「alignment marks」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor wafer in which a plurality of alignment marks or inspection marks can be arranged more densely than before, and to provide a semiconductor device and its fabrication process.例文帳に追加

複数のアライメントマーク又は検査マークを従来よりも密に配列することができる導体ウエハ、半導体装置、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Upon measuring the positional information on other alignment marks, this instrument measures the positional information on the marks by performing electrical processing by using the stored amplification factor and offset value.例文帳に追加

そして、他のアライメントマークの位置情報を計測する際には、記憶した増幅率及びオフセットの値を用いて電気的処理を行って位置情報を計測する。 - 特許庁

Thus, since the control device 11 for controlling an alignment apparatus does not require specific functions for arranging the marks used for aligning to a field of view of the camera, the alignment apparatus can be reduced in its scale and be more readily manufactured, and can easily detect the regions where the alignment marks exist.例文帳に追加

このため、アライメント装置制御装置１１は、カメラの視野に位置合わせに用いられるマークを配置するために別個の機構を備える必要がなく、規模をより小さく、かつ、製造をより容易にし、アライメントマークがある領域をより容易に検出することができる。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a liquid crystal display element by which alignment between substrates by alignment marks is made possible without applying an electric field even when a liquid crystal is applied on the alignment marks and productivity of the liquid crystal display element is enhanced, and to provide a substrate for the liquid crystal display element.例文帳に追加

液晶をアライメントマーク上に塗布しても、電界を印加せずにアライメントマークによる基板間の位置合わせを可能とし、液晶表示素子の生産性の向上を図った液晶表示素子の製造方法、および液晶表示素子用基板を提供する。 - 特許庁

Alignment marks 11, 12 are put on the epitaxial layer 104 and used as alignment marks 11A, 12A when the first element of an element forming layer 105 is formed on the first face 104A, and as alignment marks 11B, 12B when the second element of an element forming layer 111 is formed on the second face 104B.例文帳に追加

エピタキシャル層１０４にはアライメントマーク１１，１２が形成され、これらアライメントマーク１１，１２は、第１面１０４Ａで素子形成層１０５の第１の素子を形成する際のアライメントマーク１１Ａ，１２Ａとして、第２面１０４Ｂで素子形成層１１１の第２の素子を形成する際のアライメントマーク１１Ｂ，１２Ｂとして用いられる。 - 特許庁

To provide an aligner capable of simultaneously observing a plurality of alignment marks irrespective of the size of a pattern region depending on the device, and capable of designing a reticle without being bound by the arrangement places of the alignment marks.例文帳に追加

本発明は、デバイスによるパターン領域の大きさに拘らず複数のアライメントマークを同時観察できるようにし、かつアライメントマークの配置場所に縛られることなくレチクル設計ができる露光装置を提供することである。 - 特許庁

An alignment system which illuminates reference marks with radiation that is incident at a right angle is used to conduct alignment of layers having the large vertical separation.例文帳に追加

大きな垂直分離のある層間において位置合わせを行うために、直角に入射する放射線で基準マークを照射するアライメントシステムが用いられる。 - 特許庁

To provide a phase shift mask to form alignment marks having sharp edges for accurate alignment of the mask used for the production process of semiconductor devices.例文帳に追加

半導体素子の製造プロセスにおいて使用されるマスクの位置合わせを正確に行うために、エッジがシャープな位置合わせマークを形成するための位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mark recognition device which can calculate an accurate reference point of an alignment mark even when the alignment mark includes a set of a plurality of marks.例文帳に追加

アライメントマークを複数のマークの集合体から構成した場合にも、アライメントマークの正確な基準点を算出することができる、マーク認識装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device, a semiconductor wafer and a semiconductor storage device manufacturing method, which make alignment marks be easily identifiable, and thereby enhancing mask alignment accuracy.例文帳に追加

合わせマークを認識し易くし、マスク合わせ精度を向上する半導体記憶装置、半導体ウェーハ及び半導体記憶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Alignment mark is formed at a specified position of the substrate 90, and the gravity center of the alignment marks is detected by the image recognition process by CCDs 106, 107.例文帳に追加

基板９０上の所定位置にはアライメントマークが形成されており、ＣＣＤ１０６，１０７は、画像認識処理によって、アライメントマークの重心検出を行う。 - 特許庁

To position a TFT substrate on which alignment marks are set on optional positions as to a TFT substrate inspection apparatus and the alignment of the TFT substrate.例文帳に追加

ＴＦＴ基板検査装置及びＴＦＴ基板のアライメントにおいて、アライメントマークが任意の位置に設定されたＴＦＴ基板に対して位置合わせを行うこと。 - 特許庁

Reticle alignment marks 55 are arranged respectively at top and bottom ends of small field (SF) rows of a stripe 21 and the alignment of the reticle is carried out on the reference electron beam trajectory in a state in which RS is kept stationary.例文帳に追加

レチクルアライメントマーク５５をストライプ２１の上下端のＳＦ行に配列し、ＲＳを静止させた状態で基準電子ビーム軌道でレチクルのアライメントを行う。 - 特許庁

Alignment marks 8 are provided, at the two parts other than the non-adhesion parts 7a and 7b and a frame part 5 is used as an alignment mark on the side of a liquid crystal module 2.例文帳に追加

非接着部７ａ、７ｂ以外の２箇所には、アライメントマーク８が設けられており、液晶モジュール２側においては額縁部５をアライメントマークとして代用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which the production of dust on an alignment layer to be the cause for degradation in the visibility of alignment marks can be prevented.例文帳に追加

位置合わせマークの視認性低下要因となる配向膜の塵芥の発生を防止することができる液晶表示パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve the position detection accuracy of recognize marks, permits sure alignment and to prevent the disconnection of patterns.例文帳に追加

認識マークの位置検出精度を向上させ、確実な位置合わせを可能にすると共に、パターンの断線を防止する。 - 特許庁

A signal processing layer 40 is completed and bonded with the wiring power supply layer 50 with the alignment marks 401 and 501 as references.例文帳に追加

信号処理層４０を完成させて、配線電源層５０とアライメントマーク４０１，５０１を基準に接着する。 - 特許庁

A wiring material layer 7 having apertures 7a, through which the alignment marks A are exposed, is formed on the insulating film 2.例文帳に追加

絶縁膜２上に、アライメントマークＡ上に開口部７ｂを有する形状の配線材料層７を形成する。 - 特許庁

The pair of exposure units form the alignment marks by radiating UV light to the non-effective regions of the substrate.例文帳に追加

この一対の露光部は、基板の非有効領域に、ＵＶ光を照射することにより、アライメントマークを形成する。 - 特許庁

Based on this detection result, positional information of the alignment marks is calculated by a control part and correction information is calculated.例文帳に追加

この検出結果を基に、制御部にてアライメントマークの位置情報が算出され、更に補正情報が算出される。 - 特許庁

Then, based on the acquired image information on both alignment marks, the transparent electrode and the non-transparent electrode are aligned with each other.例文帳に追加

両アライメントマークの取得画像情報に基づいて透明電極部と不透明電極部とが位置合わせされる。 - 特許庁

To provide a method for measuring the relative position of first and second alignment marks (10, 11) on a substrate (W).例文帳に追加

基板（Ｗ）上の第１及び第２位置合せマーク（１０、１１）の相対位置を測定する方法を提供すること。 - 特許庁

The first glass board with alignment marks is sucked to a lower glass sucking table 10b.例文帳に追加

ガラス板を吸着する下部ガラス吸着台１０ｂに、アライメントマークが記されている第１のガラス板を吸着させる。 - 特許庁

As a result, the alignment marks heretofore disposed at both ends of the source-bus substrate 5 may be abolished.例文帳に追加

これにより、従来ソースバス基板５の両端に設けていたアライメントマークを廃すことができ、上記の課題が解決される。 - 特許庁

The dot marks 21 of the upper layer are formed in a self-alignment manner with the dot marks 11 of the lower layer by a rear surface exposure technique with the dot marks 11 of the lower layer as a mask at the time of formation of a channel protective film 22 of TFTs(thin-film transistors) 45.例文帳に追加

上層のドットマーク２１は、ＴＦＴ４５のチャネル保護膜２２を作成する際、下層のドットマーク１１をマスクとした裏面露光技術により、下層のドットマーク１１に対して自己整合（セルフアライメント）的に作成される。 - 特許庁

To provide a color filter with alignment marks permitting to easily and simultaneously check the conveyance direction of a color filter substrate and the errors on each side, as alignment marks for positioning used at the time of sequentially forming a light shielding layer and each coloring pixel.例文帳に追加

遮光層と各着色画素のパターンを順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメントマークとして、カラーフィルター基板の搬送向きと表裏の誤りを容易にしかも同時にチェックできるアライメントマークを付したカラーフィルターを提供すること。 - 特許庁

Next, alignment is executed by superposing the alignment marks 7a in common use as the TCP position checking marks and the round holes of the TCPs corresponding thereto at the time of connecting the source-bus substrates 5 and the TCPs within the device by an ACF (an-isotropic conductive film) or solder.例文帳に追加

次に、ソースバス基板５とＴＣＰ９をＡＣＦまたは半田にて装置内で接続する際に、ＴＣＰ位置確認用マーク兼アライメントマーク７ａと、これに対応するＴＣＰ９の丸穴１３を重ね合わせて位置合わせを行う。 - 特許庁

The semiconductor elements 62 and 64 are positioned on the wiring board as the element alignment marks are aligned with the board alignment marks, and the semiconductor elements are electrically connected together by bonding the element connection pads and the board connection pads together.例文帳に追加

半導体素子は、素子アライメントマークと基板アライメントマークとの位置合わせによって配線基板上に位置決めされ、かつ各半導体素子は、素子接続パッドと基板接続パッドとを接合させることにより、相互に電気的に接続されている。 - 特許庁

When alignment marks M1', M2' are located only in parts C1', C2' of chip regions C1' to C3' of a reticle R1, alignment marks M1, M2 are formed only in parts C1, C2 of chip regions C1 to C3 of a wafer W1.例文帳に追加

レチクルＲ１のチップ領域Ｃ１´〜Ｃ３´の一部のチップ領域Ｃ１´、Ｃ２´のみにアライメントマークＭ１´、Ｍ２´を配置することにより、ウェハＷ１のチップ領域Ｃ１〜Ｃ３の一部のチップ領域Ｃ１、Ｃ２のみにアライメントマークＭ１、Ｍ２を形成する。 - 特許庁

The relative positional relations between the electrooptical panel P 1 and the casing C are so adjusted as to align the notches 411 and the alignment marks 24 to each other while the alignment marks 24 of the electrooptical panel P 1 are observed via the notches 411 of the casing C.例文帳に追加

電気光学パネルＰ1と筐体Ｃとの相対的な位置関係は、筐体Ｃの切欠４１１を介して電気光学パネルＰ1のアライメントマーク２４を観察しながら切欠４１１とアライメントマーク２４とが合致するように調整される。 - 特許庁

A memory stores locations of one or a plurality of sets of substrate alignment marks or overlay metering targets available for selection and selection rules to select suitable substrate alignment marks or overlay metering targets from this at least one set.例文帳に追加

メモリは、選択に使用可能な１つまたは複数のセットの基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標の位置と、この少なくとも１つのセットから適切な基板アラインメントマークまたはオーバレイ計量目標を選択する選択規則とを記憶する。 - 特許庁

The alignment measuring apparatus 3 includes alignment measuring units 30, 40 which measure the positions of a plurality of alignment marks on a substrate W1 to obtain the alignment information specifying the positions of a plurality of shot areas located on the substrate W1, and the exposure units 50, 60 perform an exposure operation on the basis of the alignment information.例文帳に追加

アライメント計測装置３は、基板Ｗ１上の複数のアライメントマークの位置を計測して基板Ｗ１上に配列された複数のショット領域の位置を特定するアライメント情報を得るアライメント計測ユニット３０、４０を含み、露光ユニット５０、６０は、そのアライメント情報に基づいて露光動作を実施する。 - 特許庁

The mask M is provided with mask side alignment marks MMU and MML and marks (a first mark IM) 40a-40f, 41a and 41b by which the image-formation characteristic of the projection optical system is detected.例文帳に追加

マスクＭには、マスク側位置合わせマークＭＭＵ，ＭＭＬ、投影光学系の結像特性を検出するマーク（第１マークＩＭ）４０ａ〜４０ｆ，４１ａ，４１ｂが設けられている。 - 特許庁

Magnification correction amount in the x-axis direction of the mask is acquired, based on an alignment error Δx2 in the x-axis direction between other x-axis marks and the marks of the mask corresponding to it.例文帳に追加

他のｘ軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのｘ軸方向の位置合わせ誤差Δｘ_2に基づいて、マスクのｘ軸方向の倍率補正量を求める。 - 特許庁

The interference of light and the negation of the light in the multilayered films are prevented at the time of position detection of the alignment marks 1 using a laser beam by the presence of the dot marks 11 of the upper layer.例文帳に追加

この上層のドットマーク２１の存在により、レーザー光を用いるアライメントマーク１の位置検出の際、多層膜での光の干渉や光の打ち消しが防止される。 - 特許庁

The alignment accuracy is evaluated by: reading alignment marks 60a-60d on a substrate F mounted on an exposure stage 18; recording a plurality of different test patterns with a definite relation among them on the substrate F, taking the alignment marks 60a-60d as the references, with exposure and in repetition; and comparing positions of the test patterns with each other.例文帳に追加

露光ステージ１８に装着された基板Ｆのアラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを読み取り、アラインメントマーク６０ａ〜６０ｄを基準として、一定の関係からなる複数の異なるテストパターンを基板Ｆに繰り返し露光記録し、テストパターン同士の位置関係を比較してアラインメントの精度を評価する。 - 特許庁

An exposure device 1 uses at least one alignment mark 45 formed on a mask M and comprises: a reference bar 51 having a plurality of reference marks 55 corresponding to the alignment mark 45 of each mask M; and at least one camera 59 for imaging the reference marks 55 of the reference bar 51, and the alignment mark 45 of the mask M.例文帳に追加

露光装置１は、マスクＭに少なくとも１つのアライメントマーク４５が形成されており、各マスクＭのアライメントマーク４５にそれぞれ対応する複数の基準マーク５５が設けられた基準バー５１と、基準バー５１の基準マーク５５とマスクＭのアライメントマーク４５とを撮像する少なくとも１つのカメラ５９と、を有する。 - 特許庁

To provide a system and a method for alignment, an exposure system, and a substrate holder, capable of executing a highly accurate alignment process in a stable way in aligning a mask and a substrate based on the light fluxes that irradiate respective alignment marks.例文帳に追加

マスク及び基板のそれぞれのアライメントマークに照射した光束に基づいてアライメントする際、このアライメント処理を精度良く安定して行うことができるアライメント装置及び方法、露光装置、基板ホルダを提供する。 - 特許庁

For alignment when mounting the IC for driving on the electro-optical panel, an alignment mark (27) on the IC side which is formed in the IC for driving and alignment marks (17 and 24) on the substrate side which are formed in the electro-optical panel are used.例文帳に追加

駆動用ＩＣを電気光学パネルに実装する際の位置合わせには、駆動用ＩＣに形成されたＩＣ側アライメントマーク（２７）と、電気光学パネルに形成された基板側アライメントマーク（１７、２４）とが利用される。 - 特許庁

The 1st and 2nd substrates 10 and 20 can be positioned and attached by the 1st and 2nd alignment marks 14 and 24.例文帳に追加

第１及び第２のアライメントマーク１４，２４によって、第１及び第２の基板１０，２０を位置決めして取り付けてもよい。 - 特許庁

The alignment mark has a plurality of bar marks 10 which are arranged at a predetermined interval along a scanning direction of a detection beam.例文帳に追加

アライメントマークは、検出光の走査方向に沿って所定の間隔で配置された複数の棒状マーク１０を備える。 - 特許庁

Cameras 11 and 12 to pickup the images of the alignment marks of the substrates 15 and 16 from the substrate backside are installed on the surface plates 8 and 6.例文帳に追加

定盤８，６には、基板１５，１６の位置合わせマークを基板裏面側から撮像するカメラ１１，１２が付設されている。 - 特許庁

Strip-like alignment marks 14 are provided in parallel in a silicon oxide film 12 formed on a silicon wafer 10.例文帳に追加

シリコンウエーハ１０上に形成されたシリコン酸化膜１２中に短冊状のアライメントマーク１４が並列に設けられている。 - 特許庁

In actually performing exposure, the interlayer insulating film is formed and flatted on the alignment marks on a lot basis, and the thickness of the interlayer insulating film is measured after flattening.例文帳に追加

実際に、露光を行う際には、ロット単位で、アライメントマーク上に層間絶縁膜を形成し、その平坦化を行う。 - 特許庁

The alignment marks 51 for spare pads is provided in a part which holds a column of the spare input pad 11 from both sides of a pad arrangement direction.例文帳に追加

予備入力パッド１１の列をパッド配列方向の両側から挟む個所に予備パッド用アライメントマーク５１を設ける。 - 特許庁