「defect cluster」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A cluster generation part 56 has a binary search tree structure and generates a plurality of clusters each being a set of defect factors respectively deriving from the same defect.例文帳に追加

クラスタ生成部５６では、２分探索木の構造を有し、それぞれが同一の欠陥に由来する欠陥要素の集合である複数のクラスタが生成される。 - 特許庁

A cluster-forming part 56 has a binary search tree structure and forms a plurality of clusters which are clusters of the defect elements, respectively derived from the same defect.例文帳に追加

クラスタ生成部５６では、２分探索木の構造を有し、それぞれが同一の欠陥に由来する欠陥要素の集合である複数のクラスタが生成される。 - 特許庁

One or more closed areas wherein any defect exists on each of substrates are extracted, and a group of defects occupying the closed areas is determined as a target defect cluster (S101).例文帳に追加

各基板上で欠陥が存在する閉領域を１個以上抽出して、その閉領域を占める欠陥の群を対象欠陥クラスタとして定める（Ｓ１０１）。 - 特許庁

To provide a disk reading device in which size of data required for defect decision processing (processing which decides existence of defect for each cluster) can be made small as much as possible.例文帳に追加

ディフェクト判定処理（各クラスタについて、ディフェクトの有無を判定する処理）に必要なデータの大きさを極力小さくし得る、ディスク読取装置を提供する。 - 特許庁

Defect information for each ECC block only for a cluster in which it is detected in the first half that defect exists is stored in an area form BP9210 to BP18419 of the latter half.例文帳に追加

後半分のＢＰ９２１０からＢＰ１８４１９までのエリアには、前半分のエリアで欠陥ありとされたクラスタについてのみの、ＥＣＣブロック毎の欠陥情報が格納される。 - 特許庁

A defect data analytic method analyzes the defect distribution state based on defect location coordinates detected by the inspection apparatus and categorizes the defect distribution state into one of distribution feature categories including repetitive defects, aggregate defects, circular distribution defects, radial distribution defects, linear distribution defects, ring or cluster distribution defects and random defects.例文帳に追加

検査装置によって検出された欠陥位置座標に基づいて欠陥の分布状態を解析し、繰り返し欠陥、密集欠陥、円弧状分布欠陥、放射状分布欠陥、線状分布欠陥、環・塊状分布欠陥、ランダム欠陥のうちいずれかの分布特徴カテゴリに分類する。 - 特許庁

To provide a thin steel sheet which is effective to non-clogging of a nozzle when a continuous casting is performed, and prevents the surface defect and the occurrence of rust due to cluster-type inclusion.例文帳に追加

連続鋳造時のノズル詰まりに対して有効で、クラスター状介在物による表面欠陥や発錆の起こりにくい薄鋼板を提供すること。 - 特許庁

The carrier density of the defect cluster 14a of the semiconductor laser 50 is high and its electrical resistance is significantly decreased.例文帳に追加

この半導体レーザ５０の欠陥集合部１４ａは、結晶欠陥が多いことから、キャリア濃度が高くなっており、電気抵抗が有意に低減されている。 - 特許庁

To provide a method for producing high cleanliness steel having little defect caused by inclusion by restraining the development of alumina cluster and fining the inclusion.例文帳に追加

アルミナクラスターの生成を抑制し、かつ介在物を微細化し、介在物に起因する欠陥の少ない高清浄度鋼の製造方法を提供する。 - 特許庁

With the use of the variable index write technique, each data block in a cluster is written in a corresponding sector of a track to which the head encounters when the sector does not have a defect (506).例文帳に追加

可変インデックス書き込み技術を使用して、クラスタの各データ・ブロックを、セクタに欠陥がないときにヘッドが遭遇するトラックの対応するセクタに書き込む(506)。 - 特許庁

A semiconductor laser 50 related to this invention comprises a laminated body 38 including: an active layer 34 on the surface of a GaN single crystal substrate 30; a defect cluster 14a on the rear surface of the GaN single crystal substrate 30; and an electrode 44 electrically connected to the defect cluster 14a on the rear surface.例文帳に追加

本発明に係る半導体レーザ５０は、ＧａＮ単結晶基板３０の表面に活性層３４を含む積層体３８が形成されると共に、ＧａＮ単結晶基板３０の裏面に欠陥集合部１４ａが形成され、且つ、裏面の欠陥集合部１４ａと電気的に接続されるように電極４４が形成されている。 - 特許庁

To maintain conventional capacity of a defect list to achieve compatibility with a conventional device and efficiency of start process even when a defect cluster is increased by increase of the capacity when the capacity is tried to be further increased by multi-layer technique.例文帳に追加

多層技術などにより更に大容量化を行おうとする際に、容量増加に伴うディフェクトクラスタの増加があっても、従来装置との親和性や起動処理の効率化などのために、ディフェクトリストの容量は従来のままで済ませる。 - 特許庁

Accordingly, when a recording track is formed in the shape of spiral and a cluster is a fixed length, effects by the same defect appears cyclically for every several clusters within the range of several tracks.例文帳に追加

このため、記録トラックがスパイラル状に形成され且つクラスタ長が固定とされる場合、数トラックの範囲内では、同じ欠陥による影響は数クラスタごとに周期的に現れる。 - 特許庁

The wafer evaluation method is characterised in that a wafer to be evaluated is dipped in an etchant formed of ammonia and hydrogen peroxide for a long period of time, and thereafter, a defect corresponding to the pit cluster is evaluated using a light scattering-method particle counter or a defect of 0.3 μm or above is evaluated.例文帳に追加

被評価ウエーハをアンモニア−過酸化水素水からなるエッチング液に長時間浸漬し、その後、光散乱方式のパーティクルカウンターを用いピットクラスターに相当する欠陥を評価するか、または０．３μｍ以上の欠陥を評価するようにした。 - 特許庁

In the disk reading device reading information from a disk having a plurality of clusters for recording dividedly information and having also substitute clusters in which the information is recorded instead of the cluster in which defect exists, the disk reading device has such constitution that first processing in which bit map data where existence of defect for each cluster on the disk is displayed with a bit map form is generated is performed.例文帳に追加

情報が分割記録されるための複数のクラスタを有する一方、ディフェクトのあるクラスタに代わって前記情報が記録される代替クラスタをも有するディスクから、前記情報を読み取るディスク読取装置において、前記ディスク上の各クラスタについてのディフェクトの有無をビットマップ形式で表す、ビットマップデータを生成する、第１処理を実行する構成のディスク読取装置とする。 - 特許庁

To produce a high cleanliness steel having little deoxidation products and little defect caused by the deoxidation products by deoxidizing molten steel without producing large cluster state deoxidation products and fining and dispersing the oxides.例文帳に追加

大型のクラスター状脱酸生成物を生成させることなく溶鋼を脱酸し、酸化物を微細化して分散させ、脱酸生成物や脱酸生成物に起因する欠陥の少ない高清浄度鋼を製造する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer and a method for manufacturing thereof, in which neither a COP nor a dislocation cluster is contained, a defect (grown-in defect containing oxide silicon) like oxygen precipitation nucleus which exists in an OSF nucleus and P_V region not actualized in an as-grown state is disappeared or reduced.例文帳に追加

ＣＯＰや転位クラスターが含まれず、ａｓ−ｇｒｏｗｎ状態では顕在化していないＯＳＦ核やＰ_V領域に存在する酸素析出核のような欠陥（酸化シリコンを含むｇｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥）が消滅もしくは低減されているシリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Defect information for each cluster consisting of continuous 4ECC blocks is stored in an area from BPO to BP9209 in the first half out of area from first byte position BPO to 18420th byte position BP18419.例文帳に追加

１番目のバイト位置ＢＰ０から１８４２０番目のバイト位置ＢＰ１８４１９までのうち、前半分のＢＰ０からＢＰ９２０９までのエリアには、連続する４ＥＣＣブロックからなるクラスタ毎の欠陥情報が格納される。 - 特許庁

In the extraction of planning pattern data, a predetermined range of respective X and Y including defect coordinates is calculated at every defect by a control calculator 110 and a cluster or cell data wherein the origin is present within a predetermined range is subsequently extracted from the planning pattern data read from a first magnetic disk drive 109a to form an output file.例文帳に追加

設計パターンデータの抽出は、欠陥一つ毎に、制御計算機１１０が欠陥座標を包含するＸ、Ｙそれぞれの所定範囲を算出し、次いで、第１の磁気ディスク装置１０９ａから読み出した設計パターンデータから、所定範囲内に原点が存在するクラスタまたはセルデータを抽出して出力ファイルを作成する。 - 特許庁

This easily provides an ohmic contact between the GaN single crystal substarte 30 and the electrode 44 to decrease a drive voltage in the semiconductor laser 50 related to this invention with the electrode 44 formed to the defect cluster 14a.例文帳に追加

そのため、この欠陥集合部１４ａに電極４４を形成した本発明に係る半導体レーザ５０においては、ＧａＮ単結晶基板３０と電極４４との間でオーミックコンタクトが取りやすくなっており、それにより駆動電圧の低減が実現されている。 - 特許庁

The historical defect list 8 is created for each wafer 1 and comprises a coordinates position, the number of detects, size, a cluster information, an index information of an image capturing, and the like of each defects for every inspection processes 31, 32, etc., and 3N, and every information in relation to the defects of the wafer.例文帳に追加

この欠陥来歴リスト８は、ウエハ１毎に作成され、各検査工程３_1,３_2,……,３_N毎に分けて夫々の欠陥の座標位置や検出数，大きさ，クラスタ情報，画像取得のインデックス情報などからなり、当該ウエハでの欠陥に関する全ての情報を含んでいる。 - 特許庁

The defect is formed in units of clusters, and formed by mixing at least, any two patterns among a first pattern formed by turns for each cluster, a second pattern formed of continuous clusters, and a third pattern formed of a specific part of an optical disk for each track or for each several tracks.例文帳に追加

欠陥は、クラスタ単位で形成され、かつ、１クラスタ毎に交互に形成される第１パターンと、連続したクラスタに形成される第２パターンと、光ディスクの特定部位に１トラック毎あるいは数トラック毎に形成される第３パターンのうち、少なくともいずれか２つのパターンを混在させて形成される。 - 特許庁

The temporary defect management area includes a portion where a defective area list 1 constituted of clusters succeeded in first writing, a defective area list 2 constituted of clusters succeeded in writing retrial, and a defective area list 3 included in a last cluster including the structure information area are arrayed in order.例文帳に追加

この一時的欠陥管理領域には、最初の書き込みで、書き込みに成功したクラスタからなる欠陥領域リスト(1)、書き込みのリトライで、書き込みに成功したクラスタからなる欠陥領域リスト(2)、前記構造情報を含む最後のクラスタに含まれる欠陥領域リスト(3)の順に並べられている部分がある。 - 特許庁