「alignment marks」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

In finishing the alignment, marks m and m whose luminance is lowered than those of the monitor images excluding them are displayed in prescribed positions on the monitor screen to be occupied by the images of the working dots D and D.例文帳に追加

アライメント達成時にワーキングドットＤ、Ｄの画像が占めるべきモニタ画面上の所定位置にそれ以外のモニタ画像よりも輝度を低下させたマークｍ、ｍを表示する。 - 特許庁

Since the surface 21 does not form a shade on alignment marks 16A and 17A, the angle between the generating line of the tapering part 20 and the axis BX is made larger and the specular surface 21 is widened.例文帳に追加

面２１がアライメントマーク１６Ａ及び１７Ａ上に影を作らないので、先細り部２０の母線と軸ＢＸとの間の角度を大きくしてミラー面２１を広くする。 - 特許庁

In a step 512, a pattern is transferred to respective wafers in a lot, and prior to the transfer, alignment marks formed on the wafers through precedent exposure together with the pattern are detected (step 506).例文帳に追加

ステップ５１２でロット内のウエハのそれぞれにパターンが転写されるが、その転写に先だって、そのウエハに先の露光でパターンとともに形成されたアライメントマークが検出される（ステップ５０６）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that can provide more many alignment marks for lithography and PCMs (Process Control Monitors) and prevent leakage of information through PCMs.例文帳に追加

より多数のリソグラフィ用合わせマークおよびＰＣＭを設けることができ、かつＰＣＭによる情報の漏えいを防止することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable a chip aggregate to be pelletized satisfactorily into chips in dicing step, by preventing auto-alignment marks for dicing from being concealed.例文帳に追加

ダイシング用オートアライメントマークが隠されてしまうことを防止してダイシングでのペレタイズを良好にできるようにした、樹脂封止型半導体装置およびその製造方法の提供が望まれている。 - 特許庁

In the mold with the pattern formed by a fine uneven shape, alignment marks for determining the relative positional relationship between the substrate and the mold are attached in the shape of a concentric circle to at least two spots.例文帳に追加

微細な凹凸形状によりパターンを形成したモールドに、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円状に２箇所以上にする。 - 特許庁

The exposure apparatus 2b measures all alignment marks for position measurement which are formed on the wafer, and acquires information about local distortion generated due to the region where the distortion silicon is formed.例文帳に追加

露光装置２ｂは、ウェハに形成された位置計測用のアライメントマークを全て計測し、上記の歪シリコンが形成された領域に起因して生ずる局所的な歪み情報を得る。 - 特許庁

Focal areas 11A and 11B of the infrared image pickup devices 5A and 5B are set at positions capable of alternatively picking up the images of respective alignment marks 4A and 4B formed on counter surfaces 3A and 3B of the respective works 2A and 2B.例文帳に追加

赤外線撮像装置（5A，5B）の合焦領域（11A, 11B）は、各ワーク（2A, 2B) の対向面（3A，3B）に形成された夫々のアライメントマーク（4A，4B）を択一的に撮像できる位置に設定した。 - 特許庁

A device body 4 detects displacement of the workpiece W from image data on the alignment marks W1 and W2, and makes a necessary correction to data on a position where a defect has been found.例文帳に追加

装置本体４は、アライメントマークＷ１，Ｗ２の画像データからワークＷの位置ずれを検出し、欠陥の発見された位置のデータに対して必要な補正を加える。 - 特許庁

The alignment marks have been defined by a second lithographic apparatus LM2 and are arranged to provide a substrate grid as a coordinate system that includes a first and a second direction, substantially perpendicular to the first direction.例文帳に追加

位置調整用マークは、第２リソグラフィ機器により規定され、第１方向と第１方向に実質的に直交する第２方向とを有する座標系として基板格子を提供する。 - 特許庁

Positioning marks 22Cs are formed on a screen 22, and the carrier film 10 and a printer 20 are mutually positioned (alignment) using the positioning holes 10a and the positioning mark 22Cs.例文帳に追加

スクリーン２２には位置決めマーク２２Ｃが形成され、キャリアフィルム１０と印刷装置２０は、上記位置決め孔１０ａと位置決めマーク２２Ｃとを用いて相互に位置決め（アライメント）される。 - 特許庁

Plural cells are set on a pattern base plate, and a thin film bearing member 3 where plural pattern thin films and alignment marks are formed is set on a x-y-0 stage 4 in each cell.例文帳に追加

パターン基板上に複数のセルを設定し、各セル内に複数のパターン薄膜、および位置合わせマークを形成した薄膜担持体３をｘ−ｙ−θステージ４上にセットする。 - 特許庁

Consequently, the mean image formation time from the start of a read of alignment marks from the plurality of substrate materials to the completion of exposure by the laser scanner 110 can be shortened.例文帳に追加

これにより、複数枚の基板材料に対するアライメントマークの読取開始からレーザースキャナ１１０による露光完了までの平均的な画像形成時間を短縮できる。 - 特許庁

In addition, whether anisotropic conductive films 51 which stick the TABs 24 to the circuit board 21 are positioned within appropriate extents can be confirmed, by confirming that the films 51 have been positioned in the second alignment marks 42.例文帳に追加

ＴＡＢ24を回路基板21に接着する異方性導電膜51は、第２の合わせマーク42内に位置することを確認することにより、適正な範囲に位置することを確認できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of semiconductor substrate capable of freely setting the size of the alignment mark and preventing the generation of problems such as a resist coating spot and a residual resist during a device manufacturing process, without having to install a dedicated process for forming alignment marks.例文帳に追加

アライメントマークを形成する専用の工程の別途追加が無く、アライメントマークのサイズも自由に設定することができ、さらに、デバイス製造工程においてレジスト塗布斑やレジスト残り等の不具合を発生させない半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Regarding the second and subsequent liquid crystal panels of the same specification, they are temporarily positioned based on the two alignment marks 56, 58, a predetermined deviation Δx is obtained with respect to the third alignment mark 62, and then they are shifted by half in the X direction.例文帳に追加

同一仕様の２枚目以降の液晶パネルについては，二つのアライメントマーク５６，５８に基づいて液晶パネルを仮に位置決めしてから，第３アライメントマーク６２に関して所定の偏差Δｘを求めて，その半分だけ液晶パネルをＸ方向にシフトする。 - 特許庁

An alignment system which illuminates reference marks with radiation that is incident at right angles is used to conduct alignment of layers having a large Z separation, e.g. in the manufacture of a micro electromechanical system (MEMS) or a micro opto-electromechanical system (MOEMS).例文帳に追加

例えばマイクロ電気機械システム（ＭＥＭＳ）やマイクロ光電気機械システム（ＭＯＥＭＳ）の製造において、大きなＺ分離のある層間において位置合わせを行うために、直角に入射する放射線で基準マークを照射するアライメントシステムが用いられる。 - 特許庁

The positioning mark is measured by the visionary sensor whose positional relation is calibrated (S202), and the relative deviation values of the respective alignment marks are calculated as inter-alignment member target positions (S205), and the positional relation of the mutual members is controlled based on this so that the members can be aligned.例文帳に追加

位置合わせ用マークを位置関係が校正された視覚センサにより測定し（S202）、位置合わせ用マーク各々の相対的なずれ量を、位置合わせ部材間の目標位置として求め（S205）、この値に基づき部材相互の位置関係を制御して位置合わせする。 - 特許庁

Subsequently, the opening alignment marks 7 are formed in the membrane 3a, a mask 9 for dry-etching with opening patterns provided at the positions corresponding to support pillar formation positions on the substrate 1 is formed on the substrate 1 using the marks 7, and a support silicon layer is dry-etched in accordance with opening patterns 8 provided in the mask 9.例文帳に追加

続いてシリコンメンブレンに開口アライメントマーク７を形成し、それを用いて支持シリコン基板上に支柱形成位置に対応する位置に開口パターンが設けられたドライエッチング用マスク９を形成し、マスクに設けられた開口パターン８に合わせて支持シリコン層をドライエッチングする。 - 特許庁

These marks 22 and slits 18a and 18b are so designed that the marks 22 are completely shielded of light and both of the quantities of the light passed through the respective slits 18a and 18b are made zero only when the alignment in an X-axis direction, i.e., a displacement direction, is completed.例文帳に追加

これらマーク２２とスリット１８ａ・１８ｂとは、変位方向であるＸ軸方向における位置合わせが完了したときのみ、マーク２２に光が完全に遮光されて各スリット１８ａ・１８ｂを通過する通過光光量がどちらもゼロとなるように設計されている。 - 特許庁

Therefore, even if there are no alignment marks (fiducial marks) on the moving body WST for position measurement, the position of the plate, or in other words, the position of the moving body can be controlled on the movement coordinate system set by the measurement unit, based on the position information of the outer periphery edge of the plate.例文帳に追加

このため、その移動体ＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレートの位置、すなわち移動体の位置を前記計測装置で規定される移動座標系上で管理することが可能になる。 - 特許庁

Since the marks are placed at the center of field of view of the alignment sensor to observe and since the same component of both the distortion of optical system of the alignment sensor or the fixed pattern noise and the like of the imaging device are superimposed at each time, degradation of reproducibility of measurement caused by them can be prevented to implement the stable reticle alignment.例文帳に追加

マークを、必ずアライメントセンサの視野中心において観察していることとなり、アライメントセンサの光学系のディストーション、あるいは、撮像素子の固定パターンノイズ等については、毎回同じ成分が重畳されることとなるので、これらに起因する計測再現性の悪化を防ぐことができ、安定したレチクルアライメントを行なうことができる。 - 特許庁

To make two alignment marks arranged at diagonal positions on a panel surface, illuminate only by providing two electrification terminals for mark illumination on one terminal part of a unidirectional terminal type liquid crystal display panel by using one electrification terminal for mark illumination for one alignment mark.例文帳に追加

１つのアライメントマークに対するマーク点灯用通電端子を１つとして、一方向端子型の液晶表示パネルにおいて、その１つの端子部に２つのマーク点灯用通電端子を設けるだけで、パネル面内の対角位置に配置されている２つのアライメントマークを点灯可能とする。 - 特許庁

In the base plate for transfer (donor element 20), formed by forming a light emitting layer 23 on a supporting base plate 21, a plurality of alignment marks M1 to M3 performing a position alignment with an element formation base plate to be an object of transfer are formed on the support base plate 21, coping with the matching relations different from each other.例文帳に追加

本発明は、支持基板２１に発光層２３が成膜されて成る転写用基板（ドナー要素２０）において、支持基板２１には、転写対象となる素子作成用基板との位置合わせを行うアライメントマークＭ１〜Ｍ３が、異なる合わせ関係に対応して複数設けられている。 - 特許庁

In addition, it measures the locations of alignment marks created in the first sample shot group of another substrate and calculates those of alignment mark created in the second sample shot group if it is necessary to measure locations for an alternate sample shot group and then corrects the measurement value by an offset for the second sample shot group.例文帳に追加

別の基板について、第１のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置を計測し、代替サンプルショット群の計測が必要であると判断した場合には、第２のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置が計測され、第２のサンプルショット群のオフセットで計測値が補正される。 - 特許庁

By this constitution, the light emission or the light source image of the light source elements for alignment at the point light source array is condensed on the alignment marks of the liquid crystal panel by the micro lens and the point light source, the micro lens and the liquid crystal panel can be comparatively easily aligned based on its condensed image.例文帳に追加

この構成により点光源アレイにおけるアライメント光源素子による発光もしくは光源画像をマイクロレンズにより液晶パネルのアライメントマークに集光し、その集光像を基準にして点光源、マイクロレンズ、液晶パネルを比較的容易に位置合わせすることができる。 - 特許庁

When a core 7 of an optical waveguide W is formed on a surface of an electric circuit board E, the core 7 and optical element positioning alignment marks A are simultaneously formed from a photosensitive resin layer including a core 7 formation region and an alignment mark A formation region by a single photolithography process.例文帳に追加

電気回路基板Ｅの表面に光導波路Ｗのコア７を形成する際に、コア７形成領域とアライメントマークＡ形成領域とをもつ感光性樹脂層から、１回のフォトリソグラフィ法により、コア７と同時に、光学素子位置決め用のアライメントマークＡを形成する。 - 特許庁

In a substrate 9 which is the processing target for a pattern drawing apparatus, a plurality of alignment marks 60, each of which being an information recording code for recording the relative position between a reference position on the substrate 9 and itself, are formed in an assembled state in a predetermined domain as an alignment region 92.例文帳に追加

パターン描画装置が処理の対象とする基板９においては、アライメント領域９２としての所定の範囲内に、それぞれが基板９上の基準位置と自身との相対位置を記録した情報記録コードである複数のアライメントマーク６０が集合して形成されている。 - 特許庁

On and after a second liquid crystal panel of the same specification, after the liquid crystal panel is temporarily positioned on the basis of two alignment marks 56 and 58, a prescribed deviation Δx is found concerning a third alignment mark 62 to shift the liquid crystal panel only by its half in an X direction.例文帳に追加

同一仕様の２枚目以降の液晶パネルについては，二つのアライメントマーク５６，５８に基づいて液晶パネルを仮に位置決めしてから，第３アライメントマーク６２に関して所定の偏差Δｘを求めて，その半分だけ液晶パネルをＸ方向にシフトする。 - 特許庁

A TTR sensor 2 observes a reticle alignment mark RM formed on a reticle R, and a wafer alignment mark WM formed on a wafer W via a projection optical system PL or a reference mark formed on a reference member 14, and detects relative positions of these marks.例文帳に追加

ＴＴＲセンサ２０は、レチクルＲに形成されているレチクルアライメントマークＲＭと、投影光学系ＰＬを介してウェハＷに形成されているウェハアライメントマークＷＭ又は基準部材１４に形成されている基準マークとを観察してこれらの相対位置を検出する。 - 特許庁

When forming a via hole in the insulating layer or the like in the succeeding process, a corresponding alignment mark among the plurality of alignment marks is detected by the light made to pass through the openings by using the light irradiation member, and positioning is performed with the detected mark as a position reference.例文帳に追加

以降の工程において絶縁層にビアホールの形成等を行う際に、上記の光照射用部材を用いて上記の開口部を通過させた光により、上記の複数のアライメントマークのうち対応するアライメントマークを検出し、検出したマークを位置基準として位置合わせを行う。 - 特許庁

Upper and lower cameras 46a and 46b with which alignment marks AL1 and AL2 formed on first and second substrates W1 and W2 can be separately picked up, are disposed on the upper and lower sides of a chamber 32, respectively.例文帳に追加

チャンバ３２の上下には、第１及び第２の基板Ｗ１，Ｗ２に形成されたアライメントマークＡＬ１，ＡＬ２を個別に撮像可能とする上カメラ４６ａと下カメラ４６ｂとが配置されている。 - 特許庁

In an optical element mounting step, a light emitting element 11 and a light receiving element 12 are mounted at proper positions with respect to the core 7 of the optical waveguide W with reference to the alignment marks A.例文帳に追加

そして、光学素子実装工程において、上記アライメントマークＡを基準として、光導波路Ｗのコア７に対して適正な位置に、発光素子１１および受光素子１２を実装する。 - 特許庁

When the two alignment marks are detected, the work stage 3 is shifted so that they should become a predetermined positional relationship, and thus, exposing light is irradiated from the light emitter 1 so as to expose the mask pattern to the work piece W.例文帳に追加

２つのアライメントマークが検出されると、それらが所定の位置関係になるようにワークステージ３を移動し、光照射部１から露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンを露光する。 - 特許庁

Terminals at three both-end and center positions among external circuit connection terminals 601 formed on a TFT array substrate 10 are formed as marks 610 for alignment which each has an opening part 610a.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板１０上に形成された外部回路接続端子６０１のうち、両端及び中央の３箇所の端子を、開口部６１０ａを有するアライメント用マーク６１０として形成する。 - 特許庁

When manufacturing the multilayer wiring board 10, via holes 11, 12 are formed as alignment marks to an edge of a core substrate 5 in the widthwise direction thereof, and a third layer 6 is then formed not closing these via holes 11, 12.例文帳に追加

多層配線基板１０を製造する際には、コア基板５の幅方向の縁部にビアホール１１，１２をアライメントマークとして形成し、これらビアホール１１，１２を塞がないように第３層６を形成する。 - 特許庁

To provide a method for aligning each drive circuit with a substrate when the different positions of alignment marks are provided on a plurality of drive circuits of different types mounted on a substrate to exclude each other.例文帳に追加

互いに排他的に基板に搭載される複数種類の駆動回路に設けられた位置合わせマークの形成位置が異なる場合に、各駆動回路と基板とを位置合わせする方法を提供できる。 - 特許庁

Consequently, the TAB-substrate side alignment marks 35 and 36 can be formed avoiding an area where, for example ACF 32 is formed and a substrate-side terminal 26 can securely be connected to a panel-substrate side terminal 19 in a conductive state.例文帳に追加

これにより、例えばＡＣＦ３２を配置する領域を避けてＴＡＢ基板側アライメントマーク３５，３６を形成でき、基板側端子２６を確実にパネル基板側端子１９に導電接続できる。 - 特許庁

This method measures the locations of alignment marks created on first and second sample shot groups of a substrate, calculates the locations of all shots including the first and second sample shot groups and settles them for substrate exposure.例文帳に追加

基板の第１及び第２のサンプルショット群に形成されたアライメントマークの位置を計測し、第１及び第２のサンプルショット群を含む全ショットの位置を算出、位置決めして、基板を露光する。 - 特許庁

To provide a more concrete technique of manufacturing a panel molded article wherein two panel components are joined to each other after they are aligned in position with each other by using alignment marks.例文帳に追加

アライメントマークを用いて両パネル構成材を位置合わせした後、両パネル構成材を互いに接合することでパネル成形品を製造する、より具体的なパネル成形品製造技術を提供する。 - 特許庁

In a state that a plane part 5A of a printing plate 5 and a plane part 4 of an endless-belt-like blanket 3 face each other, both of them are aligned by using alignment marks provided on the plane parts 5A, 4.例文帳に追加

印刷版５の平面部５Ａと無端ベルト状のブランケット３の平面部４が向かい合った状態で、平面部５Ａと４に設けたアライメントマークを用いて両者の位置合わせを行う。 - 特許庁

Similarly the XY coordinates of three corners 3a-3c of the substrate 3 corresponding to the alignment marks 1a-1c are read out by the CCD cameras 4a-4c and the center coordinates and inclination of the substrate 3 are found out.例文帳に追加

同様にして位置合わせマーク１ａ〜１ｃと対応した基板３の３つの角隅３ａ〜３ｃのＸ，Ｙ座標をＣＣＤカメラ４ａ〜４ｃで読み取って，基板３の中心座標と傾きを求める。 - 特許庁

In later exposing, a plurality of alignment marks on the wafer are detected and exposure is performed based on a result of detection, so that the accuracy of superposition of patterns can be increased.例文帳に追加

また、後の露光を行う際には、ウエハ上の複数のアライメントマークを検出し、その検出結果に基づいて、露光を行うので、パターンの重ね合わせ精度を向上させることも可能となる。 - 特許庁

The first and second alignment marks (10, 11) are arranged so that one is substantially located above the other in the first portion and one is substantially located above the other in the second portion.例文帳に追加

第１及び第２の位置合せマーク（１０、１１）を、第１の部分が実質的に一方が他方の上方に位置し、かつ第２の部分が実質的に一方が他方の上方に位置するように配設する。 - 特許庁

Thereby, the mother glass substrates 1, in which the surface of the both side parts where the alignment marks are to be formed, is flat, and the irregulalities are formed in an area, from which individual liquid crystal display elements are to be collected, can be obtained.例文帳に追加

これにより、アライメントマークが形成される両側部の表面が平坦で個々の液晶表示素子のガラス基板を採取するエリアに凹凸が形成されたマザーガラス基板１が得られる。 - 特許庁