「feature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

A character pattern candidate network feature giving means 4 gives a result of sending each character pattern candidate constituting this network to a character recognizing means 5 which recognizes the candidate to the pertinent node of this network, and gives a result of collating the recognizing result of each node with a word dictionary 6 to each node of this network.例文帳に追加

文字パターン候補ネットワーク特徴付与手段４は、該ネットワークを構成する各文字パターン候補を文字認識手段５に送って認識させた結果を該ネットワークの該当ノードに付与し、この各ノードの認識結果を単語辞書６と照合した結果を該ネットワークの各ノードに付与する。 - 特許庁

In addition, it is effective that a feature pattern used in the case of specifying a low resolution dictionary image corresponding to the character image is clustered into a plurality of groups and stored in a data base, and that the low resolution dictionary image corresponding to the character image is specified using a representative pattern of each group.例文帳に追加

また、文字画像に対応する低解像度辞書画像を特定する際に用いる特徴パターンは、複数のグループにクラスタリングしてデータベースに格納し、各グループの代表パターンを用いて文字画像に対応する低解像度辞書画像を特定するのも有効である。 - 特許庁

The matching part 34 performs pattern matching by matching the LPC cepstrum coefficients outputted from the feature parameter reverse output part 36 against a recognition dictionary in backward tree structure stored in a standard pattern storage part 33 backward to compute similarities.例文帳に追加

照合部３４では、特徴パラメータ逆向き出力部３６から出力されたＬＰＣケプストラム係数を、標準パターン格納部３３に格納されている後向き木構造化された認識辞書に対して後ろから逆に照合してパターンマッチングを行い、類似度を計算する。 - 特許庁

The correction value updating means updates data of the LUT by using correction pattern data that the user setting means selects out of pieces of correction pattern data and also updates the data of the LUT in frame units by using the luminance mean value of the picture found in frame units by the feature detecting means.例文帳に追加

補正値更新手段は、複数の補正パターンデータからユーザ設定手段が選択した補正パターンデータを用いてＬＵＴのデータを更新し、また、特徴検出手段がフレーム単位で求めた映像の輝度平均値を用いてＬＵＴのデータをフレーム単位で更新する。 - 特許庁

To provide a new photosensitive resin composition to be used for a reflow or resist peeling process during the back-end-of-line in a semiconductor manufacturing process, and to provide a method for producing a cured relief pattern by using the composition, the pattern having sufficient durability against a flux or a solvent and having no angular portion in a side wall feature.例文帳に追加

半導体後工程のリフロー又は及びレジスト剥離工程において使用される新規感光性樹脂組成物、及び該組成物を用いたフラックスや溶剤に対して充分な耐性を持ちかつ側壁形状に角のない硬化レリーフパターンの製造方法の提供。 - 特許庁

An information processing system 10 extracts the plurality of patterns of subtrees from an information group with a tree structure, and generates the feature information of each of those extracted patterns, and classifies the patterns on the basis of the generated feature information of each of those patterns, and generates display information for displaying each pattern according to the classification result.例文帳に追加

情報処理システム１０は、木構造の情報群から部分木の複数のパターンを抽出し、抽出された各パターンの特徴情報を生成し、生成された各パターンの特徴情報に基づいて、当該各パターンを分類し、その分類結果に応じて各パターンを表示する表示情報を生成する。 - 特許庁

The multi-viewpoint image correction device is capable of extracting feature information on the main image and the sub image, generating the parallax vector between the main image and the sub image by pattern comparison of feature information, and correcting the broken image occurring in the sub image by use of the parallax vector and the main image.例文帳に追加

本発明は、主画像と副画像の特徴情報を抽出し、特徴情報のパタン比較により、主画像と副画像の視差ベクトルを生成し、上記視差ベクトルと主画像を用いて、副画像内に発生した破損画像を補正することの出来る多視点画像補正装置に関するものである。 - 特許庁

This speaker adopting device calculates recognition result reliability by a recognition result reliability computing means 101, using a speech recognition result 2006 for speaker adoptive learning which is an output of a collating means 2003, a speech feature parameter which is an output of a speech feature parameter extracting means 2002, and a standard pattern 2004.例文帳に追加

認識結果信頼度演算手段１０１によって、照合手段２００３の出力である話者適応学習用音声認識結果２００６と音声特徴量抽出手段２００２の出力である音声特徴量と標準パタン２００４を用いて認識結果信頼度を計算する。 - 特許庁

An image processor has a pixel array selection section which selects a pixel array in a direction corresponding to a first direction as an object pixel array from object image data, and a feature part search section which searches for an image of a predetermined feature part of the predetermined pattern within a range of predetermined part of the object pixel array.例文帳に追加

画像処理装置は、対象画像データから第１の方向に対応する方向に沿った画素列を対象画素列として選択する画素列選択部と、対象画素列の所定の一部の範囲において所定のパターンにおける所定の特徴部分の画像を探索する特徴部分探索部とを有する。 - 特許庁

This analysis system is provided with a transformation and extraction part 11 for obtaining a feature amount by wavelet-transforming electrocardiogram waveform data and extracting a maximum value or a minimum value from the feature amount and a pattern analysis part 12 for extracting the target waveform included in the electrocardiogram waveform by pattern-analyzing the maximum value or the minimum value extracted in the transformation and extraction part 11.例文帳に追加

本解析システムは、心電図波形データをウェーブレット変換して特徴量を求め、この特徴量から極大値または極小値を抽出する変換抽出部１１と、この変換抽出部１１にて抽出された極大値または極小値をパターン分析することにより、心電図波形に含まれる目的波形を抽出するパターン分析部１２とを備えて構成されている。 - 特許庁

With respect to the array substrate for an in-plane switching mode liquid crystal display device, a structure which is manufactured through four mask steps and exposes semiconductor layers at both sides of a data line has a first feature that a first blocking pattern for blocking light is formed under the semiconductor layer, and a second feature that a second blocking pattern for blocking an influence of the semiconductor layer is formed over and in contact with the data line.例文帳に追加

本発明による横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、第１特徴は、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、第２特徴は、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 - 特許庁

A method includes forming an imprint on a medium to be imprinted, having a pattern feature and a decreased thickness area, making a template contact the medium to be imprinted on a substrate, separating the template from an imprinted medium, and after the template has been separated from the imprinted medium, providing a layer of an etching resistance material in a pattern feature.例文帳に追加

インプリント方法が開示され、一実施例において、パターン・フィーチャと低減された厚みのエリアとを備えるンプリント可能な媒体にインプリントを形成するために、基板上のインプリント可能な媒体にテンプレートを接触させることと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離することと、テンプレートをインプリントされた媒体から分離した後に、パターン・フィーチャにエッチ抵抗材料の層を備えることとを含む。 - 特許庁

The game feature of operating the pattern reel by performing the pressing operation to the handle 18 is provided to the player during the special performance, such that the player positively and continuously grasps the handle 18 during the special performance.例文帳に追加

遊技者には、特別演出中にハンドル１８に対して押圧操作を行うことにより図柄リールを操作する遊技性が提供されるので、特別演出中にハンドル１８を積極的に持たせ続けることができる。 - 特許庁

Upon processing a chromium film M1 on a glass substrate GS, a real pattern and a SRAF (sub-resolution assist feature) are separately drawn in resists having opposite relations of positive/negative properties to each other and the chromium film M1 is consecutively processed by two lithographic processes.例文帳に追加

ガラス基板ＧＳ上のクロム膜Ｍ１の加工に際し、実パターンとＳＲＡＦとをポジ／ネガが互いに逆の関係にあるレジストに個別に描画し、２つのリソグラフィ工程でクロム膜Ｍ１を順次に加工する。 - 特許庁

To provide an image recognition device capable of accurately detecting an object without an increase in calculation amount even in the recognition of a complicated object, to perform subsequent processing such as the extraction of a feature quantity or pattern recognition.例文帳に追加

複雑な対象を認識する場合にも、計算量を増大せずに正確に対象を検出して、特徴量の抽出やパターン識別といった後続の処理を行える画像認識装置を提供する。 - 特許庁

The magnetic recording disk which has the pre-patterned surface feature of elevated lands and recessed grooves or trenches, such as a discrete track medium (DTM) or a bit pattern medium (BPM) disk, possesses the planarized surface.例文帳に追加

ディスクリートトラック媒体（ＤＴＭ）またはビットパターン媒体（ＢＰＭ）ディスクなどの、隆起ランドと凹状の溝またはトレンチの予めパターン化された表面特徴を有する磁気記録ディスクが、平坦化された表面を有する。 - 特許庁

To provide an image processing procedure design expert system having a feature in evaluation processing capable of enhancing stability of constitution for a processing procedure without preparing a sample pattern accurately one picture element unit by one picture element unit.例文帳に追加

サンプル図形を１画素単位で正確に作成しなくても、処理手順の構成の安定性を向上することができる評価処理に特長をもつ画像処理手順設計エキスパートシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor inspection device/method for displaying a feature amount so that determination of propriety of a manufacture result of a circuit pattern in inspection of a semiconductor manufacture process becomes easy.例文帳に追加

半導体製造プロセスの検査における回路パターンの製造結果の良否の判定が容易となるように、特徴量を表示することができる半導体検査装置、及び半導体検査方法を提供する。 - 特許庁

To feature the coupling of a flexible printed board, and provide such structure that a wiring pattern made in a coupling does not break by rotation between the main body and the cover, and also to improve the work efficiency.例文帳に追加

フレキシブルプリント基板の連結部に特徴を設け、本体部と蓋部の回動により、連結部に形成されている配線パターンが断線しないような構造を提供し、また作業性を良好にすること。 - 特許庁

Then the type of the plane plate is decided according to the number of pixels at the part overlapping with the black area by inspection lines and feature quantities of the appearance pattern, etc., of pixels overlapping with the black area by the inspection lines.例文帳に追加

そして、各検査線毎に黒色領域と重複する部分の画素数、各検査線毎に黒色領域と重複する画素の現出パターン等の特徴量に基づいて平面プレートの型式を判定する。 - 特許庁

A slip format is registered by performing filtering for weakening the feature in the prescribed part of inputted document information (1), extracting the feature values of a ruled line pattern from filtered document information (2) and registering the extracted featured values of the ruled line s format information of the document.例文帳に追加

帳票フォーマットの登録は、（１）入力された帳票情報の所定部分に、特徴を弱めるフィルタリングを実行し、（２）前記フィルタリングを実行した帳票情報から罫線パターンの特徴量を抽出し、（３）抽出された罫線パターンの特徴量を当該帳票のフォーマット情報として登録することにより行う。 - 特許庁

This method for discriminating the direction of defocusing of an exposure device for exposing a resist, includes an imaging step of imaging a resist pattern, formed by exposing by the exposure device to obtain image data, an extraction step of extracting feature data of the image data, and a discrimination step of discriminating the defocus direction, based on the feature data.例文帳に追加

レジストを露光する露光装置のデフォーカスの方向を判別する判別方法であって、前記露光装置による露光を介して形成されたレジストパターンを撮像して画像データを得る撮像ステップと、前記画像データの特徴データを抽出する抽出ステップと、前記特徴データに基づいて、前記デフォーカス方向を判別する判別ステップとを有する。 - 特許庁

In a reference pattern extraction method, a reference pattern having a unique signal feature is extracted in a region to be measured having an area that is smaller than that of a prescribed region optionally set into the prescribed region on an object having a plurality of prescribed regions where essentially identical machining is made.例文帳に追加

実質的に同一の加工が施された複数の所定領域を有する物体上の該所定領域内に任意に設定される該所定領域よりも小さい面積を有する被計測領域内でユニークな信号特徴を有する基準パターンを抽出する基準パターン抽出方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for laser direct drawing exposure, which allows the formation of a resist pattern having high sensitivity, an excellent resist feature, a preferable resolution, an adhesion property and a release property in laser direct drawing exposure, and to provide a photosensitive element, a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

レーザ直接描画露光において高感度で、レジスト形状に優れ、解像度、密着性及び剥離性が良好なレジストパターンを形成することが可能なレーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

An information processor acquires a sample of a feature vector of a pattern belonging to a class in every class recognized by the pattern recognizer, displays an input screen for receiving an input of a real number value as a value m for defining in class dispersion, on a display, and acquires the value m from an interface (S130).例文帳に追加

情報処理装置は、パターン認識装置にて認識するクラス毎に、当該クラスに属するパターンの特徴ベクトルのサンプルを取得すると共に、クラス内分散を定義付ける値ｍとして、実数値の入力を受け付けるための入力画面を表示装置に表示し、ユーザインタフェースから、値ｍを取得する（Ｓ１３０）。 - 特許庁

Also, a new approach for training the hierarchical network is proposed which uses statistical means for (incrementally) learning new feature detection stages and significantly reduces the training effort for complex pattern recognition tasks, compared to the prior art.例文帳に追加

また、新しい特徴検出ステージを（増分的に）学習し、複雑なパターン認識に要する手間を従来技術に比してかなり削減する、統計的手段を使用した、階層ネットワークを訓練する新しい手法を提案する。 - 特許庁

When an analog input signal Vin has a feature of EYE pattern, a reference voltage generating circuit 21 outputs (m) ((m) is an integer of ≥2) reference voltages having different voltage values respectively corresponding to the bit accuracy of a digital code Dout'.例文帳に追加

アナログ入力信号ＶinがＥＹＥパターンの特徴を有する場合、基準電圧発生回路２１は、各々異なる電圧値を有し、デジタルコードＤout’のビット精度に応じたｍ（ｍは２以上の整数）個の基準電圧を出力する。 - 特許庁

To provide a method that can precisely track an object to be tracked even if an image pattern of a template including the object to be tracked includes a strong background feature and if the object to be tracked has no motion.例文帳に追加

追跡対象物体を含むテンプレートの画像パターンに背景の強い特徴が含まれている場合や追跡対象物体に動きが無い場合でも、追跡対象物体を精度良く追跡できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for determining a movement of a small drop put on a surface of a nano structure or a micro structure by at least one characteristic of a nano structure feature pattern, or at least one characteristic of the small drop.例文帳に追加

ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。 - 特許庁

An area of a region free from the feature points composed of a branch point of a ridge composing a fingerprint pattern and an point of the end of the ridge, on a predetermined remarked point, is extracted as core line stability to be used in matching.例文帳に追加

所定の注目点を中心とした、指紋模様を構成する隆線が分岐する点や終端する点からなる特徴点が存在しない領域の面積を芯線安定度として抽出し、照合に用いる。 - 特許庁

An unreproducible fine feature (random pattern) that the article 12 itself originally has is read out of a specified observation area on the top surface of the article 12, and used to identify and collate the article 12 individually.例文帳に追加

物品１２の表面の所定の観測領域から、当該物品１２自体が元来有している再現不能な微小な特徴（ランダムパターン）を読取り、このランダムパターンを利用して個々の物品１２の識別や照合を行う。 - 特許庁

A correction dimension selecting means 42 selects a correction dimension δ relating to a correction pattern feature 23 which gives the highest evaluation of the finished state of the semiconductor device in each design dimension Wd based on the evaluation result 51.例文帳に追加

補正寸法選択手段４２は、評価結果５１に基づいて、設計寸法Ｗｄ毎に、半導体デバイスの仕上り状態の評価が最も高くなる補正パターン図形２３に関する補正寸法δを選択する。 - 特許庁

To resolve the problem that not only data cannot be protected due to loss or theft but also registered data cannot be changed in the case that calculation of pattern matching between registered biometrics (biometric bodily feature) data and data picked up from a person is performed to identify the person.例文帳に追加

本人の認証に、登録したバイオメトリクス（生体的身体特徴）データと本人から採取したデータとのパターンマッチングを計算するのでは、データの紛失や盗難でその保護ができないし、登録データの変更ができない。 - 特許庁

The feature of the game machine is to make a sound to inform the occurrence of a small hit by the speaker as soon as or prior to stopping the final variable pattern display after becoming ready to win.例文帳に追加

リーチとなった後、最終変動図柄が停止表示されると同時に、又は、最終変動図柄が停止表示される前に、スピーカにより、小当たり状態の発生を報知する音を出力することを特徴とする遊技機。 - 特許庁

To provide a method and a device for deciding movement of small drops arranged on a surface of a nano structure or a micro structure by at least one characteristic of a nano structure feature pattern, or at least one characteristic of small drops.例文帳に追加

ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。 - 特許庁

The method for checking the pattern comprises calculating the feature amount of a defect which includes the signal amount of a charged particle beam image of the defect, simultaneously or concurrently upon checking, and immediately sorting the defects based on the electrical properties of the defects.例文帳に追加

検査と同時にあるいは並行して欠陥部の荷電粒子線画像の信号量を含む欠陥の特徴量を算出し、これによって欠陥の電気的性質に基づく分類を即座に行えるようにする。 - 特許庁

The document format is identified by performing filtering for weakening the feature in the prescribed part of the inputted document information (1), extracting the featured values of the input ruled line pattern from filtered input document information (2) and comparing the featured values of the input ruled line pattern with the pre-registered format information featured values so as to decide the format of the input ruled line pattern (3).例文帳に追加

帳票フォーマットの識別は、（１）入力された帳票情報の所定部分に、特徴を弱めるフィルタリングを実行し、（２）前記フィルタリングを行った入力帳票情報から入力罫線パターンの特徴量を抽出し、（３）入力罫線パターンの特徴量を、予め登録されているフォーマット情報の特徴量と比較することにより、入力罫線パターンのフォーマットを決定することにより行う。 - 特許庁

This correction information calculating device is equipped with a calculation part calculating correction information by comparing positions of a plurality of feature points in an imaged pattern obtained by imaging first and second measuring patterns D11, D12 projected on a projection object surface by first and second projectors with positions of a plurality of feature points on the original data of the first and second measuring patterns D11, D12.例文帳に追加

第１及び第２のプロジェクターにより被投写面上に投写された第１及び第２の測定用パターンＤ１１、Ｄ１２を撮影した撮影パターンに占める複数の前記特徴点の位置と、第１及び第２の測定用パターンＤ１１、Ｄ１２の元データ上の複数の特徴点の位置とを比較して、補正情報を算出する算出部とを備える。 - 特許庁

The apparatus 110 further includes: phonetic segmentation module 150 for segmenting a Chinese speech 108 into a series of tone nuclei; feature extraction module 152 and anchoring feature extraction module 154 for extracting anchor based tone discriminating features; and a pattern matching module 156 that outputs the tone classification that achieves the highest probability.例文帳に追加

装置１１０はさらに、中国語音声１０８を一連の声調核にセグメント化するための音響的セグメント化モジュール１５０と、特徴抽出モジュール１５２と、規定点による声調識別特徴量を抽出するための規定点による特徴抽出モジュール１５４と、最も高い確率を達成する声調分類を出力するパターンマッチングモジュール１５６とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterned ferroelectric medium comprises a process of forming a feature of a prescribed pattern being a precursor for manufacturing a ferroelectric film on an electrode formed on a substrate, and a process of converting a precursor feature to a ferroelectric substance by making a source substance which forms the ferroelectric substance by reacting with the precursor react with the precursor.例文帳に追加

基板上に形成された電極上に強誘電膜の製造のための前駆体で所定パターンのフィーチャーを形成する工程と、前駆体と反応して強誘電物質を形成するソース物質を前駆体と反応させて、前駆体フィーチャーを強誘電性の物質に変換する工程と、を含むパターンされた強誘電体媒体の製造方法である。 - 特許庁

One embodiment is related to a method of forming a pattern formation feature section which has more reduced pitches in two dimensions on the substrate, as compared with pitches realized using a standard photolithography processing technique which uses a single high resolution photomask.例文帳に追加

本発明の実施形態は、単一の高解像度フォトマスクを使用する標準のフォトリソグラフィ処理技法を使用して可能なものに比較して、２次元において減少ピッチを有するパターン形成特徴部を基板上に形成する方法に関する。 - 特許庁

When a captured image is being recorded, the situation of zoom operation, the moving pattern of a camera, the amount of feature of video/audio signals, and the like are monitored, thus detecting a point in time when a prescribed change occurs for the monitored state.例文帳に追加

撮像画像の録画を行っているとされるときに、ズーム操作の状況、カメラの動パターン、ビデオ／オーディオ信号の特徴量などを監視するようにして、この監視している状態について、所定の変化が生じたとされる時点を検出する。 - 特許庁

To provide a quantitative evaluation method of a paper or a sheet-shaped base material applying a shade pattern which increases a correlation with an organoleptic evaluation more by selecting and using a feature quantity of an image expressibly in consonance with organoleptic evaluation results.例文帳に追加

官能評価結果に沿う表現可能な画像の特徴量を選択して用いることで、より官能評価との相関を高めることが可能な、濃淡模様が施された紙又はシート状基材の定量的評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a speech recognition processor, suitable for mobile equipment, for detecting a unit pattern fast from a time-series data group including an indefinite data component or a repetition or omission of a data component, which is obtained through speech feature extraction processing.例文帳に追加

音声の特徴抽出処理により得られた、不定データ成分やデータ成分の重複や欠落を含む時系列データ群から、高速に単位パターンを検出するための、携帯機器に適した音声認識処理装置、を提供する。 - 特許庁

The lithography apparatus has a lighting system that provides a radiation beam, a support structure for supporting a product patterning device that adds a product pattern indicating a feature of a product device to a profile of the radiation beam from the lighting system, and a measuring-target patterning device that adds a measuring target pattern indicating a measuring target to the profile of the radiation beam.例文帳に追加

放射線ビームを提供する照明システムと、照明システムからの放射線ビームの断面に製品デバイスのフィーチャを表す製品パターンを付与する製品パターン化デバイスを支持する支持構造と、放射線ビームの断面に、計測ターゲットを表す計測ターゲット・パターンを付与する計測ターゲット・パターン化デバイスとを有するリソグラフィ装置が提供される。 - 特許庁