「feature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The shape of each calibration pattern has already been known and four feature points (the vertexes of a square) are included each.例文帳に追加

各校正パターンの形状は既知であり、夫々、４つの特徴点（正方形の頂点）を含む。 - 特許庁

This pattern recognition system has a convolutional neural network employing feature extraction layer and classfier layer.例文帳に追加

特徴抽出層および分類層を使用する、重畳型ニューラルネットワークを有するパターン認識システム。 - 特許庁

In the pattern recognition system, the feature extraction layer comprises convolutional layers, and the classfier layer comprises fully connected layers.例文帳に追加

パターン認識システムは特徴抽出層は重畳層を含み、分類層は完全接続層を含む。 - 特許庁

To provide an image processing method which can improve accuracy of detecting a feature pattern in an image.例文帳に追加

画像内の特徴パターンの検出精度を高めることができる画像処理方法を提供する。 - 特許庁

The image analysis section 121 detects at least one feature pattern by analyzing an input image.例文帳に追加

画像解析部１２１は、入力画像を解析して少なくとも１つの特徴パターンを検出する。 - 特許庁

Then, the part where the data pattern of the feature part is detected is indexed by a marking part 15.例文帳に追加

そして、特徴箇所のデータパターンが検出された箇所には、マーキング部１５において索引付けを行う。 - 特許庁

METHOD AND PROGRAM OF EXTRACTING FEATURE FROM WAVEFORM PATTERN DATA FOR INSPECTING WHETHER ARTICLE IS ACCEPTABLE例文帳に追加

波形パターンデータから製品の良品・不良品の検査のための特徴を抽出する方法及びプログラム - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE SYSTEM FOR DIMENSION MEASUREMENT, AND EVALUATION SYSTEM OF CIRCUIT PATTERN FEATURE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

寸法計測走査型電子顕微鏡システム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR PROVIDING OPTICAL PROXIMITY FEATURE TO RETICLE PATTERN FOR PHOTOLITHOGRAPHY OF DEEP SUB-WAVELENGTH例文帳に追加

ディープ・サブ波長の光リソグラフィのためのレチクル・パターンに光近接フィーチャを提供する方法および装置 - 特許庁

To provide a method of feature prediction by which accuracy of feature prediction can be improved regardless of the pattern feature and analysis efficiency can be improved, and to provide a method of manufacturing a photomask, a method of manufacturing electronic components and a program for feature prediction.例文帳に追加

本発明は、パターンの形状にかかわらず形状予測の精度を向上させることができ、かつ解析効率を向上させることができる形状予測方法、フォトマスクの製造方法、電子部品の製造方法、および形状予測プログラムを提供する。 - 特許庁

A gray scale light proximity effect compensating device feature conducts the convolution of a device feature and two-dimensional compensation kernel or two one-dimensional compensation kernel, added to a mask pattern by generating an OPC feature of the gray scale.例文帳に追加

グレースケール光近接効果補正デバイスフィーチャは、デバイスフィーチャと２次元補正カーネル又は２つの１次元補正カーネルとの畳み込みを行いグレースケールのＯＰＣフィーチャを生成することによりマスク・パターンに追加される。 - 特許庁

When the feature vectors of the noisy pattern signal are received later, multiplication by the best scaling vector for the feature vectors is performed and the best correction vector is added to the product to generate a noise-reduced feature vector.例文帳に追加

後にノイズ含有パターン信号の特徴ベクトルを受け取ったときに、当該特徴ベクトルに対する最良のスケーリング・ベクトルと乗算し、最良の補正ベクトルを積に加算して、ノイズ低減特徴ベクトルを生成する。 - 特許庁

If it is below a predetermined value, pattern matching processing is selected and a basic vehicle pattern is read out (step S201) and then a feature point is determined by pattern matching (step S202).例文帳に追加

Ｙ座標値が所定値以下である場合はパターンマッチング処理を選択し、基本車両パターンを読み出して（ステップＳ２０１）パターンマッチングにより特徴点を求める（ステップＳ２０２）。 - 特許庁

To detect an accurate pattern position in a short computation time period without preparing an abstraction pattern by determining the feature quantity of an image, in the pattern position detection of image data.例文帳に追加

画像データのパターン位置検出において、画像の特徴量を求めて抽象化パターンを作成することなく短い計算時間で、精度の良いパターン位置を検出すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming material excellent in follow-up feature for unevenness of a base material surface and capable of forming a high definition pattern excellent in tenting property and uniformity of etching, a pattern forming apparatus equipped with the pattern forming material, and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

基体表面の凹凸追従性に優れ、かつ、テント性及びエッチングの均一性に優れた高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To accurately detect an object pattern at high speed by extracting a partial region to perform pattern collation, referring to a feature distribution map prepared from the feature detection of an object.例文帳に追加

本発明は、被写体の特徴検出から作成した特徴分布マップを参照し、部分領域を抽出してパターン照合を行うことで、高速かつ精度よく被写体パターンを検出することを目的とする。 - 特許庁

A feature extracting operator having a feature extraction pattern including a defect to be detected is held in advance and scanned to detect a defect image.例文帳に追加

あらかじめ検出すべき欠陥を含む特徴抽出パターンを有する特徴抽出演算子を保持しておき、これを走査することによって欠陥画像を検出する。 - 特許庁

The feature extracting means 50 reads data from the measured data recording means 20 and a measured data pattern recording means 40 to perform feature extraction for appliance determination.例文帳に追加

特徴抽出手段５０は、計測データ記録手段２０および計測データパターン記録手段４０からデータを読み出して、器具判定用の特徴抽出を行う。 - 特許庁

The feature point determination processing part 145 determines a feature point corresponding to a component end point on the basis of a positional relationship of candidate points and an arrangement pattern of features of candidate points.例文帳に追加

特徴点判定処理部１４５は、候補点の位置関係、および、候補点の特徴の配列パターンに基づいて、部品の端点に対応する特徴点を判定する。 - 特許庁

Based on the feature value patterns Fmax and Fmin, a discriminator 17 identifies whether the intruder enters a detection area by using a reference feature value pattern representing entry time of the intruder, and a reference feature value pattern representing non-entry time of the intruder.例文帳に追加

識別器１７は特徴量パターンＦｍａｘ，Ｆｍｉｎに基づいて、侵入物の侵入時を表す参照特徴量パターンと、侵入者の非侵入時を表す参照特徴量パターンとを用いて、検知領域に侵入者が侵入したか否かを識別する。 - 特許庁

The image matching point detection device 10 includes a pattern detection unit 11, a pattern storage unit 12, a feature point extraction unit 13, and a matching point detection unit 14.例文帳に追加

画像一致点検出装置１０は、パターン検出部１１と、パターン蓄積部１２と、特徴点抽出部１３と、一致点検出部１４とを有する。 - 特許庁

To provide a parallax sensor and a method of generating a parallax image for obtaining only a feature pattern of an object by deleting a band-like pattern or the like.例文帳に追加

帯状のパターン等を削除して、対象物の特徴パターンのみを得ることのできる視差センサおよび視差画像の生成方法を提供する。 - 特許庁

To flexibly generate a rhythm pattern with a specified feature and rhythm patterns which are similar and contradictory to an inputted motif rhythm pattern with simple constitution.例文帳に追加

指定された特徴を有するリズムパターンや、入力されたモチーフリズムパターンに類似／対比的なリズムパターンを簡単な構成で柔軟に生成する。 - 特許庁

A variation calculating part 11 calculates a variation in the projection pattern as a feature quantity by applying differential processing to this formed projection pattern.例文帳に追加

変化量算出部１１はこの生成された射影パターンに対し微分処理を施すことにより射影パターンの変化量を特徴量として算出する。 - 特許庁

Feature parameters are calculated based on an ability parameter calculated based on the execution of the game and the change pattern (hereinafter, referred to as a selection pattern).例文帳に追加

ゲームの実行により演算される能力パラメータと、プレーヤが選択した変化パターン（以下、選択パターンという）と、に基づいて、特徴パラメータが演算される。 - 特許庁

When a pattern element or a point between two pattern elements is designated on a two-dimensional drawing (S4 or S8), a dimension which characterizes a feature is calculated (S5 or S9) based on the kind of feature related to the designated pattern element or point (S1 and S2).例文帳に追加

二次元図面上で図形要素又は２つの図形要素間の点を指定すると（Ｓ４又はＳ８）、指定された図形要素又は点に関連付けられたフィーチャの種類に基づいて（Ｓ１及びＳ２）、フィーチャを特徴付ける寸法が演算される（Ｓ５又はＳ９）。 - 特許庁

A feature pixel extraction part 20 obtains a dot pattern by binarizing an image contained in a subject as a detection target.例文帳に追加

特徴画素抽出部２０は、検出対象を被写体に含む画像を二値化してドットパターンを取得する。 - 特許庁

The time change of such a parameter is compared with a standard pattern as feature data and the vocal sound is recognized.例文帳に追加

このようにして得たパラメータの時間変化を特徴データとして標準パターンと比較して音韻を認識する。 - 特許庁

The feature data includes data about a pixel frequency in the horizontal direction, that in the vertical direction, and a zero cross pattern frequency.例文帳に追加

この特徴データには、水平方向と垂直方向のピクセル頻度とゼロクロスパターン頻度のデータが含まれる。 - 特許庁

COEFFICIENT DETERMINING METHOD, FEATURE EXTRACTING METHOD, ITS SYSTEM, ITS PROGRAM, PATTERN COLLATING METHOD, ITS SYSTEM, AND ITS PROGRAM例文帳に追加

係数決定方法、特徴抽出方法、システム及びプログラム、並びにパタン照合方法、システム及びプログラム - 特許庁

The position of a patterning layer is determined using positions of pattern feature for the patterning layer in the images (704).例文帳に追加

画像内のパターン化層に対するパターン特徴の位置を使用してパターン化層の位置が決定される（７０４）。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacture automating technique for analyzing a pattern feature formed on a semiconductor layer.例文帳に追加

半導体層上に形成されたパターン・フィーチャを解析するための半導体製造自動化手法を提供する。 - 特許庁

To extract pixel feature values which are effective for identifying an object having scarce repeated pattern, from image data.例文帳に追加

画像データから、繰り返し模様が乏しい物体の識別に有効な画素特徴量を抽出すること。 - 特許庁

First, a pattern of two chemically distinct feature types having a pitch P1 comparable to product features is formed.例文帳に追加

第一に、プロダクトフィーチャと同等のピッチＰ１を有する２つの化学的に異質のフィーチャタイプのパターンを形成する。 - 特許庁

Its feature is that the tune is changed into the Banshiki-cho (a scale similar to Dorian mode on B) following the Oroshi pattern (an element that mainly concerns the slowing of tempo in all the instruments and a lowering of the melodic line of the nokan, or Noh fue) in the first section. 例文帳に追加

初段のオロシ以降が盤渉調に転調するのが特色である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A feature motion analyzing means 17 analyzes a time-sequential change of images of the extracted features, based on feature motion analysis information from a feature motion analysis information knowledge 18 and predicts a point of time when the images of the feature nearly matches a desired photographic pattern.例文帳に追加

特徴点動作解析手段１７は、抽出された特徴点の画像の時系列変化を、特徴点動作分析情報知識１８からの特徴点動作分析情報に基づいて分析し、その特徴点の画像が所望の撮影パターンと略一致する時点を予測する。 - 特許庁

A collation part performs first collation for collating a first feature which does not change with age among the features of the input pattern with a template pattern, and second collation different from the first collation for collating a second feature which changes with age among the features of the input pattern with the template pattern.例文帳に追加

照合部は、入力パターンの特徴の中で経時変化しない第一の特徴を、テンプレートパターンと照合する第一の照合と、第一の照合とは異なる照合であって、入力パターンの特徴の中で経時変化する第二の特徴を、テンプレートパターンと照合する第二の照合とを行う。 - 特許庁

To properly search a Mahalanobis distance calculating pattern characteristics quantity, suitable for a pattern classifying process so as to provide a search process for a pattern characteristic quantity weighing matrix assigning weights to a pattern feature quantity used for calculating the Mahalanobis distance.例文帳に追加

パターン分類処理に好適なマハラノビス距離算出用パターン特徴量を最適探索して、マハラノビス距離算出に利用するパターン特徴量に重み付けするパターン特徴量重み付け行列の探索処理を持つようにする。 - 特許庁

Plural second feature points corresponding to the first feature points 121 are arranged on an image (a second image) on which sewing of the embroidery pattern is desired, and plural second split regions are formed by line segments connecting between the second feature points.例文帳に追加

刺繍模様の縫製を望む画像（第二画像）上に、第一特徴点１２１に対応する第二特徴点が複数配置され、第二特徴点を結ぶ線分によって、複数の第二分割領域が形成される。 - 特許庁

A noise pattern generated by a printer is noticed as feature data of the film to be registered in the database, and by using the noise pattern as the feature data, calculation simplification and the small capacity of the database are realized.例文帳に追加

そして、このデータベースに登録するフィルムの特徴データとして、プリント装置で発生するノイズパターンに着目し、このノイズパターンを特徴データとして用いることにより、計算の簡易化とデータベースの小容量化を実現する。 - 特許庁

A relative position distribution feature of an input pattern is extracted from time-series coordinate point information and distance between the relative position distribution feature of the input pattern and relative position distribution features of each registered character is calculated to select character candidates.例文帳に追加

時系列の座標点情報から入力パターンの相対位置分布特徴を抽出し、その入力パターンの相対位置分布特徴と各登録文字の相対位置分布特徴の距離を計算して文字候補を選定する。 - 特許庁

A comparison object waveform segmentation part 29 generates a comparison object data pattern as the data pattern of the section which is equivalent to the feature section including the prescribed time by using each pattern start time as a reference.例文帳に追加

比較対象波形切り出し部２９は、それぞれのパターン開始時刻を基準として、所定の時刻を含む前記特徴区間に相当する区間のデータパターンである比較対象データパターンを生成する。 - 特許庁

A recognition processing part 303 recognizes corresponding phonemes by collating the feature parameter extracted by the feature extraction part 302 with the standard pattern data and outputs a recognition result.例文帳に追加

認識処理部３０３は、特徴抽出部３０２で抽出された特徴パラメータと標準パターンデータを照合することで、対応する音韻を認識し、認識結果を出力する。 - 特許庁

To provide a feature extraction method that can extract features of a waveform pattern present between adjacent sample lines without increasing the number of feature quantities.例文帳に追加

特徴量の数を大きくすることなく、隣接する標本線の間に存在する波形パターンの特徴の抽出等を行うことができる特徴抽出方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a pattern forming material which is excellent in operability and follow-up feature for unevenness of a base material surface, can prevent the sensitivity of a photosensitive layer from lowering, and can form a high precision pattern, and to provide a pattern forming device provided with the pattern forming material and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

操作性、及び基体表面の凹凸追従性に優れ、かつ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁