「alignment marks」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Using the substrate side alignment marks 6 appearing to the outer part via the opening parts 7c, 8c, the alignment of a mask 21 for black is performed.例文帳に追加

これらの開口部７ｃ、８ｃを介して外方へ現れる基板側アライメントマーク６を用いて、ブラック用マスク２１の位置決めが行なわれる。 - 特許庁

The alignment marks AL1 and AL2 are separately picked up by using the upper and the lower cameras 46a and 46b and alignment is performed based on previously registered relative positions of the both alignment marks AL1 and AL2 during evacuation of the chamber 32.例文帳に追加

チャンバ３２内の真空排気中に、各アライメントマークＡＬ１，ＡＬ２を上カメラ４６ａと下カメラ４６ｂにより個別に撮像し、予め登録された両アライメントマークＡＬ１，ＡＬ２の相対位置に基づいて位置合わせを行うようにした。 - 特許庁

A cross-shaped, polygonal and circular light source elements for alignment are provided at a point light source array and alignment marks corresponding to the shapes of the light source elements for alignment are formed at a liquid crystal panel substrate.例文帳に追加

点光源アレイに十字形、多角形、円形状のアライメント用光源素子を設け、更に液晶パネル基板にアライメント用光源素子形状に応じたアライメントマークを形成する。 - 特許庁

In a control part 70A, an alignment action operation allowance range is set where shift amounts of both alignment marks Ma and Wa fall within a desired alignment accuracy range in exposure transfer by drive of a mask position regulation mechanism 16, and when the shift amounts of the both alignment marks Ma and Wa are within the alignment action operation allowance range, alignment action by the mask position regulation mechanism 16 is carried out to complete the alignment action.例文帳に追加

制御部７０Ａには、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がマスク位置調整機構１６の駆動によって露光転写時の所望のアライメント精度範囲以内となる、アライメント動作実施許容範囲が設定されており、両アライメントマークＭａ，Ｗａのずれ量がアライメント動作実施許容範囲以内であるとき、マスク位置調整機構１６によるアライメント動作を実行して該アライメント動作を完了する。 - 特許庁

To provide a method for analyzing the behavior of front side marks on a substrate, during a process of manufacturing a device, without the need for etching global alignment marks.例文帳に追加

グローバル・アライメント・マークをエッチングする必要なしにデバイス作製プロセス中に基板上の表面マークの挙動を分析する方法を提供すること。 - 特許庁

Alignment marks am1 and am2 are provided between the segment terminal of the tape carrier package and the common terminals corresponding to the marks AM1 and AM2 provided on the segment substrate.例文帳に追加

テープキャリアパッケージのセグメント端子とコモン端子の間にセグメント基板に設けたアライメントマークＡＭ１，ＡＭ２に対応するアライメントマークａｍ１，ａｍ２を設ける。 - 特許庁

Alignment marks are formed for each field of view of inspection by using wiring patterns whose difference of brightness is glaring.例文帳に追加

輝度の濃淡を明確にしやすい配線パターンを用いて、検査の視野ごとに、アライメントマークを作る。 - 特許庁

Notches 411 are formed in the positions corresponding to the alignment marks 24 of the frame member 41.例文帳に追加

この枠部材４１のうちアライメントマーク２４に対応する位置には切欠４１１が形成されている。 - 特許庁

This avoids the difficulty in aligning on alignment marks 101 which are below a colored resist 10.例文帳に追加

これは、着色したレジスト１０の下にあるアラインメントマーク１０１上での位置合わせの困難を回避する。 - 特許庁

When alignment marks 159 of two printed wiring boards 10 arranged adjacent to each other are simultaneously imaged by using the recognition camera to recognize the two alignment marks respectively, a position of the recognition camera is adjusted such that each of the alignment marks is positioned equidistant from the center of an imaging region of the recognition camera.例文帳に追加

隣接して配置された２枚のプリント配線板１０のアライメントマーク１５９を認識用カメラで同時に撮像することで、２個のアライメントマークをそれぞれ認識する際に、各アライメントマークが認識用カメラの撮像領域の中心から等間隔に位置するように認識用カメラの位置を調整する。 - 特許庁

To improve recognizability of alignment marks which are used as reference positions in the case electronic parts are mounted on a counter substrate.例文帳に追加

対向基板に電子部品を実装する際の基準位置となるアライメントマークの認識性を高める。 - 特許庁

The first camera 37 photographs the four IC chips T and corresponding alignment marks from below.例文帳に追加

第１カメラ３７によって、下方から４つのＩＣチップＴと対応するアライメントマークとを撮影する。 - 特許庁

A tungsten layer is formed on an interlayer insulating film containing openings for alignment marks and polished by the CMP method.例文帳に追加

アラインメントマーク用開口を含む層間絶縁膜の上にタングステン層を形成し、ＣＭＰ法で研磨する。 - 特許庁

Furthermore, the alignment marks are provided having shapes different by colors of the pixel units 30.例文帳に追加

さらに、アライメントマークの形状が画素部３０の各色ごとに異なるよう設けられているものでもある。 - 特許庁

Similarly, the alignment marks are formed successively from a lower layer, and the respective layers are bonded to complete a scanner 1.例文帳に追加

同様に、下層から順次アライメントマークを形成し、各層を接着させてスキャナ１を完成する。 - 特許庁

An embodiment shows a lithographic apparatus composed so as to form a set of such alignment marks.例文帳に追加

実施形態は、このようなアラインメントマークのセットを提供するように構成されたリソグラフィ装置にも関する。 - 特許庁

Alignment marks on a substrate are inspected during the exposure of the substrate to optimize the exposure conditions.例文帳に追加

露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。 - 特許庁

Alignment marks on a substrate are inspected during exposure thereof in order to optimize the exposure conditions.例文帳に追加

露光条件を最適化するために基板の露光時に基板上の位置合わせ標識を検査する。 - 特許庁

The fiber optic parts array has precise recognition marks to assist the alignment of the fiber optic parts array.例文帳に追加

ファイバー光学部品アレイは、ファイバー光学部品アレイの整列を援助する精密な認識マークを有する。 - 特許庁

To obtain a diffraction optical element to be manufactured easily by using alignment marks, and an optical system having the element.例文帳に追加

アライメントマークを利用して製作が容易な回折光学素子及びそれを有した光学系を得ること。 - 特許庁

Identification of the photomask A is performed, by irradiating the reticle alignment marks 1c or bar code 1d with a prescribed identifying light.例文帳に追加

フォトマスクＡの識別は、識別マーク１ｃやバーコードに所定の識別光を照射することで行う。 - 特許庁

A reticle is prepared based on the layout data and is exposed by shielding one of alignment marks from the light.例文帳に追加

このデ−タに基ずき、レチクルを作成し、露光時にいづれかのアライメントマ−クを遮光し露光する。 - 特許庁

To obtain the arrangement of marks for measurement capable of measuring the error quantity of an alignment error with high accuracy.例文帳に追加

アライメント誤差の誤差量を高精度に測定することができる測定用マークの配置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of a reflective mask blank comprises a process of forming visible marks composed of alignment marks and name marks at plane asymmetric positions on a substrate principal plane of a reflective mask blank before forming a reflective layer.例文帳に追加

反射層形成前の反射型マスクブランクス用基板主面に、アライメントマークやネームマーク等からなる視認可能なマークを平面非対称な位置に形成することで、上記課題を解決する。 - 特許庁

To dispense with manual alignment with a simple constitution, and to position two components with high accuracy by eliminating time loss caused by searching alignment marks.例文帳に追加

簡単な構成で手動アライメントを必要としないとともにアライメントマークサーチによるタイムロスを無くして２つの部品を高精度に位置合わせする。 - 特許庁

To provide alignment equipment which can perform alignment with high precision, even when observation of wafer marks through a mask membrane is difficult.例文帳に追加

マスクメンブレンを通してウエハマークを観測することが困難な場合であっても、高精度に位置合わせを行うことができる位置合わせ装置を提供する。 - 特許庁

Then, a base line is corrected by measuring reference marks formed on an off-axis scope 12 for wafer alignment and a mask alignment scope formed on the wafer stage 31.例文帳に追加

更に、ウエハアライメント用オフアクシススコープ１２とウエハステージ３１上のマスクアライメントスコープに形成された基準マークを計測することによってベースライン補正を行う。 - 特許庁

And when positioning is performed on a semiconductor substrate 1 at the step after forming post electrodes, the post electrodes for alignment are used as alignment marks.例文帳に追加

そして、半導体基板１に対してポスト電極形成後の工程で位置合わせを行なうとき、前記アライメント用ポスト電極をアライメントマークとして使用する。 - 特許庁

Then the material in solution is deposited when it is substantially aligned with one of the alignment marks to provide an alignment dot of the material in solution.例文帳に追加

そして、一のアライメントマークと略位置合わせされたときに、溶液状の材料の堆積を行い、溶液状の材料のアライメントドットを設ける。 - 特許庁

In step S_2, the positions of alignment marks of a target layer X_n (1≤n≤M) and an alignment layer Y_n are measured, by using the superposition measuring instrument to obtain measured data A_n.例文帳に追加

Ｓ_2 で重ねあわせ測定器を使ってターゲット層Ｘ_n （１≦ｎ≦Ｍ）及びアライメント層Ｙ_n のアライメント・マークの位置を測定して測定データＡ_n とする。 - 特許庁

Both the alignment marks 4I and 4K can be simultaneously photographed only by one photographing step using the camera 9 and alignment can be successively performed.例文帳に追加

カメラ９による１回の撮影だけで両アライメントマーク４Ｉ及び４Ｋを同時に撮影でき、さらに引き続いて位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

To provide a stencil mask and an alignment apparatus used for the alignment of the stencil mask whereby the alignment marks of a wafer can be sensed even when Si is used in its pattern portion for depictions, and the large improvement of the accuracy of the alignment can be achieved.例文帳に追加

描画用のパターン部にＳｉを使用しても、ウエハの位置合わせマークが検出可能であり、位置合わせ精度の大幅な向上が達成できるステンシルマスク、及びその位置合わせに使用されるアライメント装置を提供する。 - 特許庁

A work W is mounted on the alignment stage AS, the stage AS or alignment microscope 4 is fed in steps at intervals where work marks WAM are formed, and the alignment microscope 4 detects the array of the work marks WAM, and position coordinates thereof are stored.例文帳に追加

一方、アライメントステージＡＳにワークＷを載置し、ワークマークＷＡＭの形成されている間隔でステージＡＳまたはアライメント顕微鏡４をステップ送りし、アライメント顕微鏡４によりワークマークＷＡＭを並びで検出し、その位置座標を記憶する。 - 特許庁

In addition, the wafer 1 is aligned relatively to the mask 4 by optically detecting the alignment marks 3a and 3b and alignment marks 5a and 5b put on the mask 4.例文帳に追加

そして、これらのアライメントマーク３ａ，３ｂと、相補分割マスク４に配されたアライメントマーク５ａ，５ｂとを、それぞれ光学的に検出して、ウエハ１と相補分割マスク４との相対的な位置合わせを行うようにする。 - 特許庁

A sensor of a camera detects alignment marks 5a and 5b on a substrate 1 and alignment marks 6a and 6b on a mask 2 through a filter that has a long-wavelength light transmission region 31 and a short-wavelength light transmission region 32.例文帳に追加

基板１上のアライメントマーク５ａ、５ｂと、マスク２上のアライメントマーク６ａ、６ｂとを、長波長光の透過領域３１と短波長光の透過領域３２とを有するフィルタを通して、カメラのセンサにて検出する。 - 特許庁

Upon the alignment of the substrate 9, an image is acquired by imaging the alignment region 92 wherein the plurality of alignment marks 60 are assembled, so that even if the imaged domain becomes smaller because the imaging magnification is made larger, some of the plurality of alignment marks 60 can be included in the image.例文帳に追加

基板９のアライメントの際には、このように複数のアライメントマーク６０が集合しているアライメント領域９２を撮像して画像を取得するため、撮像倍率を高倍率として撮像範囲が小さくなったとしても、複数のアライメントマーク６０のいずれかを画像中に含めることができる。 - 特許庁

The plurality of the alignment marks perform a role of the alignment mark as an first aligning function with the contour, and perform a function of the alignment mark as a second aligning function with the structure in the contour.例文帳に追加

複合位置合わせマークは、輪郭により第１の位置合わせ機能に対し位置合わせマークの役割を果たし、輪郭内の構造により第２の位置合わせ機能に対し位置合わせマークの機能を果たす。 - 特許庁

In order to carry out transfer by using the donor element 20, the position alignment with the element formation base plate is carried out and transferred, by using one alignment mark out of the plurality of alignment marks M1 to M3; afterwards, the transfer is carried out, by carrying out position alignment using another alignment mark to another element formation base plate.例文帳に追加

このドナー要素２０を用いて転写を行うには、複数のアライメントマークＭ１〜Ｍ３のうち一つを用いて素子作成用基板との位置合わせを行って転写した後、別の素子作成用基板に対して別のアライメントマークを用いた位置合わせを行って転写を行う。 - 特許庁

The substrate is aligned so that the alignment marks match the reference image or the new mark image by the comparison results.例文帳に追加

比較結果によって、整列マークが基準イメージ又は新しいマークイメージに相応するように基板を整列する。 - 特許庁

The camera 3 also acquires images of the alignment marks W1 and W2 when acquiring an image of the inspected part W3.例文帳に追加

カメラ３は、被検査部Ｗ３の画像を取得する際に、アライメントマークＷ１，Ｗ２の画像も取得する。 - 特許庁

On the other hand, light shieldable marks 22 for alignment are formed at a liquid crystal panel 1 to be aligned.例文帳に追加

一方、位置合わせされる液晶パネル１には、遮光性の位置合わせ用のマーク２２が形成されている。 - 特許庁

The alignment marks on the substrate side are formed inside the interconnections formed in the electro-optical panel at the same time with the interconnections.例文帳に追加

ここで、基板側アライメントマークは、電気光学パネルに形成される配線内部、配線と同時に形成される。 - 特許庁

The CD wafer and the DVD wafer are aligned with each other with high accuracy by alignment marks provided for the respective wafers.例文帳に追加

ＣＤ用ウェハとＤＶＤ用ウェハは、各々に設けたアラインメントマークにより高精度に位置合わせを行う。 - 特許庁

Accurate positioning is made by providing alignment marks 25 and 35 on the basic lens 2 and the auxiliary lens 3, respectively.例文帳に追加

基本レンズ２と補助レンズ３のそれぞれにアライメントマーク２５，３５を設けて正確な位置合わせを可能にする。 - 特許庁

The fiducial marks enable the precise alignment of the microlenses in the 1st and the 2nd plurality of microlens arrays.例文帳に追加

認識マークは、第一及び第二の複数のマイクロレンズアレイにおけるマイクロレンズの精確な整列を可能とする。 - 特許庁