「feature pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A right answer probability estimating part 14 estimates and outputs the right answer probability of the recognized result based on of the likelihood of a word and a syllable connection model or variance of the continuation time of a syllable inside a word as 'feature amount for reliability evaluation' from a pattern matching part 13.例文帳に追加

正解確率推定部１４は、パターンマッチング部１３から「信頼度評価用特徴量」として、単語と音節連接モデルの尤度比や、単語内の音節の継続時間の分散に基づいて認識結果の正解確率の推定を行い、出力する。 - 特許庁

According to plural feature data obtained from image data by the specific areas that the image processing units 22 take in, the data transfer units 21 and 20 in the higher layer specify reference data representing features of the pattern of the top surface of the object 30 of image processing.例文帳に追加

上記画像処理ユニット２２が取り込んだ所定領域毎の画像データから得られた複数の特徴データに基づいて、上位層のデータ転送ユニット２１,２０により画像処理対象物３０表面のパターンの特徴を表す基準データを特定する。 - 特許庁

The image of the moving object is picked up (S1) by an image pickup device 100, a luminescent point for constituting a pattern is detected from the picked-up image, the image of a specified area is segment with the detected luminescent point as a reference point and a feature amount inside the specified area is extracted (S3).例文帳に追加

映像撮像装置１００で移動物体を撮像し（Ｓ１）、撮像された画像からパターンを構成する輝点を検出し、検出された輝点を基準点として特定領域の画像の切り出し、特定領域内の特徴量を抽出する（Ｓ３）。 - 特許庁

This three-dimensional model formation device receives a processing range by a command of an operator, calculates a height difference between an object point and an adjoining point from distance information obtained from the range data, and calculates a feature quantity related to an edge having such a shape that the height difference is formed into a certain specific pattern.例文帳に追加

オペレータの指示により処理対象領域を受け付け、レンジデータから得られる距離情報から対象点と隣接する点の高低差を算出し、その高低差が或る特定のパターンとなる形状のエッジに関する特徴量を算出する。 - 特許庁

A border extracting device extracts the information on the positions of five or more estimated border points of the specific area which is considered to originally have an elliptic shape in the image based on the feature of the image pattern of the specific area (step 105).例文帳に追加

輪郭抽出装置が、画像において本来は楕円形状を有していると考えられる特定領域の５点以上の推定輪郭点についての位置情報を、特定領域が有する画像パターンの特徴に基づいて抽出する（ステップ１０５）。 - 特許庁

The HLAC feature quantity extracting method includes: a step of mapping one dimensional signal in a time-frequency plane; a step of accumulating the HLAC by moving a two dimensional local mask pattern in a block region for each segmented block by dividing its time axis and frequency axis; and a step of extracting and combining each term from the HLAC feature quantity calculated from blocks which are lined up along the frequency axis.例文帳に追加

１次元信号を時間−周波数平面に写像するステップ、その時間軸及び周波数軸を分割して区分けされたブロック毎に、その領域内で２次元局所マスクパターンを移動させてＨＬＡＣを累積するステップ及び周波数軸に沿って並ぶブロックから求めたＨＬＡＣ特徴量から各次数項を抜き出して結合するステップを含むＨＬＡＣ特徴量の抽出方法 - 特許庁

The method consists of a step 120 obtaining data representing the pattern, a step 122 defining a plurality of distinct zones based on the critical dimensions of the plurality of features, a step 124 categorizing each of the features into one of the plurality of distinct zones and steps 126,128,130 modifying the mask pattern for each feature categorized into a predefined distinct zone of the plurality of distinct zones.例文帳に追加

該方法は、パターンを示すデータを取得するステップ１２０と、複数のフィーチャの臨界寸法に基づいて複数のゾーン区分を定義するステップ１２２と、区分された複数のゾーンの１つに各フィーチャを分類するステップ１２４と、複数区分ゾーンの予め定義されたゾーンに分類がなされたフィーチャごとにマスクパターンを修正するステップ１２６，１２８，１３０とから成る。 - 特許庁

When a peripheral dummy pattern is given any feature by giving changes such as thinning out, changing of shape or size, etc. to a dummy pattern formed in an uppermost wiring layer area for flattening an interlayer film and the surface picture of the semiconductor integrated circuit is magnified and displayed, the position of the surface picture in the semiconductor integrated circuit can be specified.例文帳に追加

層間膜の平坦化のために最上位配線層領域に形成されたダミーパターンに対して、間引く，形状を変える，大きさを変える等の変化を施すことにより、周囲のダミーパターンに対して特長をもたせ、半導体集積回路の表面画像を拡大して表示した場合に、半導体集積回路内における表面画像の位置を特定することができる。 - 特許庁

According to this, since the human eye has the feature of recognizing an object having the highest contrast first (Weber-Fechner law), an observer recognizes the pattern 110 first, and the dark line 120 is extremely difficult to recognize since it is buried in the recognition of the high contrast.例文帳に追加

これにより、人間の目は最もコントラストが高いものを最初に認識するという特性（ウェーバー・フェヒナーの法則）をもっているため、観察者は、図柄１１０を最初に認識し、暗線１２０はその高いコントラストの認識に埋没してしまうために非常に認識し難くなる。 - 特許庁

Accordingly, in order to predict a prediction object of a phenotype or the like typical of a chemical compound or a disease, it is necessary to create in beforehand reference data as a standard for evaluating whether or not there are similarities in a feature of a genetic expression or in a pattern of a genetic expression.例文帳に追加

このように、化合物又は疾患に代表される表現型等の予測対象を予測するには、遺伝子発現の特徴又は遺伝子発現のパターンが類似しているかどうかを評価する基準となる参照データをあらかじめ作成しておく必要がある。 - 特許庁

A CPU 12 starts a playback processing task for executing a loop playback processing and executes a plurality of playback processing tasks in parallel every time a material selection operation for instructing a playback of a phrase pattern pp-k corresponding to a mark cf-k on a feature distribution screen is performed.例文帳に追加

特徴分布画面のマークｃｆ−ｋと対応するフレーズパターンｐｐ−ｋの再生を指示する素材選択操作を行うたびに、ＣＰＵ１２は、ループ再生処理を実行するタスクである再生処理タスクを立ち上げ、複数の再生処理タスクを並列して実行する。 - 特許庁

(6) In the case of an article which is in the nature of a spare part for a machine, vehicle or equipment, no feature of pattern, shape or configuration of such article shall afford the registered proprietor of a functional design applied to any one of the articles in question, any rights in terms of this Act in respect of such features.例文帳に追加

(6) 機械，車両又は設備の予備部品の性質を有する物品の場合，当該物品の模様，形状又は輪郭の特徴は，当該特徴についての本法に基づく権利を当該物品の何れかに適用される機能的意匠の登録所有者に与えるものではない。 - 特許庁

To provide a method and a device for speech analysis, which are not affected by the environment and mental state of a speaker by excluding a feature vector having a small variation quantity from standard pattern learning object data by using a time variation parameter of delta cepstrum.例文帳に追加

デルタケプストラム等の時間変動パラメータを用いて、変化量の少ない特徴ベクトルを標準パターン学習対象データから除外することにより、発声者の環境，心理状態により影響されることのない音声認識方法および装置を提供すること。 - 特許庁

The apparatus includes a character block extraction means; a plurality of character image normalization means; a feature extraction means; a recognition dictionary learning the same character kind by learning with the samples normalized by a plurality of normalization means, and having each standard pattern on a basis of each normalization means; and a discrimination calculation means.例文帳に追加

文字ブロック抽出手段と、複数の文字画像正規化手段と、特徴抽出手段と、同一字種を複数の正規化方法で正規化した学習サンプルで学習し、正規化方法ごとにそれぞれの標準パタンを持つ認識辞書と、識別演算手段を備える。 - 特許庁

When a dot analyzing device 1 detects the dot feature value of the image to be evaluated, an image inputting part 3 reads the image pattern of the image to be evaluated as two-dimensional physical quantity distribution data representing variable density information and stores the read physical quantity distribution data in a memory 4.例文帳に追加

ドット解析装置１で被評価画像のドットの特徴量を検出するとき、画像入力部３で被評価画像の画像パターンを濃淡情報を表す２次元の物理量分布データとして読み取り、読み取った物理量分布データをメモリ４に格納する。 - 特許庁

A main control substrate 20 (main CPU 20a) generates environment adjusting information for adjusting the layout (vertical position) of the visible display part of a pattern display device 18 on the basis of the detection result of a human sensing sensor SE1 for detecting the physical feature (the seated height) of a player.例文帳に追加

主制御基板２０（メインＣＰＵ２０ａ）は、遊技者の身体的特徴（座高の高さ）を検知する人検知センサＳＥ１の検知結果に基づき、図柄表示装置１８の可視表示部の配置（上下位置）を調節するための環境調節情報を生成する。 - 特許庁

Concretely, when the feature is a taper, the angle formed by the designated pattern element (designated element) and the axial direction of the taper, or the smaller one of the angle formed by the designated element and the vertical direction and the angle formed by the designated element and the horizontal direction is taken as the angle dimension of the taper.例文帳に追加

具体的には、フィーチャがテーパであるときには、指定された図形要素（指定要素）とテーパの軸方向とがなす角度、又は、指定要素と鉛直方向とがなす角度及び指定要素と水平方向とがなす角度のうち小さい方が、テーパの角度寸法とされる。 - 特許庁

To provide a method for determining biospecies reducing as possible the possibility of wrong determination according to biological feature of the biospecies when the unknown sample contains organism whose biospices not corresponds to any one of the previously determined categories in determining biospecies using pattern recognition.例文帳に追加

パターン認識を利用した生物種の判定において、あらかじめ定められたどのカテゴリーにも対応しない生物が未知サンプルに含まれている場合に、生物種の生物学的特長に応じて、誤った判定する可能性を低減することができる判定方法を提供すること。 - 特許庁

The method exposes the photo-resist layer to a pattern image, develops the photo-resist being exposed by using a developer, eliminates a part of the photo-resist not being exposed, and specifies a mask that includes the mask feature with a narrower width than the width of features being processed by another method.例文帳に追加

また、この方法は、フォトレジスト層をパターン像に露出させ、現像剤を用いて露出させたフォトレジスト層を現像し、現像していないフォトレジスト部分を除去して、アルミニウム層に隣接して、別の方法で生成されるよりも狭い幅を有するマスク・フィーチャを含むマスクを規定することを含む。 - 特許庁

To remotely monitor, with high accuracy, the transmission picture quality on a transmission line based on a picture quality feature amount of video in each spot even when transmitting video of fine pattern and fast movement or the like on the transmission line including a system conversion apparatus.例文帳に追加

方式変換装置を含んで構成された伝送路上を、絵柄が細かく動きが激しい映像などが伝送される場合であっても、各地点における映像の画質特徴量に基づいて伝送路上の伝送画質を高精度に遠隔監視できるようにすること。 - 特許庁

By enabling individual setting according to the case deciding the number of person decision times deciding that it is the person by a distance at which a mobile object is detected is decided by the pattern recognition and the case deciding that it is the person by the physical feature quantity, it is prevented that the mobile object except the person is decided as the person.例文帳に追加

また、移動物体を検出した距離により人物と判断する人物判定回数をパターン認識により判断した場合と物理的な特徴量により判定した場合とで個別に設定できるようにして、人物以外の移動物体を人物と判断するのを防止する。 - 特許庁

To relieve the burden on an operator when rejection is caused and to attain a high speed and highly precise character recognition processing in a character recognizing device for performing feature extraction from a character pattern of a document image having an area where handwritten characters and typed characters are entered mixedly and performing character recognition by being collated with a recognition dictionary.例文帳に追加

手書き文字と活字文字が混在して記入される領域を有する文書画像の文字パターンから特徴抽出を行ない、認識辞書との照合によって文字認識を行なう文字認識装置で、リジェクトが発生したときのオペレータの負担を軽減し、高速で高精度な文字認識処理を可能とする。 - 特許庁

The data labeling circuit includes a label ID register section for temporarily holding a label ID in the labeling processing of labeling a feature part from an image arrangement pattern; a label ID arithmetic section for calculating the label ID from vicinity information obtained from the label ID register part; and a label ID memory for storing the label ID.例文帳に追加

画像配列パターンから特徴部をラベル付けするラベリング処理において、ラベルＩＤを一時的に保持するラベルＩＤレジスタ部と、ラベルＩＤレジスタ部から得られる近傍情報からラベルＩＤを演算するラベルＩＤ演算部と、ラベルＩＤを保存するラベルＩＤメモリと、を有することを特徴とするデータラベリング回路 - 特許庁

An image is scanned sequentially in a horizontal direction, then a histogram having a line segment length by measuring each length and the number of line segments which are continuous in a scan (vertical or horizontal) direction is produced after each pixel is binarized, then feature amount such as radius etc. is calculated from the histogram and probability distribution of each line segment length of each image pattern to be measured.例文帳に追加

画像を順次横方向に走査し、画素を２値化して走査（縦または横）方向に連続する線分の長さおよび個数を計測して線分長のヒストグラムを作成し、このヒストグラムおよび計測する画像パターンの線分長の確率分布から、半径などの特徴量を算出するようにした。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for forming a color layer, having little residue even when a pigment concentration is high and giving a good pattern feature, to provide a color filter formed of the radiation-sensitive composition for forming a color filter, and to provide a solid-state imaging device having the color filter.例文帳に追加

本発明は、顔料濃度が高くても残渣が少なく、且つ良好なパターン形状を得ることができる着色層形成用感放射線性組成物、該着色層形成用感放射線性組成物により形成するカラーフィルタおよび該カラーフィルタを具備する固体撮像素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

An image processing section 51 determines a position relationship between a region within guarantee or a region out of guarantee set beforehand to a reference image considering positional deviation caused by the movement of "a substrate 1" or "an imaging optical system 3 and an imaging device 4," and a feature pattern or a measuring region set to a control device 5.例文帳に追加

画像処理部５１は「基板１」または「撮像光学系３および撮像装置４」の移動によって生じる位置ずれを考慮して参照用画像に予め設定されている保証内領域または保証外領域と、制御装置５に設定された特徴パターンまたは測定領域との位置関係を判定する。 - 特許庁

This metal sheet has a fine gloss featuring that there are two types of a plurality of convex slide ends of leveling trace where the cross grinding pattern of the roll slid having an opposite inclination direction in the longitudinal direction each other, and the inclination of a plurality of slide ends to the longitudinal direction is 10-75° of the feature.例文帳に追加

ロールのクロス研磨目が摺動した平滑化痕の凸状の摺動終端が長手方向に対して互いに傾斜方向が反対であるものをそれぞれ複数有し、複数の摺動終端の長手方向に対する傾斜角度が10〜75°であることを特徴とする光沢の優れた金属板。 - 特許庁

An image pattern identification apparatus includes an input subspace generation section 10, a dictionary subspace generation section 20, a similar class selection section 30, an input difference subspace generation section 40, a feature amount generation section 50, a dictionary difference subspace generation section 60, a similarity operation part 70, and an output section 80.例文帳に追加

画像パターン識別装置は、入力部分空間生成部１０と辞書部分空間生成部２０と類似クラス選別部３０と入力差分部分空間生成部４０と特徴量生成部５０と辞書差分部分空間生成部６０と類似度演算部７０と出力部８０とを具備する。 - 特許庁

Basically, a speech recognition device is provided with the acoustic model for representing a standard pattern of a predetermined speech unit in one state or two or more states, and a likelihood calculating means (105) for calculating a likelihood of each object word to be recognized to the feature level of input speech by using the acoustic models (103, 104).例文帳に追加

音声認識装置は基本的に、１または２以上の状態で所定の音声単位の標準パターンを表す音響モデルと、前記音響モデル（１０３，１０４）を用いて、入力音声の特徴量に対して各々の認識対象単語の尤度を計算する尤度計算手段（１０５）と備えている。 - 特許庁

In an embodiment, the method includes a step of acquiring information about the shift in the characteristics and a step of determining a desired change in phase to compensate at least partially for the shift in the characteristics to be applied to at least part of a radiation beam used to apply a pattern feature to a substrate.例文帳に追加

一実施形態では、この方法には、特性のずれに関連する情報を得る工程と、基板にパターンフィーチャを加えるために使用される放射ビームの少なくとも一部に加えられる、特性のずれを少なくとも部分的に補償することになる所望の位相変化を決定する工程が含まれている。 - 特許庁

The size of a face image is normalized and an outline is detected from the face image, and general features constituted of a closed region where the outline is closed and unique features constituted of segments where the end of the outline is opened and isolated points are detected, and a registered feature-processed face image file is pattern-matched, and thus the personal authentication is performed.例文帳に追加

顔画像の大きさを正規化して顔画像から輪郭線を検出し、輪郭線が閉じた閉領域からなる一般特徴と、輪郭線が開端になる線分及び孤立した点からなる固有特徴と、を検出し、登録された特徴処理済み顔画像ファイルをパターンマッチングで照合し本人認証する。 - 特許庁

A Web page type specification part 122 specifies a type of a test object Web page by referring to information in a Web page feature information DB 121, etc., and a Web page importance determination part 125 specifies a transaction flow to be attained by a test object Web page group by referring to information in a transaction flow pattern DB 124.例文帳に追加

Ｗｅｂページ種類特定部１２２が、Ｗｅｂページ特徴情報ＤＢ１２１等の情報を参照して試験対象のＷｅｂページの種類を特定し、Ｗｅｂページ重要度判定部１２５が、試験対象のＷｅｂページ群により実現される取引フローを取引フローパターンＤＢ１２４の情報を参照して特定する。 - 特許庁

In this moving amount arithmetic unit, matching inspection areas of a prescribed shape is cut out from frames imaged by the camera to be pattern-matched between the frames, the position of a subjected point, corresponding to the same feature point, is calculated at each of the frames, a displacement amount between the calculated positions of the subjected points is found to serve as the moving amount between the frames.例文帳に追加

カメラで撮像したフレームから所定形状のマッチング検査領域を切り出してフレーム間でパターンマッチングを行い、同一の特徴点に対応する被写点の位置をフレーム毎に算出し、算出した両被写点位置間の変位量を求めて両フレーム間での移動量とする移動量演算装置。 - 特許庁

To provide a rhythm feature determining system and a storage medium which variously changes a rhythm pattern only by simple setting, easily extracts musical features of the existing music and further generates rhythm patterns even for music in which a peculiar bar such as a pickup bar is included.例文帳に追加

簡単な設定のみでリズムパターンを様々に変化させることができ、既存曲の音楽的特徴を簡単に抽出することができ、さらに、ピックアップ小節等の特異な小節が含まれている曲に対してもリズムパターンを生成することができるリズム特徴決定装置および記憶媒体を提供する。 - 特許庁

In retrieving an object, a pattern matching system is provided to extract characteristics for positioning modeling data on a feature vector space based on a fixed rule so that requested software parts can be easily retrieved from the formal structure based on the type or number, the semantic structure based on designation and inter-class relevancy.例文帳に追加

オブジェクト検索の際に、パターンマッチング方式において、モデリングデータを一定の法則の元に特徴ベクトル空間上に位置付けるための特徴抽出を行うことにより、型や数を元にした形式的な構造、名称を元にした意味的な構造、複数クラス間の関連性から検索が行えることで、要求するソフトウェア部品の検索を容易にする。 - 特許庁

An image composition device is provided with: a detecting means for detecting an area having a feature on a common pattern from each of two images for different subjects; and a combining means for superposing at least parts of the two images with weight detected by the detecting means and integrating them.例文帳に追加

被写体が異なる２つの画像において、２つの画像のそれぞれから共通した絵柄上の特徴を有する領域を検出する検出手段と、検出手段により検出された領域の少なくとも一部同士を重み付けして重ね合わせることにより、その２つの画像を継ぎ合わせる合成手段とを備えた画像合成装置を提供する。 - 特許庁

To reduce calculation costs required for distinguishing between markers having the same topology information, position estimation in a three-dimensional space and marker detection by using a marker recognition technique using existent topology information, in marker recognition in a computer input image, together with a marker recognition technique using an existent pattern matching technique, a technique using feature points of the image, and the like.例文帳に追加

コンピュータ入力画像中のマーカ認識において、既存のトポロジー情報を用いるマーカ認識手法、および既存のパターン・マッチング手法や画像の特徴点を用いる手法を用いるマーカ認識手法を併用し、同じトポロジー情報を持つマーカ間の区別、３次元空間内での位置推定、マーカ検出にかかる計算コストの低減を行う。 - 特許庁

To prevent key loss and picking of a temporary storage locker and a strong box or prevent an accident and a trouble caused by forgetting of a code number and theft of a code number, to eliminate participation of a manager in the accidents or troubles, and to eliminate sense of resistance of a user caused by remaining of living body feature pattern data, such as fingerprints and veins, in a device.例文帳に追加

一時預けロッカーおよび貴重品ボックスの鍵の紛失やピッキング事故あるいは暗証番号の失念や暗証番号の盗難による事故や事件を防止し、これらの事故事件への管理者の係わりをなくし、指紋静脈等生体特徴パターンデータが装置内に残ることの利用者が抱く抵抗感を払拭する。 - 特許庁

To provide a method for acquiring photomask information, for acquiring photomask information that facilitates evaluation of a photomask reflecting on factors by an optical system of an exposure machine and various factors such as spectral characteristics of a light source and developing characteristics of a resist and that facilitates determination of a pattern feature and appropriate determination of a raw material or thickness of a film to be formed in a semitransmitting portion.例文帳に追加

露光機の光学系による要因、光源の分光特性、レジストの現像特性などの諸要因を反映したフォトマスクの評価を可能として、パターン形状の決定、及び、半透過部に形成する膜の素材、または、膜厚の決定が的確に行えるようになされたフォトマスク情報を取得するフォトマスク情報の取得方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁

The method further includes a step of making a desired phase change for the part of the radiation beam when applying the pattern feature to the substrate and illuminating the phase modulation element using the part of the radiation beam when the phase modulation element is configured into a desired configuration by making the desired phase change.例文帳に追加

この方法には、さらに、基板にパターンフィーチャを加える際に放射ビームの上記部分に対して所望の位相変化を実施する工程であって、所望の位相変化の実施が、位相変調エレメントが所望の構成で構成されると、放射ビームの上記部分を使用して位相変調エレメントを照明する工程を含む工程が含まれている。 - 特許庁

A multiple patterning process employs a phase change material, portions of which can be converted to an amorphous state and then a remaining portion is selectively removed to provide high resolution pattern features with a feature spacing smaller than, for example, a minimum spacing available in a conventional patterning layer employing a single exposure.例文帳に追加

多重パターニングプロセスで相変化材料を使用し、相変化材料の一部分をアモルファス状態に転化させることができ、次いで残りの部分が選択的に除去され、たとえば単一の露光を使用して従来のパターニング層内で使用可能な最小間隔より小さいフィーチャ間隔を有する高解像度パターンフィーチャをもたらす。 - 特許庁

The first feature is described as follows: a surface of the hard disk media having a pattern formed thereon is irradiated with light containing a plurality of wavelengths; each intensity of reflected light detected in each wavelength is corrected with the intensity of the stray light component generated by a detector for detecting the reflected light from the hard disk media; and a spectral reflectance is calculated from the intensity of the corrected reflected light.例文帳に追加

本発明は、パターンが形成されたハードディスクメディアの表面に複数の波長を含む光を照射し、波長毎に検出される反射光の強度を前記ハードディスクメディアからの反射光を検出する検出器に発生する迷光成分の強度で補正し、前記補正された反射光の強度から分光反射率を算出することを第１の特徴とする。 - 特許庁

The present invention performs: a marker candidate region detection step ST01 dependent upon topology information; a marker candidate narrowing-down step ST02 dependent upon topology information; a marker detection step ST03 dependent upon topology information; a marker detection step ST04 dependent upon geometrical information; a marker detection step ST05 dependent upon pattern matching; a marker detection step ST06 dependent upon feature points; and a marker information extraction step ST07.例文帳に追加

トポロジー情報によるマーカ候補領域検出ステップＳＴ０１、トポロジー情報によるマーカ候補絞り込みステップＳＴ０２、トポロジー情報によるマーカ検出ステップＳＴ０３、幾何的な情報によるマーカ検出ステップＳＴ０４、パターン・マッチングによるマーカ検出ステップＳＴ０５，特徴点によるマーカ検出ステップＳＴ０６、マーカの情報抽出ステップＳＴ０７を実行する。 - 特許庁

A plurality of divided contour lines 8 divided by a pattern 5 in a right side of the coarsely detected film region are acquired in step S4, a plurality of smooth contour lines 9 are acquired by feature extraction in step S5, a folded portion of coordinates is removed in step S6, and the smooth contour lines 9 are coupled to acquire an entire contour line 10 in step S7.例文帳に追加

工程Ｓ４で粗検出フィルム領域の右辺においてパターン５によって分断された複数の分断等高線８を取得し、工程Ｓ５で特徴抽出によって複数の平滑等高線９を取得し、工程Ｓ６で座標の折り返しを除去し、工程Ｓ７で複数の平滑等高線９を結合して全体等高線１０を取得する。 - 特許庁