| 意味 | 例文 |
fine patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2995件
Fine particles (102) of conductive material are arranged in a desired pattern on a board (a), and the fine particles (102) arranged in the desired pattern are scanned with an energy beam (103) indicated by an arrow (b).例文帳に追加
基板(101)上に、導電性物質からなる微粒子(102)を所望のパターンに配列し(a)、矢印で示したエネルギービーム(103)で所望のパターンに配列した微粒子(102)を狙ってスキャンする(b)。 - 特許庁
To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor device capable of forming a fine pattern having a line thickness of 60 nm or less by preventing the deformation when patterning a hard mask.例文帳に追加
ハードマスクをパターニングする際の変形を防止することにより、線幅が60nm以下の微細パターンを形成することができる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for forming a fine pattern of a semiconductor element, which removes a problem that a critical dimension due to an overlay and forms a fine pattern of all forms by the DEET method.例文帳に追加
オーバーレイによって臨界寸法が不良になる問題を除去すると共に、DEET方法で全形態の微細パターンを形成することが可能な半導体素子の微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a semiconductor device capable of stably forming a fine pattern which is 50 nm or less by minimizing nonuniformity generated at the time of CMP in the step of forming the fine pattern.例文帳に追加
微細パターンの形成工程におけるCMP時に生じる不均一性を最小化し、50nm以下の微細パターンを安定的に形成可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a thin-film pattern forming substrate on which a fine linear thin-film fine pattern are formed accurately and stably, and to provide a method of forming a device, an electro-optical device and an electronic apparatus.例文帳に追加
細い線状の微細な薄膜パターンが精度良く安定して形成することができる薄膜パターン形成基板、デバイスの製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate cleaning method that is implemented with simple device configurations, and cleans a substrate having a fine pattern formed for a short time, without exerting any adverse influence on the fine pattern.例文帳に追加
簡単な装置構成で実施可能であり、微細パターンが形成されている基板をその微細パターンに悪影響を与えることなく短時間で洗浄するための基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁
Secondly, the metal plate is heated and applied with the gas or liquid pressure in several stages to be tightly pressed against the surface of the forming die, and the first fine line pattern is pressed to obtain a second fine-line pattern.例文帳に追加
次に金属板を加熱して多段的に気圧または液圧をかけ、金属板を成形型の表面に密着させて成形するとともに、第一細線を押印して第二細線を取得する。 - 特許庁
To form a pattern composed of a plurality of fine patterns having a first length and a pattern composed of a plurality of fine patterns having a second length in a mixed manner along tracks in a region in a sector on a substrate surface.例文帳に追加
基板表面のセクタ内の領域に、トラックに沿って、第1の長さの複数の微小パターンからなるパターンと、第2の長さの複数の微小パターンからなるパターンとを混在させて形成する。 - 特許庁
The pattern portion 1 is made of a thermosetting resin and integrated with the base portion 2 on the surface of the base portion 2 and has, the top surface which has a fine pattern 1a to be transferred to the fine die 23.例文帳に追加
パターン体1は、熱硬化性樹脂よりなり、基体2の表面にて基体2と一体化し、かつ微細金型23に転写するための微細パターン1aが形成された上面を有している。 - 特許庁
To provide a method for performing more accurate pattern formation, when a fine resist pattern is formed by a charged particle beam.例文帳に追加
荷電粒子線による微細なレジストパターン形成においてより正確なパターン形成を行う為のレジストパターンを形成する方法を開発する。 - 特許庁
To provide a resin composition for fine pattern formation, which smoothly shrinks a resist pattern by a heat treatment, and is easily removed by subsequent treatment with an aqueous alkali solution.例文帳に追加
熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る。 - 特許庁
To provide an organic electronic device using a fine pattern electrode that does less damage to a support medium and a method for manufacturing the pattern electrode.例文帳に追加
支持体へのダメージの少ない、高精細なパターン電極の製造方法及びそのパターン電極を用いた有機電子デバイスを提供すること。 - 特許庁
To provide a mask pattern for semiconductor device fabrication and a forming method thereof, and a manufacturing method for a semiconductor device with a fine pattern.例文帳に追加
半導体素子製造用のマスクパターン及びその形成方法、並びに微細パターンを有する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To draw a fine pattern such a hard disk pattern on an entire substrate surface with high accuracy in a short time by simple control.例文帳に追加
ハードディスクパターン等の微細パターンの描画が、簡易な制御により基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に描画可能とする。 - 特許庁
To provide a low-cost manufacturing method of a magnetic recording medium having high throughput in fine pattern formation and free from deterioration of pattern size accuracy.例文帳に追加
微細パタン形成におけるスループットが高く、製造コストが安価で、パタンサイズ精度劣化がない磁気記録媒体の作成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an exposure mask capable of forming a fine pattern by applying pattern exposure blocking a specified wavelength without modifying an exposure device.例文帳に追加
露光装置を改造することなく特定の波長をカットしたパターン露光を行うことで微細なパターン形成が可能な露光マスクを提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern by which a predetermined fine pattern can be formed on a substrate to be processed by using a chemically amplified resist film.例文帳に追加
化学増幅型のレジスト膜を用いて被加工基板に所定の微細パターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which a fine pattern having ≤10 μm unevenness even if present on a substrate surface is easily formed.例文帳に追加
基板表面に凹凸がある場合でも10μm以下の微細なパターンを容易に形成することが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photoresist composition that is superior in lithographic characteristics such as CDU even in the formation of a fine pattern; and a resist pattern forming method.例文帳に追加
微細なパターンの形成においてもCDU等のリソグラフィー特性に優れるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
By applying the exposure, which is to be applied to the pattern 42, in 85% to the pattern 45, a fine space L3 can be highly accurately formed.例文帳に追加
パターン45にパターン42に与える露光量の85%を与えることにより、微細スペースL3を高精度に形成することができる。 - 特許庁
To provide a pattern forming method whereby it is possible to form a uniform and fine-sized hole pattern on a processed film through the use of a heat shrink method.例文帳に追加
熱シュリンク法を用いて、被加工膜に均一且つ微細な寸法のホールパターンを形成することのできるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a conductive pattern which forms a highly fine pattern in a simple process and has no waste liquid disposal problems.例文帳に追加
本発明は、高精細なパターンを簡便な工程で形成し、さらに廃液処理問題のない導電性パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a photosensitive film pattern of a semiconductor device by which the deformation and dimensional change of a fine photosensitive film pattern can be prevented.例文帳に追加
微細な感光膜パターンの崩れや大きさの変動を防止し得る半導体素子の感光膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a conductive pattern which forms a highly fine pattern in a simple process.例文帳に追加
高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ簡便な工程で形成が可能である導電性パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern forming method with which a fine pattern formed by applying a side wall leaving process is efficiently and easily formed.例文帳に追加
側壁残しプロセスを適用して形成される微細なパターンを効率良く、かつ、容易に作成することができるパターン作成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern-arranged substrate manufacturing method capable of forming a more fine pattern of the catalyst metal in comparison with the photo-lithographic technology.例文帳に追加
フォトリソグラフィ技術よりも微細な触媒金属等のパターンを形成することができるパターン配列基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photosensitive silver paste for forming a high-precision fine electrode pattern which is not obtained by a conventional electrode pattern forming method.例文帳に追加
従来の電極パターン作成法では得られない高精度な微細電極パターンを形成するための感光性銀ぺーストを提供する。 - 特許庁
To achieve less pattern collapse than conventionally, in supercritical drying used for forming a fine pattern, when a semiconductor device is formed.例文帳に追加
半導体装置形成における微細パターンを形成するときに用いる超臨界乾燥におけるパターン倒れを、従来より減少すること。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a semiconductor device which can form a precise fine pattern by reducing the influence of uneven density of the pattern.例文帳に追加
パターンの粗密の影響を低減し、精度のよい微細パターンを形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical pattern forming member which enhances peeling resistance of a hardened film itself formed on the optical pattern forming member and enables fine formation of the optical pattern in high precision.例文帳に追加
光学パターン形成用部材に形成される硬化膜自身の耐剥離性を高めると共に、微細な光学パターンを高精度で形成できる光学パターン形成用部材を提供すること。 - 特許庁
To provide a patterning method capable of accurately forming a drawing pattern with a desired shape, especially a thick-film and fine-line pattern, while reducing a tact time (the number of processes) and not requiring a pattern forming device with high drawing accuracy.例文帳に追加
タクトタイム(工程数)を低減し、かつ描画精度が高いパターン形成装置を必要とせずに、所望する形状の描画パターン、特に厚膜細線パターンが精度よく形成する。 - 特許庁
A mask pattern 130b is formed with the oxide film 130 from which the silicon film 110 has been removed left and a fine pattern to be formed actually is formed using the mask pattern.例文帳に追加
シリコン膜110を除去して残存させた酸化膜130でマスクパターン130bを形成し、このマスクパターンを用いて実際に形成しようとする微細パターンを形成する。 - 特許庁
To easily manufacture a wiring board wherein a wiring pattern can be formed into a fine one highly precisely, and the wiring pattern is electrically connected without fail between layers of the pattern.例文帳に追加
配線パターンを微細なパターンに高精度に形成することができ、層間で配線パターンを確実に電気的に接続した配線基板を容易に製造することを可能にする。 - 特許庁
A metal pattern 91 of a metal pattern layer 90 constituting a touch panel 18, which is so fine as to be invisible, is provided at a position of not overlapping an RGB pattern 92 of a color filter 87.例文帳に追加
タッチパネル18を構成する金属パターン層90の目に見えないほどに微細な金属パターン91を、カラーフィルタ87のRGBパターン92と重ならない位置に設ける。 - 特許庁
To provide a pattern mask for electron beam irradiation capable of forming a very fine pattern by suppressing the occurrence of a gap between a pattern formation layer and a mask substrate, and also capable of reducing a cost.例文帳に追加
パターン形成層との間に隙間が生じるのを抑制して高精細のパターンを形成することができ、コストを削減できる電子線照射用パターンマスクを提供する。 - 特許庁
To provide an excellent positive resist composition that is excellent in line edge roughness, prevents a pattern falling and does not cause the pattern falling even if a focus and exposure particularly in a fine pattern are varied.例文帳に追加
ラインエッジラフネスに優れており、パターン倒れが防止され、特に微細なパターンでのフォーカス、露光を変動させてもパターン倒れのない優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a resist pattern thickening material capable of forming a resist-void pattern which is fine exceeding exposure limits of a light source of an exposure device used for patterning by thickening a resist pattern.例文帳に追加
レジストパターンを厚肉化し、パターニング時に用いる露光装置における光源の露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターンを形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁
By pressing this circular arc with a fine pattern 3 formed for the circumstance of the mask substrate 2 to a photosensitive resin layer to which this fine pattern 3 is transferred by exposure, the interval between the fine pattern 3 and photosensitive resin layer can be controlled to be shorter than the wavelength of exposure light so that the fine pattern 3 can be transferred satisfactorily by exposure.例文帳に追加
マスク基体2の外周面の微細パターン3が形成された円弧形状部分をこの微細パターン3を露光転写しようとする感光性樹脂層に押し当てることにより、微細パターン3と感光性樹脂層との間隔を露光光の波長以下に抑えることができ、露光光として近接場光を用いた露光転写を行うことができ、微細パターン3の露光転写を良好に行うことができる。 - 特許庁
The fine aperture pattern 40 includes 16 fine apertures arranged in a square grid of 4(rows)×4(columns) at an interval D of 3.0 mm.例文帳に追加
微小開口パターン40は、16個の微小開口部を、間隔D=3.0mmだけ離れて正方格子状4行×4列に配置している。 - 特許庁
The fine-pattern forming process can be advantageously applied to a semiconductor light emitting device, particularly, to a photonic crystal structure required to have fine patterns or a structure using a surface plasmon resonance principle.例文帳に追加
特に微細パターンが求められるフォトニック結晶構造または表面プラズモン共鳴原理を用いた構造に有益に採用されることができる。 - 特許庁
The fine patterns 130 are formed by using the defective opening which occurs when a fine exposure pattern is set against the resolution of an aligner.例文帳に追加
この微細パターン130は、露光装置の解像度に対して微細な露光パターンを設定することによって生じる開口不良を用いて形成する。 - 特許庁
The fine patterns MP which are the cause for the pseudo defects included in the exposure data patterns are removed by subjecting the patterns to the fine pattern removal processing.例文帳に追加
この微細パターン除去処理を行うことにより、露光データパターンに含まれている擬似欠陥の原因となる微細パターンMPが除去される。 - 特許庁
To pattern a thin film finely by preventing the generation of a thin film residual in fine recessed parts when making a fine processing of the thin film formed on a substrate.例文帳に追加
基板上の薄膜を微細加工する際に微細な凹部内に薄膜の残渣を生じるのを防止して、薄膜を高精細にパターン形成する。 - 特許庁
After fine circuit grooves are formed on the surface of the composite layer, conductive material is filled into the grooves to form the fine circuit pattern inlaid in the composite layer.例文帳に追加
微細回路溝が複合層の表面上に形成され、導電材料が溝に充填され、複合層にちりばめられる微細回路パターンを形成する。 - 特許庁
To enable drawing in a fine region of a unit dot by a middle density so as to realize drawing of a fine pattern with a middle density.例文帳に追加
単位ドット内の微細な領域を中間濃度で描画することを可能にし、微細かつ中間濃度のパターンの描画を実現可能とする光走査装置。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a reproduction of a fine pattern, capable of simply manufacturing the fine reproduction of a molecular level having a contrast, and to provide the reproduction.例文帳に追加
コントラストのある分子レベルの微細な複製物を簡単に作製することができる微細パターン複製物の作製方法及び複製物を提供する。 - 特許庁
The fine structure layer 2d has a plurality of first patterns 2e comprising separate fine elements and at least one second pattern 2f comprising an integrated element larger than each of separate fine elements.例文帳に追加
微細構造層2dは、分離した微細要素からなる複数の第一パターン2eと、前記分離した各微細要素よりも大きい一体要素からなる少なくとも一つの第二パターン2fとを有している。 - 特許庁
To provide a fine-structure transfer apparatus and method for transferring a fine-tructure that can accurately transfer a fine pattern of a stamper to a transfer target body without leaving any air bubble between the stamper and transfer target body.例文帳に追加
スタンパと被転写体との間に気泡が残存せず、スタンパの微細パターンを被転写体に正確に転写することができる微細構造転写方法及び微細構造転写装置を提供する。 - 特許庁
Then, even if pitches P in electrodes 604, 614 are formed by fine wirings, an electrical connection between the fine wirings is made possible by setting the pitches on the conductive pattern part 120 to be narrow (fine).例文帳に追加
そして、電極604、614のピッチPが微細な微細配線であっても、導電パターン部120のピッチを狭く(微細に)設定することで、微細配線間を電気的に接続可能である。 - 特許庁
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