「feature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

An identifying part 105 outputs the recognition result of the input pattern by checking the m-dimensional reference pattern with the m-dimensional feature of the input pattern.例文帳に追加

識別部１０５は、ｍ次元参照パターンと入力パターンのｍ次元特徴とを照合して入力パターンの認識結果を出力する。 - 特許庁

PATTERN MATCHING METHOD AND DEVICE, AND ITS FEATURE AMOUNT NORMALIZING METHOD AND DEVICE例文帳に追加

パターンマッチング方法および装置ならびにその特徴量正規化方法および装置 - 特許庁

Further, the regularity of repeated feature of the pattern is disturbed, which suppresses generation of moire.例文帳に追加

また、パターンの繰り返し模様の規則性が乱れ、モアレの発生が抑制される。 - 特許庁

A three-dimensional locus from which a moving component of the direction of movement of the prescribed part in walking is removed has a pattern, and the pattern contains a plurality of feature points defining the feature thereof.例文帳に追加

所定部位の歩行時の進行方向の移動成分を除去した３次元の軌跡は、パターンを有し、当該パターンは、その特徴を規定する特徴点を複数含む。 - 特許庁

To provide a feature selecting device obtaining a high identification rate of pattern recognition.例文帳に追加

より高いパターン認識の識別率が得られる特徴選択装置を提供する。 - 特許庁

Images of a pattern feature are acquired by the scanning electron microscopy (700).例文帳に追加

パターン特徴の画像が走査型電子顕微鏡法により取得される（７００）。 - 特許庁

In this feeling recognition device, a prosodic feature quantity extraction part 102 performs an acoustic analysis of an input speech to calculate a prosodic feature quantity and a time pattern generation part 107 generates the time pattern of the prosodic feature quantity.例文帳に追加

韻律的特徴量抽出部１０２は、入力音声を音響分析して韻律的特徴量を算出し、時間パターン作成部１０７は、その韻律的特徴量の時間パターンを作成する。 - 特許庁

A feature point extraction part 3 extracts feature points from an object image to be traced on the basis of inputted image data and a reference pattern setting part 5 sets the plural extracted feature points as a reference pattern.例文帳に追加

特徴点抽出部３は、入力された画像データを基に、追跡対象画像から特徴点を抽出し、基準パターン設定部５は、抽出された複数の特徴点を基準パターンとして設定する。 - 特許庁

A common pattern candidate evaluation means 5 evaluates the validity of feature determination of text data by multimedia feature quantities 9aa on the basis of distribution conditions of feature quantity sets in the common pattern candidates 9c.例文帳に追加

共通パターン候補評価手段５が、共通パターン候補９ｃ内の特徴量セットの分布状況に基づいて、マルチメディア特徴量９ａａによるテキストデータの特徴判断の有効性を評価する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern having a good feature while decreasing roughness generating in a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。 - 特許庁

This device acquires a sample of the feature vector of the pattern, belonging to the class for each of the classes, in executing pattern recognition (S110).例文帳に追加

本装置は、パターン認識するクラス毎に、当該クラスに属するパターンの特徴ベクトルのサンプルを取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

A common pattern candidate generation means 4 extracts feature quantity sets consisting of the text feature quantity 9b and individual multimedia feature quantities 9aa in the coefficient group and generates common pattern candidates 9c wherein feature quantity sets in same positions on arrangement of multimedia feature quantities 9aa in the coefficient group are collected.例文帳に追加

共通パターン候補生成手段４が、テキスト特徴量９ｂと係数群内の個々のマルチメディア特徴量９ａａとからなる特徴量セットを抽出し、係数群内でのマルチメディア特徴量９ａａの配列上の位置が同じ特徴量セットを集めた共通パターン候補９ｃを生成する。 - 特許庁

A judging part 12 judges the existence of the watermark pattern on the basis of this obtained feature quantity.例文帳に追加

判定部１２はこの得られた特徴量に基づき透かしパターンの有無を判定する。 - 特許庁

To provide a system and a method for image pattern recognition using image feature vectors.例文帳に追加

画像特徴ベクトルを使用した画像パターン認識用のシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

A cause expression feature quantity extraction part 21 calculates a cause expression feature quantity by referring to a cause expression pattern dictionary 14.例文帳に追加

原因表現特徴量抽出部２１は、原因表現パタン辞書１４を参照して原因表現特徴量を算出する。 - 特許庁

With respect to hazardous spot information on the pattern of a semiconductor device, the difference between first pattern data corresponding to a case, where no dangerous spot exists in the pattern and second pattern data corresponding to another case, where a dangerous spot exists in the pattern is visually displayed as feature data indicating the feature of the hazardous spot.例文帳に追加

半導体装置のパターンに関しての危険箇所情報であって、同じパターンについて、危険な箇所がない場合に対応した第１のパターンデータと、危険箇がある場合に対応した第２のパターンデータとの差を、前記危険箇所の特徴を示す特徴情報として可視化して表示する。 - 特許庁

Alternately, a radio frequency signal feature extraction means is used which has a signal feature pattern output means which outputs an instantaneous frequency characteristics from the output of the phase detection means as a radio frequency signal feature pattern.例文帳に追加

または、位相検出手段の出力から瞬時周波数特性を無線周波信号特徴パターンとして出力する信号特徴パターン出力手段を有する無線周波信号特徴抽出手段を使用する。 - 特許庁

Alternatively, the identification device uses a radio frequency signal feature extracting means having a signal feature pattern output means for outputting an instantaneous frequency characteristic, as the radio frequency signal feature pattern, based on an output of a phase detecting means.例文帳に追加

または、位相検出手段の出力から瞬時周波数特性を無線周波信号特徴パターンとして出力する信号特徴パターン出力手段を有する無線周波信号特徴抽出手段を使用する。 - 特許庁

A feature vector collation processing part 13 collates the projection feature vector and feature information in a pattern recognition dictionary 15 with each other based on a prescribed partial space classification reference.例文帳に追加

特徴ベクトル照合処理部１３は、射影特徴ベクトルとパターン認識辞書１５における特徴情報とを所定の部分空間類別基準に基づいて照合する。 - 特許庁

A pitch pattern generation means generates a first pitch pattern or its feature quantity from analysis information of an input text in accordance with a prescribed rule and generates a second pitch pattern, which is obtained by correction based on a pitch pattern generation process model, from the first pitch pattern or its feature quantity and outputs this second pitch pattern.例文帳に追加

ピッチパターン生成手段は、所定の規則にしたがって入力テキストの解析情報から第１のピッチパターンもしくはその特徴量を生成し、この第１のピッチパターンもしくはその特徴量からピッチパターン生成過程モデルに基づいて補正した第２のピッチパターンを生成し、この第２のピッチパターンを出力する。 - 特許庁

In the handwritten/type discrimination part 2, at least N pieces of feature vectors including a feature for indicating the complication of the character pattern and the feature for indicating linearity are obtained and whether the character pattern is the handwritten character or the type character is discriminated by using the feature vectors.例文帳に追加

手書き／活字判別部２では、文字パターンから、少なくとも文字パターンの複雑さを表す特徴と、直線性を表す特徴を含むＮ個の特徴ベクトルを求め、この特徴ベクトルを用いて、上記文字パターンが手書き文字であるか活字文字であるかを判別する。 - 特許庁

Next, by deciding a preset representative video feature pattern to which the specified video feature pattern corresponds, a class to which the input video belongs is decided.例文帳に追加

続いて、特定した映像特徴パターンが予め設定した代表映像特徴パターンのどれに該当するのかを判断することで、入力した映像の属するクラスを判定する。 - 特許庁

This pattern recognition device has a dictionary learning part 23, a filter mask learning part 24, a partial area feature value calculating part 26, a pattern recognition part 28 and a feature vector generating part 29.例文帳に追加

このパターン認識装置は、辞書学習部２３、フィルタ・マスク学習部２４、部分領域特徴量計算部２６、パターン識別部２８および特徴ベクトル生成部２９を有している。 - 特許庁

Then, intensity distribution is calculated based on the geometry characteristics and illumination mode characteristics and mask pattern data of a pattern feature 154.例文帳に追加

次に、パターンフィーチャのジオメトリ特徴及び照明モード特徴及びマスクパターンデータに基づき、強度分布が計算される１５４。 - 特許庁

To correctly recognize character objects including noises of stains or others when using the most similar character pattern as a recognition result between a feature utilizing a black pixel connection length from a regulated input character pattern and a standard feature vector of each character pattern in a recognition feature standard dictionary.例文帳に追加

正規化入力文字パターンから黒画素連結長を利用した特徴と認識特徴標準辞書内の各文字パターンの標準特徴ベクトルとの間で最類似文字パターンを認識結果とする場合に、汚れ等の雑音を含む文字対象を正しく認識する。 - 特許庁

A feature extraction part 1-4 calculates a feature vector utilizing the black pixel connection length from the input character pattern regulated for every character.例文帳に追加

特徴抽出部１−４は、一文字毎に正規化された入力文字パターンから黒画素連結長を利用する特徴ベクトルを算出する。 - 特許庁

Variation amount of exposure conditions is calculated by obtaining an electron beam image of a first pattern part and a second pattern part, which are different in change tendency of a dimensional feature amount to variation of exposure conditions, calculating the dimensional feature amount of a first pattern part and a second pattern part and applying the dimensional feature amounts to a model which correlates exposure conditions and a dimensional feature amount.例文帳に追加

露光条件の変動に対する寸法特徴量の変化傾向が互いに異なる第１パターン部と第２パターン部の電子線像を取得し、第１パターン部および第２パターン部の寸法特徴量を算出し、これら寸法特徴量を露光条件と寸法特徴量を関連付けるモデルに当てはめることによって露光条件の変動量を算出するようにした。 - 特許庁

This measuring instrument acquires image data as to a first graphic pattern and a second graphic pattern concerned in a single measuring object, and extracts respectively the feature portion of the first graphic pattern and the feature portion of the second graphic pattern from the image data.例文帳に追加

この計測装置では、単一の計測対象にかかる第一図形パターンおよび第二図形パターンについて画像データがそれぞれ取得され、これらの画像データから第一図形パターンの特徴部分および第二パターンの特徴部分がそれぞれ抽出される。 - 特許庁

To carry out a high-precision recognition process for a pattern having a specific feature.例文帳に追加

特定の特徴を持つパターンに対して、高精度な認識処理を行うことが課題である。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR DETECTING PATTERN SHAPE FEATURE QUANTITY DISTRIBUTION, AND MONITORING METHOD FOR PROCESS例文帳に追加

パターン形状特徴量分布の検出方法及びその装置並びにプロセスのモニタリング方法 - 特許庁

The player executes a game after selecting a change pattern which may effectively utilize the feature of the player.例文帳に追加

プレーヤは、自分の特長を生かすであろう変化パターンを選択した後にゲームを実行する。 - 特許庁

The feature point thus detected is registered as a vehicle pattern (step S203, S206).例文帳に追加

こうして検出される特徴点を車両パターンとして登録する（ステップＳ２０３、Ｓ２０６）。 - 特許庁

In reading processing, a feature portion is detected from an image imaged by a light-receiving sensor 23 (step S1), and it is tried to match a pattern of the detected feature portion with the feature pattern of which correspondence relationship is stored in the memory 35 (step S2).例文帳に追加

読み取り処理においては、受光センサ２３により撮像された画像から特徴部分を検出し（ステップＳ１）、検出した特徴部分のパターンとメモリ３５に対応関係が記憶されている特徴パターンとのマッチングを試みる（ステップＳ２）。 - 特許庁

A pattern appearance feature calculating device 13 calculates appearing features of the pattern of the signal from the pattern features extracted by the device 12.例文帳に追加

パターン出現特徴計算装置１３は、パターン特徴抽出装置１２により抽出されたパターン特徴から、信号のパターンの出現特徴を計算する。 - 特許庁

A pattern matching degree calculation part 19 calculates pattern matching between the inputted pattern and a dictionary pattern based on the selected feature point and outputs the character code of a character kind showing a maximum matching degree.例文帳に追加

パタン整合度計算部１９は、選択された特徴点を基に、入力パタンと辞書パタンとの間のパタン整合を計算し、最大の整合度を示した字種の文字コードを出力する。 - 特許庁

A feature extracting part 1-3 obtains the featured value from a local area by feature extraction using black pixel connection length from the specified character pattern.例文帳に追加

特徴抽出部１−３は、該正規化された文字パターンから黒画素連結長を利用する特徴抽出により局所領域から特徴値を求める。 - 特許庁

A similarity calculation unit 182 calculates the degree of similarity based on the calculated waveform feature value and a comparative feature value showing features of a comparison pattern.例文帳に追加

算出した波形特徴量と、比較パターンの特徴を表わす比較特徴量とに基づいて、類似度算出部１８２が、類似度を算出する。 - 特許庁

A matching processor 8 performs matching processing between the feature parameter of the leading consonant stored in the leading consonant buffer 5 and the feature parameter of a registration pattern.例文帳に追加

そして、マッチング処理器８は、先頭子音バッファ５に格納された先頭子音の特徴パラメータと登録パターンの特徴パラメータとのマッチング処理を行なう。 - 特許庁

A feature quantity calculation unit 30 obtains a feature quantity for recognizing a desired object from the partial image extracted by the pattern extraction unit 20.例文帳に追加

特徴量算出部３０は、パターン抽出部２０により切り出された部分画像から所望の物体を認識するための特徴量を求める。 - 特許庁

In case of comparing an input waveform data pattern with a plurality of internal waveform data patterns whose pattern start time is different, when there exists a plurality of internal waveform data patterns whose number of errors is smaller than a prescribed value, a feature section data pattern generation part 28 generates a feature section data pattern including the code of a feature section including a prescribed time based on the pattern start time of the plurality of internal waveform data patterns.例文帳に追加

入力波形データパターンと、パターン開始時刻が異なる複数の内部波形データパターンとの比較において、エラー数が所定より小さい内部波形データパターンが複数存在する場合に、特徴区間データパターン生成部２８は、複数の内部波形データパターンのパターン開始時刻に基づいて、所定の時刻を含む特徴区間の符号を含む特徴区間データパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a method for creating a pattern for reducing deviation from a design pattern of a post-etching feature caused by a step feature that generates after rule-base OPC used for correcting a residual component of an OPC model.例文帳に追加

パターン作成方法に関し、ＯＰＣモデルの残渣成分を補正するために用いるルールベースＯＰＣ後に発生する段差形状に起因するエッチング後形状と設計図パターンとの乖離を低減する。 - 特許庁

In a pseudo register pattern creating part 140, a pseudo register pattern is created by using M-pieces of feature vectors which are a part of N-pieces of feature vectors of a speech data inputted for registration.例文帳に追加

擬似登録パターン作成部１４０において、入力されたＮ個の登録用音声データの特徴ベクトルのうちの一部であるＭ個の特徴ベクトルを用いて擬似登録パターンを作成する。 - 特許庁

Lateral movement of a small drop is determined in a manner that the small drop is moved in a desired direction along a nano structure feature pattern by at least one characteristic of the nano structure feature pattern.例文帳に追加

小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。 - 特許庁

To provide a feature-quantity extracting method in which feature quantities can be extracted, before a resist model is optimized and to provide a test pattern selecting method, a resist model creating method and a designed-circuit-pattern verifying method.例文帳に追加

レジストモデルの最適化の前に特徴量を抽出することができる特徴量抽出方法、テストパターン選択方法、レジストモデル作成方法および設計回路パターン検証方法を提供する。 - 特許庁

Lateral movement of small drops is decided in a manner that the small drops are moved in a desired direction along a nano structure feature pattern by at least one characteristic of the nano structure feature pattern.例文帳に追加

小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。 - 特許庁