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c-surfaceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 6175件
The clip 20 and the wire harness C does not project out from the lateral bar 10 in the front surface view.例文帳に追加
クリップ20およびワイヤハーネスCは、前面視で横バー10から食み出していない。 - 特許庁
In the central region C, average surface compressive stress is 15 to 35 MPa.例文帳に追加
中央領域Cは、その平均表面圧縮応力が15〜35MPaである。 - 特許庁
The hardness H4 is greater than the JIS-C hardness H2 of the surface of the center 10.例文帳に追加
硬度H4は、センター10の表面のJIS−C硬度H2よりも大きい。 - 特許庁
The thrust bearing surface C forms a thrust bearing clearance of a first thrust bearing portion T1 between the thrust bearing surface C and the upper end face 8b of a sealing member 8 to be fixed to a shaft member 7.例文帳に追加
このスラスト軸受面Cは、軸部材7に固定されるシール部材8の上端面8bとの間に第1スラスト軸受部T1のスラスト軸受隙間を形成する。 - 特許庁
This surface treatment method is characterized by removing elements from only the surface part of the steel material, in a condition of a vacuum degree of 10^-2-10^-6 Torr and a temperature of 1,000°C±250°C.例文帳に追加
鉄鋼材を真空度10-2Torr〜10-6Torr、温度1000℃±250℃の条件下において表面部のみ脱元素処理することを特徴とする。 - 特許庁
A thrust bearing surface C is formed on the lower end face 5b of the second sleeve portion 5.例文帳に追加
第2のスリーブ部5の下端面5bにはスラスト軸受面Cが形成される。 - 特許庁
After an LTO film is deposited on the surface of a surface channel layer 5 terminated with Si, heat treatment is performed at 700°C-900°C in order to oxidize only Si terminating on the surface of the surface channel layer 5.例文帳に追加
Si終端とした表面チャネル層5の表面にLTO膜をデポジションしたのち、700℃以上かつ900℃以下での熱処理を行うことで表面チャネル層5の表面で終端しているSiのみを酸化させる。 - 特許庁
The distance from an axis C to the insertion part side opposite surface is almost the same as the distance from the axis C to the adapter side opposite surface, and the insertion part side opposite surface and the adapter side opposite surface are allowed to make contact with each other.例文帳に追加
中心軸線Cから挿入部側対向面までの距離は、中心軸線Cからアダプタ側対向面までの距離と略同一とされており、挿入部側対向面とアダプタ側対向面とが接触可能とされている。 - 特許庁
The tire degradation promotion treatment method heats the surface and the inside of the pneumatic tire 1 for at least 24 hours while maintaining an inside temperature at a surface temperature or higher by making the surface and the inside of the pneumatic tire 1 in a non-load state the surface temperature of 40-100 °C and the inside temperature of 60-140 °C respectively.例文帳に追加
無負荷状態の空気入りタイヤ1の表面及び内部を表面温度40〜100℃、内部温度60〜140℃で内部温度を表面温度以上に維持しながら少なくとも24時間加熱する。 - 特許庁
By recessing a first reverse surface 10a, a first recessed surface 10d is formed, which has a conical surface shape with its vertex on the central axis C.例文帳に追加
第1裏面10aを凹ませることにより、中心軸C上を頂点とする円錐面形状の第1凹面10dが形成される。 - 特許庁
Right after a wire C is wired on the surface of a cloth 14 by the wiring roller 17, the adhesive 15 is discharged in a spiral yarn-form state across the upper surface of the wire C, and the wire C is fixed on the cloth 14.例文帳に追加
線材Cを布地14面上に配線ローラ17により配線した直後に、その線材Cの上面をまたいで接着剤15をスパイラル糸状に吐出して線材Cを布地14に固定する。 - 特許庁
In other word, the surface temperature of the dried fish at the end of broiling is about 100-150°C and the inner temperature is about 70-80°C and the broiled fish is spontaneously cooled and shaven at the surface temperature of about 20-30°C.例文帳に追加
即ち焼成完了時点の魚節における表面温度は100〜150℃程度、内部温度は70〜80℃程度であり、削る時点の魚節は自然冷却されて表面温度は20〜30℃ていどである。 - 特許庁
Tg<Ts<Tcc (°C), Tg: glass transition temperature (°C) of polyphenylene sulfide, Ts: surface temperature (°C) of the film on the roll of the lowermost stream of a longitudinal drawing step, Tcc: crystallization temperature (°C) of polyphenylene sulfide.例文帳に追加
Tg<Ts<Tcc(℃)ここで、Tgは前記ポリフェニレンスルフィドのガラス転移温度(℃)、Tsは、縦延伸工程最下流のロール上におけるフィルム表面温度(℃)、Tccは前記ポリフェニレンスルフィドの結晶化温度(℃)である。 - 特許庁
The surface treatment layer 19 is composed of a resin composition containing a low softening point resin, the softening point of which is 90°C or more and less than 140°C, and a high softening point resin, the softening point of which is 140°C or more and 200°C or less.例文帳に追加
表面処理層19は、軟化点が90℃以上140℃未満の低軟化点樹脂と、軟化点が140℃以上200℃以下の高軟化点樹脂とを含む樹脂組成物から構成される。 - 特許庁
After the reduction of the thickness of the metal sheet 3 is completed, the surface of the metal sheet 3 is subjected to mirror surface processing by grinding processing or electrolytic grinding (c).例文帳に追加
減厚の完了後、研磨加工や電解研磨により、金属板3の表面を鏡面加工する(c)。 - 特許庁
A center C of the thickness from the first outer surface 16 to the second outer surface 20 is positioned in the inner part of the second substrate 12.例文帳に追加
第1の外面16から第2の外面20までの厚みの中心Cが、第2の基板12の内部に位置する。 - 特許庁
The plunger holes 61 and 62 are opened to the cam surface in a position overlapped with a part of the cam surface of an exhaust cam 23 in the axial direction of the camshaft C.例文帳に追加
プランジャ孔61,62は、カム軸Cの軸方向で排気カム23のカム面の一部と重なる位置でカム面に開口する。 - 特許庁
Successively the surface is etched and the region except the region covered with the photoresist 13a is made surface roughened (Fig.3 (c)).例文帳に追加
続いて、表面がエッチングされ、フォトレジスト13aによって覆われた領域以外の領域が粗面化される(図3(c))。 - 特許庁
The ring-shaped projection 64 except its upper surface has clearance C to the upper shell 5.例文帳に追加
リング状突出部64の外側面以外は、上胴5に対するクリアランスCを持つ。 - 特許庁
The cutting fluid having surface tension at 25°C from 33 mN/m to 49 mN/m is used.例文帳に追加
25℃の表面張力が33mN/m〜49mN/mにある切削液を用いる。 - 特許庁
ZnO SELF-SUPPORTED CRYSTAL FILM HAVING HIGH C-AXIS ORIENTATION AND HIGH SPECIFIC SURFACE AREA AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
高c軸配向高比表面積ZnO結晶自立膜及びその作製方法 - 特許庁
An applicator 3 applies the solder cream C on the outer peripheral surface 1a of the cylinder body 1.例文帳に追加
塗布装置3が、円筒体1の外周面1aに半田クリームCを塗布する。 - 特許庁
An electric vacuum cleaner 11 is provided with the hose body storage 25 installed between the lighting device 24 and a ceiling surface C.例文帳に追加
照明装置24と天井面Cとの間の位置にホース体収納部25を設ける。 - 特許庁
A substrate W formed with a carbon-based material layer C on the surface is prepared.例文帳に追加
そして、表面にカーボン系材料層Cが形成された基板Wが準備される。 - 特許庁
The inner surface 27b of the clad pipe 27 is cooled by spraying water at 15°C from a piping 23.例文帳に追加
クラッドパイプ内面27bは、配管23から15℃の水を噴霧して冷却する。 - 特許庁
The cut surface C of the veer 24A is electrically connected with the conductive shield layer 7.例文帳に追加
ビア24Aの切断面Cは、導電性シールド層7と電気的に接続されている。 - 特許庁
A testing body 20 was heated with a gas burner 11 and its surface temperature reached 1,000°C after 6 minutes.例文帳に追加
試験体20はガスバーナ11で加熱し、表面は6分後1000℃を達した。 - 特許庁
In the step (C), the surface of the metallic material is irradiated with the light including the ultraviolet light.例文帳に追加
工程(C):金属材料の表面に、紫外線を含む光を照射する工程。 - 特許庁
The mission of MUSES-C is to gather and bring back samples from the surface of an asteroid. 例文帳に追加
ミューゼスCの任務は小惑星の地表の試料を採取して持ち帰ることだ。 - 浜島書店 Catch a Wave
To form a contact electrode on an N-polar surface of an n-type layer through annealing at 350°C or lower.例文帳に追加
n型層のN極性面に350℃以下のアニールでコンタクト電極を形成する。 - 特許庁
Regarding the outside diameter (C) of a target 1 for sputtering, a target surface temperature distribution is considered.例文帳に追加
スパッタリング用ターゲット1の外径(C)は、ターゲット表面温度分布が考慮されている。 - 特許庁
A surface temperature of a jig coating the epoxy resin composition on the substrate is to be 60-95°C.例文帳に追加
エポキシ樹脂組成物を基材に塗布する治具の表面温度を60〜95℃にする。 - 特許庁
The surface layer part can be heated at a higher heating rate by ≥0.5°C/s than the center part in the plate thickness.例文帳に追加
表層部を板厚中央部より0.5℃/s以上高い加熱速度としてもよい。 - 特許庁
To prevent clogging in a clearance between a rolling body and a locus surface in a high temperature condition (200°C).例文帳に追加
高温状態(200℃)における転動体と軌道面との隙間詰まりを防止する。 - 特許庁
A water repellent and oil repellent and low refractive index layer is formed on the surface C of the melamine facing plate.例文帳に追加
メラミン化粧板の表面Cに撥水撥油性・低屈折率層を形成する。 - 特許庁
This inspection device inspects the steel plate deck where paving material C is laid on the surface of a deck plate 101.例文帳に追加
デッキプレート101の表面に舗装材Cの敷設された鋼床版を検査する。 - 特許庁
Furthermore, the portion of the outermost surface at the cutting edge 4r of the chip 100 comprises the C structure.例文帳に追加
また、チップ100の刃先部4rでは、その最表面の部分はC組織からなる。 - 特許庁
Moreover, the emissivity of the surface of the coating layer at 60°C is preferably at least 0.7.例文帳に追加
さらに、60℃におけるコーティング層表面の放射率が0.7以上であると好ましい。 - 特許庁
The piezoelectric actuator 5 is positioned between the spherical recessed surface 21 and the spherical center C.例文帳に追加
圧電アクチュエータ5は、球状凹面21と球状中心Cとの間に配置する。 - 特許庁
By a preliminarily wetting device 15 carriers liquid C is applied on a transfer surface P1 of print base material P.例文帳に追加
プリウェット装置15は、印刷基材Pの転写面P_1 にキャリア液Cを塗布する。 - 特許庁
After treatment with the chemical liquid, the surface of substrate is washed in a hot water (63) of 40°C or higher.例文帳に追加
薬液による処理後、40℃以上の温水(63)を用いて、基板表面を水洗する。 - 特許庁
The bearing is not plastically deformed at about 20°C, and the outer surface of the cylindrical drum always maintains a cylindrical shape at about 70°C.例文帳に追加
この軸受は、約20℃において塑性変形されず、この円筒形ドラムの外面は、約70℃において常に円筒形を維持する。 - 特許庁
Here, h is a heat transfer coefficient (kcal/(m^2°×C×hr)), and ΔT (°C) is a difference between blast temperature and the film surface temperature of the coated film.例文帳に追加
但し、hは、伝熱係数(kcal/(m^2・℃・hr))を表し、ΔT(℃)は、送風温度と塗膜の膜面温度との差を表す。 - 特許庁
The polyester elastomer (A) layer is disposed on a surface layer, with a glass transition temperature of 0-20°C and a crystallization rate index of 20-50°C.例文帳に追加
ポリエステル系エラストマー(A)層は、表層に配されるとともに、ガラス転移温度が0〜20℃、かつ結晶化速度指標が20〜50℃である。 - 特許庁
A leg part 2D arranged in the step 2 is formed with a C-shaped opening part 2C and a side surface part 2E of this C-shaped opening part 2C.例文帳に追加
踏段2に設けられた脚部2Dには、C状開口部2Cと、このC状開口部2Cの側面部2Eが形成されている。 - 特許庁
The surface of a titanium nitride 10 is oxidized in an oxygen plasma process at 150°C or above, or a thermal process in an oxidizing atmosphere at 400°C or above.例文帳に追加
窒化チタン10の表面を、150℃以上での酸素プラズマ処理または酸化雰囲気での400℃以上での熱処理により酸化させる。 - 特許庁
The envelope layer 12 has a difference (H4-H3) between a C hardness H4 at its surface and a C hardness H3 at its innermost portion is equal to or greater than 10.例文帳に追加
包囲層12において、表面のC硬度H4と最内部のC硬度H3との差(H4−H3)は、10以上である。 - 特許庁
A cassette position regulation section 22 is in contact with the outer wall surface of a cassette C and regulates the position of the cassette C to a treatment tank 2 to a prescribed position.例文帳に追加
カセット位置規制部22がカセットCの外壁面に当接して、処理槽2に対するカセットCの位置を所定位置に規制する。 - 特許庁
By these ion beam irradiations, the thin film having c-axis oriented along the orthogonal projection of the ion beam onto the surface of the substrate is formed.例文帳に追加
このようなイオンビーム照射により、基板表面へのイオンビームの正射影に沿ってc軸が配向したに薄膜が形成される。 - 特許庁
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