に、合わせずれ計測用マーク２を形成する工程を備える。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having accurately detectable alignment marks.例文帳に追加

精確に検出可能なアライメントマークを有する半導体装置を提供することにある。 - 特許庁

Because the global alignment marks are positioned on the back side, they will not be affected by any processing step.例文帳に追加

グローバル・アライメント・マークは裏面に位置するので、いかなる加工ステップの影響も受けない。 - 特許庁

In each position- confirming means 36, first and second alignment marks 41 and 42 are integrally formed.例文帳に追加

位置確認手段36には、合わせマーク41と、第２の合わせマーク42とを一体に形成する。 - 特許庁

Alignment marks added onto an array substrate 3 and a color filter substrate 4 are picked up by an alignment camera 10, the positions of the alignment marks are calculated by a position calculating part 13 and the position of an alignment reference point of the array substrate 3 and the color filter substrate 4 is calculated from the calculated positions of the alignment marks by a reference point position calculating part 14.例文帳に追加

アレイ基板３およびカラーフィルター基板４に付されたアライメントマークをアライメントカメラ１０により撮像して、その位置を位置算出部１３により算出し、算出されたアライメントマークの位置から、基準点位置算定部１４により、アレイ基板３およびカラーフィルター基板４の位置合わせ基準点の位置を算出する。 - 特許庁

To provide an alignment mark suitable to dispose a plurality of types of alignment marks in a limited area.例文帳に追加

限られた面積内に複数種類のアラインメントマークを配置するのに適した位置合わせ用アラインメントマークを提供することである。 - 特許庁

Thereafter, the positions of the reticle marks 64A and 64B are detected by the reticle alignment systems 61R and 61L, and a reticle alignment is carried out.例文帳に追加

その後、レチクルアライメント系６１Ｒ，６１Ｌによってレチクルマーク６４Ａ，６４Ｂの位置を検出してレチクルアライメントを実行する。 - 特許庁

The alignment of the divided exposure with marks for simultaneous exposure is made possible by moving the 'alignment center' in the manner described above.例文帳に追加

このように、「合わせ中心」を移動することによって、一括露光用のマークで分割露光の位置合わせが可能になる。 - 特許庁

A photoresist 8 is patterned so as to cover a prescribed pattern, other than the alignment marks 40 and to expose the marks 40.例文帳に追加

アライメントマーク４０以外の所定のパターンを被覆し、かつアライメントマーク４０は露出させるように、フォトレジスト８のパターンを形成する。 - 特許庁

To simultaneously pick up images of alignment marks consisting of a transparent conductive film formed on a transparent substrate, and alignment marks consisting of a non-transparent conductive film formed on an electronic component by an imaging device.例文帳に追加

透明基板に設けられた透明導電膜のアライメントマークおよび電子部品に設けられた不透明導電膜のアライメントマークを同時に撮像装置により撮像可能とする。 - 特許庁

To calculate the alignment beam angle of the alignment system of a lithography apparatus, two alignment mark positions are measured, and the two alignment marks are formed on a measuring substrate, or arranged on a substrate table of the lithography apparatus.例文帳に追加

リソグラフィ装置のアライメントシステムのアライメントビームの角度の算出は、２つのアライメントマークの位置を計測し該２つのアライメントマークを計測基板上に形成するか、リソグラフィ装置の基板テーブルに配置する。 - 特許庁

To perform position alignment of a mask and a work piece by detecting two alignment marks located outside the depth of focus range without moving an alignment microscope in an optical axis direction.例文帳に追加

アライメント顕微鏡を光軸方向に移動させることなく、焦点深度範囲外にある２つのアライメントマークを検出しマスクとワークの位置合せをすること。 - 特許庁

Since the measuring instrument can collectively measure the positions of the alignment marks, the positions of the alignment marks can be measured quickly even when the number of the marks is a plural number and the treatment throughput of a laser beam annealing device can be improved.例文帳に追加

このように、各アライメントマークについて一括して位置計測を行うことができるので、複数のアライメントマークであっても迅速な位置計測が可能となり、レーザアニール装置の処理のスループットを向上させることができる。 - 特許庁

Of these marks, the first alignment marks 251 are used for aligning the substrate 20 relative to a supporting table and the second alignment marks 252 are used for aligning the IC chip 51 relative to the substrate 20 supported at the supporting table.例文帳に追加

このうち第１のアライメントマーク２５１は、支持テーブルに対する基板２０の位置合わせのために用いられ、第２のアライメントマーク２５２は、支持テーブルに支持された基板２０に対するＩＣチップ５１の位置合わせのために用いられる。 - 特許庁

After the active matrix substrate 30 and a counter substrate are bonded to each other on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly, the polarizing plate is bonded on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly or the alignment marks for positioning the polarizing plate.例文帳に追加

また、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄを基準にアクティブマトリクス基板３０と対向基板とを貼り合わせた後は、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄあるいは偏光板位置決め用のアライメントマークを基準に偏光板を貼り合わせる。 - 特許庁

After an active matrix substrate 30 and a counter substrate are bonded to each other on the basis of alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly, the polarizing plate 11 is bonded on the basis of the alignment marks 38A, 38B, 38C and 38D for assembly or the alignment marks for positioning the polarizing plate.例文帳に追加

また、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄを基準にアクティブマトリクス基板３０と対向基板とを貼り合わせた後は、組み立て用のアライメントマーク３８Ａ、３８Ｂ、３８Ｃ、３８Ｄあるいは偏光板位置決め用のアライメントマークを基準に偏光板１１を貼り合わせる。 - 特許庁

After having performed the angle Ψ alignment, both collimators are marked with the lines 13a, 13b as axial alignment marks at the smallest loss angle position.例文帳に追加

ψ角調芯した後、最小損失角度の位置で、双方のコリメータに、調芯印としてライン１３ａ，１３ｂを付しておく。 - 特許庁

To provide a master hologram which facilitates the alignment of a hologram filter and an IC substrate by forming distinct alignment marks to the hologram filter.例文帳に追加

ホログラムフィルタに明瞭なアライメントマークを形成し、ホログラムフィルタとＩＣ基板との位置合わせを容易にするマスタホログラムを提供する。 - 特許庁

To detect, with high precision, alignment marks formed on a transparent substrate and an IC for driving a liquid crystal.例文帳に追加

透明基板や液晶駆動用ＩＣに形成されるアライメントマークを精度良く検出する。 - 特許庁

A lithography apparatus includes a substrate table to support a substrate having alignment marks on a surface thereof.例文帳に追加

リソグラフィ機器は、表面上に位置合わせマークを有する基板を支持する基板テーブルを備える。 - 特許庁

To provide a method capable of using alignment marks in a layer covered by an opaque layer.例文帳に追加

不透明層で覆われた層におけるアライメントマークを使用可能とする方法を提供する。 - 特許庁

In the step of forming the resist patterns RS, the patterns MK are used as alignment marks.例文帳に追加

レジストパターンＲＳが形成される工程において、パターンＭＫが位置合わせマークとして用いられる。 - 特許庁

The new mark image is compared with a reference image, prespecified from alignment marks prior to the process.例文帳に追加

新しいマークイメージを工程前の整列マークから予め設定された基準イメージと比較する。 - 特許庁

Each of the alignment marks 31 and 32 can be also applied to the existing hydraulic shovel.例文帳に追加

また、各位置合せマーク３１，３２は、既存の油圧ショベル１にも簡単に適用することができる。 - 特許庁

Internal terminals 3 of the chip body are arranged outside of an alignment line of these marks or patterns.例文帳に追加

これらマーク又はパターンの配置ラインの外側にチップ本体の内部端子３が配置されている。 - 特許庁

Each of X-shaped marks 2a, 2b 2c, 2d is disposed at the same position as each of cross-shaped alignment marks Ra, Rb, Rc, Rd of a reticle R2 as a base reticle.例文帳に追加

Ｘ字状の各アライメントマーク２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄは、元レチクルとしてのレチクルＲ２の十字状の各アライメントマークＲａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄと同一な位置に設けた。 - 特許庁

The alignment of a transparent substrate 1 and a mask plate 2 is carried out by observing by a camera 5 alignment marks 1M and 2M formed at the respective corner parts, whereupon alignment is made with both alignment marks brought as close as possible in order to observe within the depth of field of the camera 5.例文帳に追加

透明基板１とマスク板２とのアライメントは、夫々の角隅部に形成されたアライメントマーク１Ｍ及び２Ｍをカメラ５により観察して行われるが、カメラ５の被写界深度内で行うために、両アライメントマークはできる限り近接させた状態でアライメントを行う。 - 特許庁