「chlorine method」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an indium-recovering method which solves problems that some indium deposits when selectively separating only tin from oxides of indium and tin, though the separation is difficult, and a conventional method needs a high cost because of generating a harmful chlorine gas when electrolytically refining indium in a final step if chloride ions remain in a liquid in the refining step, and accordingly requiring a process for separating chloride ions from indium ions.例文帳に追加

インジウムとスズ酸化物からスズのみを選択的分離することは難しく、分離の際一部のインジウムが沈殿してしまうという問題や最終工程においてインジウムを電解精製する際に液中に塩素イオンが残存していると有害な塩素ガスが発生する為、塩素イオンとインジウムイオンを分離する工程が必要でありコスト高になるという問題を解消するインジウム回収方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a low cost high functional calcium ferrite by recycling waste plaster board and a method of effectively using the calcium ferrite as a waste gas treating catalyst for removing sulfur oxides, nitrogen oxides, organic chlorine compounds such as dioxin, or the like in a waste gas or an iron making raw material such as a blast furnace raw material in a iron making process or a solvent for a converter.例文帳に追加

廃石膏ボードのリサイクル処理により安価でかつ機能性の高いカルシウムフェライトを製造する方法、さらには、このカルシウムフェライトを排ガス中の硫黄酸化物、窒素酸化物またはダイオキシン類等の有機塩素化合物等を除去するための排ガス処理用触媒、または、製鉄プロセスにおける高炉用原料、転炉用溶剤などの製鉄用原料として有効活用する方法を提供する。 - 特許庁

This method comprises slurrying the grout comprising the hydroxides of nickel, cobalt and other trivalent metals and containing chlorine, adding sulfuric acid having concentration of at least 50 wt.% to the above slurry to adjust pH in the range of 0-2, and blowing a gas in the solution.例文帳に追加

ニッケル、コバルトその他の３価の金属水酸化物からなりかつ塩素を含む澱物から、低塩素濃度のニッケルとコバルトの混合硫酸水溶液を製造する方法であって、前記澱物をスラリー化した後、該スラリーに、濃度５０重量％以上の硫酸を添加してｐＨを０〜２の範囲に調整し、かつガスを吹込むことを特徴とする低塩素濃度のニッケルとコバルトの混合硫酸水溶液の製造方法などによって提供される。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor device is to etch a polysilicon or silicon using either one out of nitrosyl chloride, nitrile chloride or nitrosyl bromide or using chlorine or bromic base etching gas additionally containing either one out of nitrogen oxide, dinitrogen oxide, nitrogen dioxide, nitrogen trioxide, dinitrogen trioxide, dinitrogen tetroxide, dinitrogen pentoxide.例文帳に追加

本発明にかかる半導体装置の製造方法は、塩化ニトロシル、塩化ニトロイルまたは臭化ニトロシルのいずれかをエッチングガスとして用いたうえで、あるいはまた、一酸化窒素、一酸化二窒素、二酸化窒素、三酸化窒素、三酸化二窒素、四酸化二窒素、五酸化二窒素またはフッ化ニトロシルのいずれかを添加含有させてなる塩素系または臭素系のエッチングガスを用いたうえでポリシリコンまたはシリコンをエッチングすることを特徴としている。 - 特許庁

A durability evaluation method of a coated steel material under a moist environment, preferably in an aqueous solution having a chlorine ion concentration of 0.1 mol/L, determines individually a corrosion potential as a coated steel material and a corrosion potential as a bare steel material for a test material and a reference material under a moist environment and compares these corrosion potentials to determine the durability of the test material against a reference material.例文帳に追加

湿性環境中、好ましくは塩素イオン濃度０．１ｍｏｌ／Ｌ以上の水溶液中で、被覆鋼材の耐久性評価方法であって、湿性環境中で、試験材と基準材について被覆鋼材としての腐食電位と裸鋼材としての腐食電位をそれぞれ求め、これらの腐食電位の比較より試験材の基準材に対する塗装の耐久性の良否を判定することを特徴とする被覆鋼材の耐久性評価方法。 - 特許庁

The method for producing the sterilizing water by electrolyzing chlorine ion solution at a constant voltage using a non-diaphragm electrolytic bath and by diluting the formed electrolytic solution with the dilution water, wherein the electrolytic current is controlled by providing or not providing a raw material for the electrolytic bath, includes controlling the electrolytic current such that the targeted current value depends on a measured flow rate of the dilution water or a measured component concentration of the sterilizing water.例文帳に追加

塩素イオン溶液を、無隔膜電解槽を用いて、一定電圧で電解し、生成した電解液を希釈水で希釈することにより、殺菌用水を生成する方法の中で、電解電流値の制御が、原料を電解槽に供給したり停止することによって行われている方法において、目標電流値が、測定された稀釈水の流量又は殺菌用水の成分濃度に依存するように制御する方法により課題を解決した。 - 特許庁

The method for manufacturing a moisture adsorbent 1 involves forming a metal compound 3 having deliquescence on the surface of a zeolite 2 having at least one kind of metal cation selected from the group consisting of calcium, lithium, potassium, sodium, and magnesium by allowing chemical reaction of the metal cation of the zeolite 2 with at least one kind of gas molecule selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, and chlorine in a vapor phase.例文帳に追加

吸湿剤１の製造方法は、カルシウム、リチウム、カリウム、ナトリウムおよびマグネシウムからなる群より選択される少なくとも一種の金属カチオンを有するゼオライト２の金属カチオンを、塩化水素、硫酸、硝酸および塩素からなる群より選択される少なくとも一種の気体分子と気相中で化学反応させてゼオライト２表面に潮解性を有する金属化合物３を形成させてなる。 - 特許庁

The method for manufacturing the chlorinated vinyl chloride resin comprises suspending a vinyl chloride resin in an aqueous medium, feeding chlorine thereto, and effecting a chlorination reaction of the vinyl chloride resin by ultraviolet irradiation or heat, where a hypochlorite salt is caused to be present in the aqueous medium in the chlorination reaction and the hypochlorite salt is at least one selected among sodium hypochlorite, calcium hypochlorite and potassium hypochlorite.例文帳に追加

水性媒体中に塩化ビニル系樹脂を懸濁させ、これに塩素を供給して、紫外線照射または熱によって塩化ビニル系樹脂の塩素化反応を行う塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法において、塩素化反応時、水性媒体中に次亜塩素酸塩を存在させること、および、前記次亜塩素酸塩が、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カルシウム、次亜塩素酸カリウムから選択される少なくとも一種であることを特徴とする。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device having a silicon substrate which has a silicon nitride film or a silicon oxide film on at least part of its surface and which has an exposed silicon surface, the silicon substrate is placed in a chamber, and a gas containing chlorine, a gas containing hydrogen, and at least either a silane gas or a germane gas are sequentially introduced into the chamber to epitaxilally grow only the silicon surface selectively.例文帳に追加

表面の少なくとも一部にシリコン窒化膜もしくはシリコン酸化膜を有し、かつシリコン表面が露出したシリコン基板を有する半導体装置の製造方法であって、シリコン基板をチャンバー内に挿入し、チャンバー内に、塩素を含むガスと、水素を含むガスと、シラン系のガスまたはゲルマン系のガスの少なくとも一方とを順次導入することにより、選択的にシリコン表面のみにエピタキシャル成長を行う。 - 特許庁

There are provided the method for producing the polyisocyanurate composition, characterized by comprising subjecting pentamethylene diisocyanate having a hydrolysable chlorine concentration of ≤100 ppm to an isocyanurate-producing reaction in the presence of an isocyanurate-producing catalyst and then adding 0.001 to 0.5 pt.mass of a sulfonamide group-containing compound to 100 pts.mass of pentamethylene diisocyanate; and a polyurethane resin using the polyisocyanurate composition.例文帳に追加

加水分解性塩素の濃度が１００ｐｐｍ以下のペンタメチレンジイソシアネートを、イソシアヌレート化触媒の存在下において、イソシアヌレート化反応させ、その後に、ペンタメチレンジイソシアネート１００質量部に対して、スルホンアミド基を含有する化合物０．００１〜０．５質量部を配合することにより、ポリイソシアヌレート組成物を製造し、そのポリイソシアヌレート組成物を用いてポリウレタン樹脂を得る。 - 特許庁

In the plastic sorting method to separate the chlorine containing plastics from the mixture of plastics, it comprises the steps of sorting and collecting plastics with high specific gravity by performing the specific gravity separation, then drying the plastics with high specific gravity sorted and collected and further performing the wet type specific gravity separation of the dried plastics with high specific gravity to sort and collect the plastics of the precipitation side.例文帳に追加

本発明に係るプラスチック選別方法は、プラスチックの混合物から塩素含有プラスチックを分離するプラスチック選別方法であって、先ず比重分離を行い分離された高比重プラスチックを選別収集し、次に選別収集された高比重プラスチックを乾燥し、さらに乾燥された高比重プラスチックの湿式比重分離を行って、沈降側のプラスチックを選別収集することにより実施される。 - 特許庁

The coating method of the polyolefin resin molded goods is characterized by using the undercoating material containing a crosslinking agent consisting of an amino resin and an aqueous dispersed liquid of carboxyl group-containing chlorinated polypropylene system random copolymer in which chlorine content is 5 to 40 weight%, denaturation amount of α,β-unsaturated polycarboxylic acid or its anhydride is 1 to 5 weight% and weight average molecular weight is 50,000 to 300,000.例文帳に追加

塩素含有量が５〜４０重量％、α、β−不飽和多価カルボン酸またはその無水物の変性量が１〜５重量％、重量平均分子量が５０，０００〜３００，０００であるカルボキシル基含有塩素化ポリプロピレン系ランダム共重合体水分散液、およびアミノ樹脂からなる架橋剤を含有する下塗塗料を用いることを特徴とするポリオレフィン系樹脂成形品の塗装方法。 - 特許庁

This contaminated substance decomposition and purification method has a process which decomposes contaminated substances by irradiating the gas to be treated, which is made by incorporating air with chlorine introduced from functional water I, II and the contaminated substances, with light from a photoirradiation means.例文帳に追加

機能水(I)及び(II)より導入された塩素と、汚染物質とを空気に含有させた被処理気体に対して光照射手段からの光を照射することによって該汚染物質を分解する工程を有する汚染物質分解浄化方法において、分解処理後の空気をアルカリ性水溶液に接触させ、塩素含有アルカリ性水溶液とする工程と、該塩素含有アルカリ性水溶液及び前記塩素発生領域中の塩素発生用溶液からの機能水廃液の少なくとも一部を電気分解による機能水形成手段に供給して再生し、機能水(II)を得る再生工程と、を有することを特徴とする汚染物質分解浄化方法。 - 特許庁

The production method includes a process of forming a film consisting of any of an oxide of molybdenum silicon, nitride of molybdenum silicon, oxide nitride of molybdenum-silicon, nitride of silicon and oxide nitride of silicon on a quartz substrate, and a process of forming a phase shift mask pattern by reactive ion etching to selectively etch and remove the film by using an etching gas containing gaseous chlorine.例文帳に追加

石英基板上にモリブデン−シリコンの酸化物、モリブデン−シリコンの窒化物、モリブデン−シリコンの酸窒化物、シリコンの窒化物およびシリコンの酸窒化物のいずれかからなる被膜を形成する工程と、前記被膜を塩素ガスを含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングにより選択的にエッチング除去することにより位相シフトマスクパターンを形成する工程とを具備したことを特徴とする。 - 特許庁

The method for reducing the nitric acid concentration of the plant under cultivation comprises preparing deep sea water whose chlorine concentration and electrical conductance are adjusted to levels lower than safety standards securing the healthy growth of the plant while leaving respective ingredients in the deep sea water intact, and then applying the thus adjusted deep sea water to the plant during a part of or the whole process from its germination to growth.例文帳に追加

海洋深層水に含まれる各成分を残しつつ該深層水の塩素濃度及び電気伝導度を、栽培すべき植物の健全生育を保証する安全基準値以下に調整した調整深層水を準備することと、 上記植物の栽培において、植物の発芽から生育の過程の一部又は全部の過程において上記調整深層水を植物に施用することと、からなる栽培植物の硝酸濃度低減方法。 - 特許庁

In the method of stabilizing waste 20 in a waste disposal site 10, a stabilization promotor 30 comprising at least one selected from hydrogen peroxide, ozone, potassium permanganate, ferric chloride, ferric sulfate and chlorine is fed into the waste 20, and the waste 20 is subjected to oxidation or decomposition or both of them.例文帳に追加

廃棄物処分場１０の廃棄物２０を早期に安定化する方法において、前記廃棄物２０中に、過酸化水素、オゾン、過マンガン酸カリウム、塩化第二鉄、硫酸第二鉄、塩素のうち少なくとも何れかひとつを含む安定化促進剤３０を供給し、前記廃棄物２０に対して、酸化又は分解若しくはその両方の処理を行ったことを特徴とする、廃棄物処分場１０における廃棄物２０の早期安定化方法である。 - 特許庁