「feature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The split-and-merge method is a well-known algorithm for polygonal approximation in computer vision applications such as feature extracting and pattern matching. 例文帳に追加

分割併合法は、特徴抽出やパターン照合のようなコンピュータビジョン・アプリケーションにおける多角形近似のための良く知られたアルゴリズムである。 - コンピューター用語辞典

A read section 14 reads a print image of a regular printed matter (original) and a feature quantity extract section 84 extracts a feature of an unreproducible random pattern uncontrollably formed when a printer prints out the printed matter, obtains a feature vector and registers it in a memory 86 in advance.例文帳に追加

読取部１４により、正規の印刷物（原本）の印刷画像を読取り、特徴量抽出部８４により、印刷装置による当該印刷物の印刷時に制御しきれずに形成された再現不能なランダムパターンの特徴を抽出して、特徴ベクトルを求めてメモリ８６に予め登録しておく。 - 特許庁

A pattern collation part 4 successively compares the plurality of standard patterns 6a to 6e stored in the standard pattern storage part 6 with the speech feature quantity of an input speech outputted from a speech feature quantity extraction part 3 and outputs a recognition result of the highest degree of similarity as a final recognition result 5.例文帳に追加

そしてパターン照合部４は、前記標準パターン記憶部６に記憶されている複数の標準パターン６ａ〜６ｅと音声特徴量抽出部３から出力される入力音声の音声特徴量とを順次比較し、最も類似度の高い認識結果を最終的な認識結果５として出力する。 - 特許庁

The accuracy of design values of a substrate or a molding 1 or a circuit pattern 11 formed on the substrate or the molding 1 is evaluated based on the positions or feature amounts of feature points obtained from an image picked up from the substrate or molding 1 forming the circuit pattern 11 and the evaluated result is used for the control of process conditions.例文帳に追加

回路パターン１１を形成した基板または成形品１を撮像した画像から得た特徴点の位置もしくは特徴量に基づき、基板または成形品あるいはその上に形成された回路パターンの設計値に対する精度を評価し、その評価結果を工程条件の制御に用いる。 - 特許庁

In addition to regular display functions of display objects 30, such as a variety of menus and buttons, the display section 40 with the image capture function is provided with a fingerprint pattern sensing feature which senses user's fingerprint pattern and a sensing feature of operation which senses the movement of the user's finger by the display with image-capture function.例文帳に追加

イメージキャプチャー機能付きディスプレイ部４０は、各種のメニューやボタンなどの表示オブジェクト３０の通常の表示機能に加えて、利用者の指紋パターンを感知する指紋パターン感知機能と、イメージキャプチャー機能付ディスプレイにより利用者の指の動作を感知する動作感知機能とを備える。 - 特許庁

Then, a detection unit 108 detects a detection object based on a total feature amount concerning each composition pattern of the first cross area pattern group that is calculated by a feature amount calculation unit 107, and a strong discriminator which is stored by a discriminator storage unit 112 and is composed of a plurality of weak discriminator.例文帳に追加

そして、検出部１０８が、特徴量算出部１０７によって算出される、第１の交差領域パターングループの各構成パターンに関する総合特徴量と、識別器記憶部１１２に記憶されている、複数の弱識別器から構成される強識別器とに基づいて、検出対象を検出する。 - 特許庁

An input pattern identification section 72 outputs a scene, as an identification result, corresponding to an (N+M)-dimensional input pattern based on N likelihood values input from the time-series identification section 11 and M non time-series feature amounts input from the non time-series feature amount extracting sections 71-1 to 71-M.例文帳に追加

入力パターン識別部７２は、時系列識別部１１から入力されるＮ個の尤度値と、非時系列特徴量抽出部７１−１乃至７１−Ｍから入力されるＭ個の非時系列特徴量とを基にした（Ｎ＋Ｍ）次元の入力パターンに対応するシーンを識別結果として出力する。 - 特許庁

In the method of creating the service map, service transaction repository related to the same service transaction on at least two functions is determined, a data feature pattern in the service transaction repository is determined, and the service map for associating the determined data feature pattern with the service is determined.例文帳に追加

本発明のサービスマップを生成する方法は、少なくとも二の機能上同一のサービストランザクションと関連付けられるサービストランザクションリポジトリを決定し、前記サービストランザクションリポジトリにおけるデータ特徴パターンを決定し、決定された前記データ特徴パターンとサービスとを関連付けるサービスマップを決定する。 - 特許庁

The image feature amount is calculated from an inspection image of a semiconductor wafer, pattern region division is performed, and the inspection method and sensitivity (defect inspection threshold) preset for each pattern region are changed, thereby performing the defect inspection.例文帳に追加

半導体ウェハの検査画像から画像特徴量を算出し、パターン領域分割を行い，予めパターン領域毎に設定した検査方式及び感度（欠陥検出閾値）を切り替えて欠陥検出を行う。 - 特許庁

The finally obtained feature of a mask pattern is classified into a portion where high accuracy is required and a portion where an error is relatively allowable, and the drawing data for the mask pattern is designed to give priority to the first portion.例文帳に追加

最終的に得られるマスクパターンの形状において、高い精度が要求される重要な箇所と、比較的誤差が許容できる箇所とを区別し、前者を優先するようにマスクパターンの描画データを設計する。 - 特許庁

A colorless form generator 36 refers to a region feature-colorless form pattern table 41 indicating the relation between region features prepared in advance and the colorless form pattern to prepare and output the colorless form for each region.例文帳に追加

無色版生成部３６は、予め作成された領域特徴と無色版パターンとの関係を示す領域特徴−無色版パターンテーブル４１を参照して、領域毎の無色版を作成し、出力する。 - 特許庁

When the feature is a shell, the space between the pattern element located in the shortest distance from the designated point and the other pattern element located on the opposite side across the designated point is taken as the distance dimension showing the thickness of the shell.例文帳に追加

また、フィーチャがシェルであるときには、指定された点（指定点）から最短距離にある図形要素と指定点を挟んで反対側にある他の図形要素との間隔が、シェルの厚さを示す距離寸法とされる。 - 特許庁

A specified pattern is presented to a data input layer 101 to perform learning needed for detecting a new feature class by a non-learning processing module comprising a plurality of neurons having a reception field structure for learning an unlearned feature class.例文帳に追加

所定のパターンをデータ入力層１０１に提示することにより、未学習の特徴クラスを学習すべき受容野構造が不定な複数ニューロンからなる未学習処理モジュールにおいて新規な特徴クラスの検出に必要な学習を行う。 - 特許庁

When the feature extraction means 31 determines the time shift features of the time serial data of the G value, the environment judgment means 32 specifies the environment pattern column of the most approximate feature and judges that operating environment as the present operating environment.例文帳に追加

特徴抽出手段３１がＧ値の時系列データの時間的推移の特徴を求めると、環境判定手段３２は、当該特徴が最も近い環境パターン列を特定し、その使用環境を現在の使用環境と判定する。 - 特許庁

An effect equivalent to collection of many utterances is obtained by extracting a plurality of feature vector time series of a plurality of feature extraction intervals and start positions from one piece of utterance, and using them for a standard pattern preparation or the speaker's study.例文帳に追加

１個の発声から複数の特徴抽出間隔、開始位置の特徴ベクトル時系列を複数抽出し、標準パターン作成あるいは話者学習に用いることで、等価的に多くの発声を収集したのと近い効果を得る。 - 特許庁

A collation part 3 collates the voice feature parameter extracted by the voice feature extracting part 2 with a human voice detecting standard pattern 5, and outputs a result of the collation to a human voice extracting part 1 and a human voice extraction point deciding part 4.例文帳に追加

照合部３は、音声特徴抽出部２により抽出された音声特徴パラメータと人声検出用標準パタン５とを照合し、照合結果を人声抽出部１および人声抽出時点決定部４に出力する。 - 特許庁

An arbitrary pattern which is formed on a wafer and for constituting the thin-film magnetic head is lightened, reflected light from the pattern is imaged to form an image, which is photoelectrically converted into an image signal, so that feature quantities of the pattern are obtained from the image signal.例文帳に追加

ウェハ上に形成された、薄膜磁気ヘッドを構成するための任意のパターンを照明し、該パターンからの反射光を結像して画像を形成して、該画像を光電変換して画像信号に変換し、該画像信号から上記パターンの特徴量を求めるものである。 - 特許庁

To provide a self-evolution type pattern recognition system for efficiently executing the processing of pattern recognition with a high recognition rate by developing system configurations like self-evolution by integrally controlling the processing in a feature extracting part and processing in a pattern recognizing part.例文帳に追加

特徴抽出部での処理及びパターン認識部での処理を統括的に制御してシステム構成を自己進化的に発展させることにより、パターン認識の処理を高い認識率でかつ効率的に行うことができる自己進化型パターン認識システムを提供する。 - 特許庁

When a working specification pattern part not present in an existing pattern is extracted from an NCPG (program) 26 based on tool design information 23, working specification feature (pattern) information 25 and the NCPG (program) 26, a basic information processing part 31 stores it in a database by forming it into a library.例文帳に追加

基本情報処理部３１は、工具設計情報２３、加工仕様特徴（パターン）情報２５、及びＮＣＰＧ（プログラム）２６に基づいて、ＮＣＰＧ（プログラム）２６から、既存パターンには無い加工仕様パターン部分を抽出した場合には、これをライブラリ化してデータベースに格納する。 - 特許庁

The paper sheet processor includes an image acquisition part, a feature amount extraction part, a standard pattern storage part, a selection part, a similarity calculation part, a comparison part, a determination part and a control part.例文帳に追加

紙葉類処理装置は、画像取得部、特徴量抽出部、標準パターン記憶部、選択部、類似度算出部、比較部、判定部および制御部を備える。 - 特許庁

The composition determination section 122 calculates the degree of association between the composition and the feature pattern as an evaluation value, and determines the composition of an input image based on the evaluation value.例文帳に追加

構図決定部１２２は、各構図と特徴パターンとの間の関連度を評価値として算出し、前記評価値に基づいて入力画像の構図を決定する。 - 特許庁

The model time-series data is divided into sections Y_i (i=1, ..., n) of an individual pattern at predetermined places in time series in advance, and feature quantity time series y_i (i=1, ..., n) by the sections are extracted.例文帳に追加

模範時系列データは予め時系列上の所定箇所で個別パターンの区間Y_i(i=1,…,n)に分割され、区間ごとに特徴量時系列y_i(i=1,…,n)を抽出しておく。 - 特許庁

To provide a method for producing a conductive resin composition having little fluctuation in sensitivity and enabling formation of a preferable pattern feature, and to provide a conductive resin composition obtained by the method.例文帳に追加

感度変動が少なく、良好なパターン形状を形成できる導電性樹脂組成物の製造方法、およびこれより得られた導電性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide an inspection device and an inspection method for a photomask for proximity exposure, by which whether a pattern feature of a photomask for proximity exposure is allowable or not determined prior to actual exposure.例文帳に追加

プロキシミティ露光用フォトマスクのパターン形状の良否を実際の露光に先立って把握できるプロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To select a feature suitable to pattern identification out of features included in data at low processing cost even when sufficient verification data is not available.例文帳に追加

検定データが充分に存在しないような場合でも、データ中に含まれている特徴からパターン識別に適した特徴を、少ない処理コストで選択できるようにする。 - 特許庁

The awakening method determination part 33 estimates the sleep depth on the basis of the pattern of the appearance of the waves of the specified frequency components detected by the feature amount calculation part 31.例文帳に追加

覚醒方法決定部３３は、特徴量算出部３１が検出した特定周波数成分の波の出現のパターンに基づいて睡眠深度を推定する。 - 特許庁

So, in the personal authentication system, time-series variation in a vein pattern along with the bending and stretching motion is defined as a dynamic feature amount to generate authentication information.例文帳に追加

そこで、本システムにおいては、指の屈伸運動に伴う静脈パターンの時系列的な変化を動的な特徴量として定義して認証情報を生成する。 - 特許庁

A pattern for constituting a position detecting mark used when a position detection on a substrate is carried out by an exposure device has a plurality of layers of patterns as a feature.例文帳に追加

基板上の位置検出を露光装置で行う場合に用いる位置検出マークを構成するパターンが、複数の層のパターンを有することを特徴とするものである。 - 特許庁

The division rule estimation processing part 14 estimates the optimum division rules in a feature space for discriminating the propriety of the collation pattern based on the analyzed result.例文帳に追加

分割ルール推定処理部１４は、該解析結果に基づいて照合パターンの正当性を判定するための特徴空間における最適な分割ルールを推定する。 - 特許庁

A statistic calculating part 101 finds the statistic of a feature vector extracted from the learning pattern of each class (average vector and sample covariance matrix of each class).例文帳に追加

統計量算出部１０１は、各クラスの学習パターンから抽出される特徴ベクトルの統計量（各クラスの平均ベクトルと標本分散行列）を求める。 - 特許庁

To improve precision for specifying a position of a collation area for extracting a feature quantity of a random pattern from a document to be collated, thereby reducing a collation time.例文帳に追加

照合対象となる原稿からランダムパターンの特徴量を抽出するための照合領域の位置を特定する精度を向上し、照合時間を短縮する。 - 特許庁

Next, by detecting the position of a video main story wherein the extracted rising portion of the video is present, a video feature pattern indicated by the input video is specified.例文帳に追加

続いて、抽出した映像の盛り上がり部分が映像本編のどの位置にあるのかを検出することで、入力した映像の示す映像特徴パターンを特定する。 - 特許庁

A defect distribution on substrate is sorted by comparing the calculated feature amount with a set of features indicating the known defect distribution pattern (S304 to S306).例文帳に追加

その特徴量がなす組と、既知の欠陥分布パターンを表す特徴量がなす組との比較を行って、基板上の欠陥分布を分類する（Ｓ３０４〜Ｓ３０６）。 - 特許庁

To solve the problem that the shape is complicated and information about a pattern-like feature is not correctly transmitted by reasons why resolution of road data is insufficient, etc. when a map for guidance is displayed.例文帳に追加

案内用の地図を表示するとき、道路データの解像度が足りないなどの理由により、形状が複雑になり、パターン状地物の情報が正しく伝わらない。 - 特許庁

To provide a light-emitting device having a sealing body equipped with the spatial radiation pattern of an output profile and the dispersion feature for adjusting the color temperature uniformity.例文帳に追加

出力プロファイルの空間放射パターン及び色温度均一性を調整するための散乱フィーチャを備えた封止体を有する発光デバイスを提供する。 - 特許庁

An extracted waveform segment conditions a known geometrical form in order to decide whether the waveform shows a normal or modified pattern feature of the semiconductor layer.例文帳に追加

前記抽出された波形セグメントは、前記波形が、半導体層の正規または変則パターン・フィーチャを示すか否かを決定するために、既知の幾何学形状を条件とする。 - 特許庁

By virtue of various pattern and design added on Uchiwa fan, Uchiwa fan is used as a tool for various purposes such as a fashion tool for introducing Japanese special feature, an advertising tool for business and others, and a ritual tool for showing 'heraldic emblem and family crest.' 例文帳に追加

日本の風物詩を伝えるおしゃれの小道具、商業などを目的に「宣伝」をする広告の道具、「紋章、家紋」などをあらわす儀式の道具である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A control section 52 carries out processing for restraining the feature pattern or the measuring region from being set as the region out of guarantee according to the result of determination.例文帳に追加

制御部５２は、この判定の結果に応じて、特徴パターンまたは測定領域が保証外領域に設定されるのを抑制するための処理を実行する。 - 特許庁

The traditional pattern of business relations, considered a defining feature of Japan’s industrial structure since the high-growth period, revolved around stable, long-term transactions between “parent enterprises (clients) and subcontractors.” 例文帳に追加

高度成長期以来、日本の特徴的な産業構造と言われてきた従来の取引関係は、「親企業－下請企業」の長期安定的な取引構造だった。 - 経済産業省

A pattern feature extracting device 12 extracts pattern-like features regarding signal waveform and its variation from a signal showing states regarding the operation state and control contents of a controlled system read in by a signal read-in device 11.例文帳に追加

パターン特徴抽出装置１２は、信号読み込み装置１１で読み込んだ制御対象の稼働状態や制御内容に関する状態を示す信号から、信号波形やその変化に関するパターン的な特徴を計算する。 - 特許庁

Therefore, the device can extract the feature of a written character itself by comparing the standard character pattern of each character representing a previously specified address with the character pattern of the written character representing an address in the document.例文帳に追加

従って、予め特定されている住所を表す各文字の標準的な文字パターンと、原稿中の住所を表す手書き文字の文字パターンとを比較することで、手書き文字そのものの特徴を抽出することができる。 - 特許庁

To provide an SEM system for length measurement capable of high-accuracy and precise OPC (optical proximity correction) evaluation which is important from now on with advancement in a finer semiconductor design pattern, and to provide an evaluation system for a circuit pattern feature and a method therefor.例文帳に追加

半導体設計パターンの微細化に伴い今後重要となる高精度かつ詳細なＯＰＣ評価が可能とした測長ＳＥＭシステム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

A second mask pattern used in a second exposure process includes at least one localized adjustment to at least one feature thereof to compensate for scattering effects of the developed resist pattern that is present when the second exposure is performed.例文帳に追加

第２の露光工程で使用される第２のマスクパターンは、第２の露光が実行される時に存在する現像レジストパターンの散乱効果を補償するその少なくとも１つのフィーチャに対する少なくとも１つの局所調整を含む。 - 特許庁

A recognition result processing part 14 specifies a category, to which the recognition object pattern should belong, based on the collation result to perform recognition, and the recognition result is reflected to update feature information in the pattern recognition dictionary 15.例文帳に追加

認識結果処理部１４は、該照合結果に基づいて認識対象パターンの属すべきカテゴリを特定することにより認識を行い、該認識結果を反映させてパターン認識辞書１５における特徴情報を更新する。 - 特許庁

The device for providing a pattern for calibration includes: a hologram 1 on which the pattern for calibration composed of a plurality of feature points arranged with a depth is recorded as a three-dimensional image and which is installed so that the recorded pattern for calibration is imaged by the imaging apparatus 3; and an illumination 2 irradiating the hologram 1 with predetermined illumination light, so that the pattern for calibration is reproduced.例文帳に追加

奥行きをもって配置された複数の特徴点からなる校正用パターンが三次元像として記録され、記録された校正用パターンを撮像装置３により撮像可能に設置されるホログラム１と、ホログラム１に対して、校正用パターンを再生可能に所定の照明光を照射する照明２とを備えた。 - 特許庁