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buffer layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2214件
It is preferable that Martens hardness of the first buffer layer, the second buffer layer, and the conductive layer as a whole is 100-500 N/mm^2.例文帳に追加
前記第1緩衝層、第2緩衝層及び導電層全体のマルテンス硬度は、100〜500N/mm^2であることが好ましい。 - 特許庁
An n-type GaN buffer layer 1 is used as a common semiconductor layer, and a plurality of the mesa regions M are formed on the GaN buffer layer 1.例文帳に追加
n型のGaNバッファ層1を共通の半導体層として、このGaNバッファ層1上に、メサ領域Mが複数形成される。 - 特許庁
The semiconductor light-emitting element includes on a substrate 10: a buffer layer 11; a lower clad layer 12; an active layer 13; an upper clad layer 14; and a contact layer 15.例文帳に追加
基板10上に、バッファ層11、下部クラッド層12、活性層13、上部クラッド層14およびコンタクト層15を備える。 - 特許庁
By installing the buffer layer 16 between the positive layer 13 and the SE layer 15, formation of a depletion layer in the SE layer 15 can be suppressed.例文帳に追加
正極層13とSE層15との間に緩衝層16を設けることにより、SE層15における空乏層の形成を抑制することができる。 - 特許庁
The structure is realized by forming the substrate side of a channel layer with an InP layer, an insertion layer of an InAlP layer, and a buffer layer of InAlAs layer, for example.例文帳に追加
この構造は、例えば、チャネル層の基板側をInP層、挿入層をInAlP層、バッファ層をInAlAs層とすることにより実現する。 - 特許庁
The semiconductor epitaxial wafer having the buffer layer 2 on a substrate 1 has the buffer layer 2 comprising a structure having an In_XAl_1-XN buffer layer 22 and a GaN buffer 21 sequentially formed, and an In mixed crystal composition ratio of the In_XAl_1-XN buffer layer 22 is 0.05≤0.30.例文帳に追加
基板1の上にバッファ層2を有する半導体エピタキシャルウェハにおいて、前記バッファ層2がIn_XAl_1-XNバッファ層22、GaNバッファ層21を順に形成した構造からなり、且つ前記In_XAl_1-XNバッファ層22のIn混晶組成比Xが0.05以上0.30以下である。 - 特許庁
On a substrate 2, a buffer layer 3, an undoped GaN layer 4, an AlGaN layer 5 and a SiC layer 9 are formed in this order.例文帳に追加
基板2上にバッファ層3、アンドープGaN層4、AlGaN層5及びSiC層9をこの順に形成する。 - 特許庁
The surface layer part of i-GaN layer 2a functions as an electron transit layer and its lower part functions as a buffer layer.例文帳に追加
i−GaN層2aの表層部分は電子走行層として機能し、その下の部分はバッファ層として機能する。 - 特許庁
This buffer layer comprises a doped CeO2 layer with dopant, and the CeO2 layer has the YBCO superconductive layer thereon.例文帳に追加
前記バッファ層は、ドーパントでドープしたCeO_2層を含み、前記CeO_2層上にYBCO超伝導層を有する。 - 特許庁
A buffer layer 2 and a one-conductivity type semiconductor layer 3 (an ohmic contact layer 3a, a single layer stressed layer or a stressed superlattice layer 3a and a clad layer (electron injected layer) 3c) are sequentially laminated on a substrate 1.例文帳に追加
基板1上にバッファ層2と一導電型半導体層3(オーミックコンタクト層3a、単層歪み層または歪み超格子層3b、クラッド層(電子の注入層)3c)する。 - 特許庁
A buffer resistor with an infinite resistance value is inserted between the buffer layer and an emitter electrode.例文帳に追加
バッファ層とエミッタ電極との間に無限大の抵抗値を有するバッファ抵抗が挿入される。 - 特許庁
The buffer rubber layer 13 displaces the carcass layer 11 contacting the buffer layer 13 in the radially inner direction so that a cross-sectional length of the carcass layer 11 in the tire width direction is increased.例文帳に追加
緩衝ゴム層13により、相接するカーカス層11をタイヤ半径方向内側に変位させ、カーカス層11のタイヤ幅方向の断面長さを増加させる。 - 特許庁
TERNARY NITRIDE-BASED BUFFER LAYER OF NITRIDE-BASED LIGHT-EMITTING DEVICE AND FORMING METHOD OF THE LAYER例文帳に追加
窒化物系発光装置の三重窒化物系バッファ層及び該層の製造方法 - 特許庁
The buffer layer is formed as a layer including the organic compound and the inorganic compound.例文帳に追加
バッファ層は有機化合物及び無機化合物を含む層として形成される。 - 特許庁
A first dielectric layer is disposed over the buffer layer and over the source interconnect.例文帳に追加
第一の誘電体層はバッファ層及びソース相互接続部上に配置される。 - 特許庁
The protective layer 18 is provided over the coil 13 through a buffer layer 15.例文帳に追加
アンテナコイル13上にバッファ層15を介して保護層18が設けられている。 - 特許庁
The buffer layer buffers the damage of the element when forming a film of the transparent negative electrode layer 19.例文帳に追加
バッファー層は、透明陰極層19の成膜時の素子ダメージを緩衝する。 - 特許庁
To control a heat conduction between a base material layer side and a buffer layer side by preventing an external force or the like to be applied as a load from outside the base material layer side from being transferred to the buffer layer.例文帳に追加
基材層側の外方から負荷される外力等が緩衝層側に伝わることを抑制し、基材層側と緩衝層側との熱伝導を抑制する。 - 特許庁
The N-type buffer layer 6 has a higher impurity concentration than the N^--type drift layer 1.例文帳に追加
N型バッファ層6は、N^−型ドリフト層1よりも高い不純物濃度を持つ。 - 特許庁
An n-type ZnO layer is formed on the surface of an n-type ZnO buffer layer (b).例文帳に追加
(b)n型ZnOバッファ層の表面上に、n型ZnO層を形成する。 - 特許庁
To provide a semiconductor device 36 having an upper part layer 14 and a buffer layer 10.例文帳に追加
上部層14とバッファ層10を有する半導体デバイス36を提供する。 - 特許庁
The buffer layer is disposed on the reserve side of the second base layer, and has a higher impurity concentration than the second base layer.例文帳に追加
バッファ層は、第二のベース層の裏面に設けられ、第二のベース層よりも不純物濃度が高い。 - 特許庁
A current narrowing layer 18 and a buffer layer 19 are formed in an upper DBR layer 15.例文帳に追加
上部DBR層15内に、電流狭窄層18およびバッファ層19が設けられている。 - 特許庁
Between the substrate 22 and the III nitride layer 28, a wet layer 24 and a buffer layer 26 are provided.例文帳に追加
基板22とIII族窒化物層28との間には、湿層24、バッファ層26を設けることができる。 - 特許庁
Steps reflecting steps of the buffer layer 2 exist on the surfaces of the contact layer 3 and the barrier layer 4.例文帳に追加
コンタクト層3及び障壁層4の表面に、バッファ層2のステップを反映するステップが存在する。 - 特許庁
The barrier layer 13 includes pores 13c in the vicinity of an interface 17 between the barrier layer 13 and the buffer layer 16.例文帳に追加
バリア層13は、バリア層13と緩衝層16との界面17近傍に、気孔13cを備える。 - 特許庁
The second buffer layer 15B is provided between the channel layer 16 and an electron transit layer 13.例文帳に追加
さらに、第2バッファ層15Bは、チャネル層16と電子走行層13との間に設けられている。 - 特許庁
Also, on the side opposite to the first base layer of the buffer layer, a second conductivity type collector layer is formed.例文帳に追加
また、バッファ層の第1ベース層とは反対側には第2導電型のコレクタ層が形成される。 - 特許庁
The ultraviolet phosphor thin film 4 has a buffer layer 5 of AlN, a GdN layer 6, and a protective layer 7 of AlN.例文帳に追加
紫外蛍光薄膜4は、AlNのバッファ層5、GdN層6、AlNの保護層7を有している。 - 特許庁
A transistor 21 comprises a low-temperature nucleation layer 23, a gallium nitride buffer layer 25, and a group III nitride layer 27.例文帳に追加
トランジスタ21は、低温核形成層23と、窒化ガリウムバッファ層25と、III族窒化物層27とを備える。 - 特許庁
The substrate, the window layer and buffer layer comprising the device and the light absorbing layer are reused.例文帳に追加
前記基板、該デバイス部を構成する窓層バッファー層及び、光吸収層については再使用する。 - 特許庁
This semiconductor laser 10 has a double-heterojunction multiplayer structure of a 1st buffer layer 14, a 2nd buffer layer 16, an n-type clad layer 18, an active layer/guide layer 20, a p-type clad layer 22, and a p-type cap layer 24 on a substrate 12.例文帳に追加
本半導体レーザ素子10は、基板12上に、第1バッファ層14、第2バッファ層16、n型クラッド層18、活性層/ガイド層20、p型クラッド層22、及びp型キャップ層24のダブルヘテロ接合積層構造を備える。 - 特許庁
The method comprises: a step for growing a nitride buffer layer 21 including aluminum on a sapphire substrate 20; a step for growing a binary nitride buffer layer 22 on the nitride buffer layer 21; and a step for growing a nitride semiconductor layer 23 on the binary nitride buffer layer 22.例文帳に追加
サファイア基板20の上部にアルミニウムを含む窒化物バッファー層21を成長させる段階と、窒化物バッファー層21の上部に二元系窒化物バッファー層22を成長させる段階と、二元系窒化物バッファー層22の上部に窒化物半導体層23を成長させる段階とで構成される。 - 特許庁
A first buffer layer 32 composed of amorphous A1N is grown on the (100) face of an Si substrate 31 by a first buffer-layer growth process, and a second buffer layer 33 composed of A1N as a single crystal is grown on the layer 32 by a second buffer-layer growth process.例文帳に追加
第1バッファ層成長工程によって、Si基板31の(100)面上にアモルファスのAlNからなる第1バッファ層32を成長させた後、第2バッファ層成長工程で、第1バッファ層32の上に単結晶のAlNからなる第2バッファ層33を成長させる。 - 特許庁
Since the source electrode 6 is in ohmic contact with the buffer layer 2, the buffer layer 2 made of an n-GaN layer can be made to have the same potential as the source electrode 6.例文帳に追加
ソース電極6がバッファ層2とオーミック接触しているので、n-GaN層から成るバッファ層2をソース電極6と同電位にすることができる。 - 特許庁
After the carrier concentration of the n-type buffer layer is evaluated in the steps i and ii, a new epitaxial layer is grown by melting back the buffer layer.例文帳に追加
以上の工程によりn型バッファ層のキャリア濃度を評価したのち、該n型バッファ層をメルトバックして新たなエピタキシャル層を成長させる。 - 特許庁
A buffer layer 42 made of an AlN is formed on an SiC substrate 41, and further a Ga layer 43 is deposited on the buffer layer 42 made of the AlN.例文帳に追加
SiC基板41上にAlNからなるバッファ層42を形成し、更に、AlNからなるバッファ層42上にGa層43を堆積させる。 - 特許庁
A drift layer 32 is provided on the buffer layer 31 and is made from silicon carbide having a smaller impurity concentration than the silicon carbide constituting the buffer layer 31.例文帳に追加
ドリフト層32は、バッファ層31上に設けられ、バッファ層31の不純物濃度よりも小さい不純物濃度を有する炭化珪素から作られている。 - 特許庁
To provide a semiconductor wafer and a field effect transistor in which impurities being mixed into a carrier supply layer, a graded buffer layer or a buffer layer is reduced.例文帳に追加
キャリア供給層、グレーデッドバッファ層か、あるいはバッファ層への不純物の混入を減少させた半導体ウェハ及び電界効果トランジスタを提供する。 - 特許庁
1 is the different kind substrate, 2 is a buffer layer grown on the different kind substrate 1 and 3 is the nitride semiconductor crystal layer grown on the buffer layer 2.例文帳に追加
1は異種基板、2は異種基板1上に成長したバッファ層、3はバッファ層2上に成長した窒化物半導体結晶層である。 - 特許庁
A channel layer 12 is disposed on the buffer layer 11 and includes n-type impurities at a concentration higher than the concentration of p-type impurities in the buffer layer 11.例文帳に追加
チャネル層12は、バッファ層11上に位置し、バッファ層11におけるp型不純物の濃度より高い濃度のn型不純物を含む。 - 特許庁
To provide an epitaxial wafer for HBT reducing the lattice distortion of a buffer layer and a substrate, or the buffer layer and a subcollector layer, and to obtain HBT using it.例文帳に追加
バッファ層と基板またはバッファ層とサブコレクタ層の格子ひずみを減少させたHBT用エピタキシャルウェハ及びこれを用いたHBTを得る。 - 特許庁
An n-type GaN buffer layer 1 is used as a common semiconductor layer, and a plurality of mesa regions M are formed in an array shape on the GaN buffer layer.例文帳に追加
n型のGaNバッファ層1を共通の半導体層として、このGaNバッファ層1上に、メサ領域Mが複数、アレイ状に形成される。 - 特許庁
On the multifunctional substrate 120, a nitride-based buffer layer is laminated.例文帳に追加
多機能性基板上には窒化物系バッファ層が積層される。 - 特許庁
The leg 40 comprises a strength core and the tight buffer layer.例文帳に追加
前記レッグ40は強度コアと堅固な緩衝層よりなる。 - 特許庁
The buffer layer 7 is provided on the outer periphery of the composite pipe 6.例文帳に追加
複合管6の外周には、緩衝層7が設けられる。 - 特許庁
A local buffer is provided in an operating system (OS) or application (AP) layer.例文帳に追加
本発明では、OS又はAP層にローカルバッファを設ける。 - 特許庁
Further, the crystal growth of the AlN buffer layer is carried out at high temperature.例文帳に追加
さらに、AlNバッファ層は高温で結晶成長させる。 - 特許庁
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