「heating process」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing chlorella comprises (a) a process for grinding chlorella cells, (b) a process for stirring the ground chlorella cells with spraying a solvent on the ground chlorella and (c) a process for heating the chlorella.例文帳に追加

以下の工程：（ａ）クロレラ細胞を粉砕する工程、（ｂ）上記粉砕したクロレラに溶剤を噴霧しながら撹拌する工程、及び（ｃ）上記クロレラを加熱する工程、を含む、ウルトラミクロ化クロレラの製造方法。 - 特許庁

The coating process consists of a process for coating the surface of the base material with a membrane of amorphous titania and a process for heating the membrane to temp. equal to or lower than the softening point of the base material to convert amorphous titania to crystalline titania.例文帳に追加

この被覆工程は：（ａ）該表面を無定形チタニアの薄膜で被覆する工程と；（ｂ）該薄膜を基材の軟化点以下の温度に加熱して無定形チタニアを結晶性チタニアに変換する工程；からなる。 - 特許庁

The method includes a process of forming a membrane containing a graphitizing catalyst, a process of heating a gas phase carbon supplying source in the presence of the graphitizing catalyst to generate graphene, and a process of cooling the graphene.例文帳に追加

ラファイト化触媒を含む膜を形成する工程と、前記グラファイト化触媒の存在下で気相炭素供給源を熱処理してグラフェンを生成する工程と、前記グラフェンを冷却する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a method of forming fine lines improved in linearity by suppressing the spreading of wetting without requiring a preceding process for forming an interface such as a liquid repellent area along the desired lines and an additional process such as a heating process.例文帳に追加

撥液領域などの界面を所望のラインに沿って形成する前工程や、加熱などの工程などの他工程を必要とせず、濡れ広がりを抑え、直線性が向上した微細ラインを形成する。 - 特許庁

To obtain a structure composed of ≥2 kinds of brittle materials having a novel characteristic without being accompanied by a heating and firing process.例文帳に追加

加熱・焼成工程を伴わないで新規の特性を有する２種以上の脆性材料からなる構造物を得る。 - 特許庁

Atom rearrangement is made in a recess on a substrate surface by the heating process, thus flattening the substrate surface.例文帳に追加

加熱工程によって、基板表面の凹部において原子再配列が行われ、それにより基板表面が平坦化される。 - 特許庁

In a second heating process, the hard-baking of the insulator 14 and the sintering of the conductive paste 15 are performed nearly concurrently.例文帳に追加

第２の加熱工程では、絶縁物１４のハードベークと、導電ペースト１５の焼結とが略同時に行われる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a planar heating element capable of easily adjusting an electric resistance value in a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程で容易に電気抵抗値を調整することができる面状発熱体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve a heat welding strength and an anti-leaking property in a heat welding process by preventing deviation of a place of a heating resistor.例文帳に追加

熱溶着において抵抗発熱体の位置ずれを防止して溶着強度及び耐漏洩性能の向上を図る。 - 特許庁

Especially, a chuck machine in the container is provided with a heater for the spinning working and it is desirable that heating is performed in a spinning working process.例文帳に追加

特に、スピニング加工のための容器のチャック機に加熱装置を設け、スピニング加工工程のなかで加熱するとよい。 - 特許庁

A material wafer 11 is put in a rapid heating/rapid freezing (RTA) device 21 and heat treatment is performed (RTA process).例文帳に追加

素材ウェーハ１１を急速加熱・急速冷却（ＲＴＡ）装置２１に入れ、熱処理を行う（ＲＴＡ工程）。 - 特許庁

A pin heating mechanism 16 is provided to control temperatures of the supporting pins 15 according to the quick heat treatment in the process chamber 12.例文帳に追加

支持ピン15の温度を処理室12内での急速熱処理に対応させて制御するピン加熱機構16を設ける。 - 特許庁

To provide a technology for reducing warp or deformation of a base board occurring in heating process at the time of assembling a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の組み立て時に、加熱工程で生じるベース板のそりや変形を低減する技術を提供する。 - 特許庁

The present invention provides an apparatus and a method for achieving uniform heating to a substrate during a rapid thermal process.例文帳に追加

本発明は、急速加熱処理中に基板に対する均一な加熱を達成する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A sintered gear material 1 processed by sintering is heated by heating devices 2, 3, and is rolled by the warm-rolling process.例文帳に追加

焼結処理がなされた焼結素材歯車１を加熱装置２，３により温間成形として加熱し転造する。 - 特許庁

To provide a chemical for forming a photocatalyst layer not requiring the process of heating at a high temperature and capable of being applied at a site.例文帳に追加

高温での加熱の必要のない、現場塗工が可能な光触媒層形成用薬剤を提供すること。 - 特許庁

A heating process is applied to the base plate 30 on which the slurry is applied in a sintering furnace after drying the painted slurry (a step S130).例文帳に追加

塗布スラリーを乾燥させた後、スラリー塗布済みの基板３０を、焼結炉にて加熱処理する（ステップＳ１３０）。 - 特許庁

The rising speed of the internal pressure of the bladder in the heating process is ≥0.1 MPa/min and ≤1.0 MPa/min.例文帳に追加

上記加熱工程における、ブラダーの内圧の上昇速度は０．１ＭＰａ／分以上１．０ＭＰａ／分以下である。 - 特許庁

A capsuled body (capsuled with Pt or Ni) 38 is heated in an inert gas in a graphite crucible 42 in a preliminary heating process S15.例文帳に追加

予備加熱工程Ｓ１５では、不活性ガス中において黒鉛るつぼ４２内の被包体３８が加熱される。 - 特許庁

In the image forming method, the heating and pressing process is performed, after the image is formed using the image forming material.例文帳に追加

該画像形成材料を用いて、画像形成した後、加熱加圧処理することを特徴とする画像形成方法である。 - 特許庁

The temperature drops of the liquid crystal cells 1 in the vacuumizing process are compensated by heating with the built-in heater 12 of the above cassette tray.例文帳に追加

真空引き時の液晶セル１温度の低下は、前記カセットトレイ内臓ヒータ１２の加熱により補償される。 - 特許庁

The cycle of heating step-holding process-cooling step is repeated by a prescribed frequency, and the damage of the testing object 12 is confirmed thereafter.例文帳に追加

加熱工程−保持工程−冷却工程を所定回数繰り返した後、試験体１２の損傷を確認する。 - 特許庁

Also, a heating process of thermosetting the adhesives and shrinking the heat-shrinkable tube 24 is provided.例文帳に追加

また、接着剤の硬化ならびに熱収縮チューブ２４の収縮を同時に行う加熱工程を備えたものである。 - 特許庁

To provide a fluid processing unit capable of reducing energy necessary for heating a fluid to process the same.例文帳に追加

流体を処理するために、流体を加熱するのに必要なエネルギーを低減できる流体処理装置を提供すること。 - 特許庁

The base material 44 is heated from the cloth material 41 side and fused so that the first layer 42 does not droop in a heating process.例文帳に追加

この基材４４を、加熱工程で布材４１側より加熱し、第１層４２が垂れない程度に溶融する。 - 特許庁

To provide a heating rinse process preventing the lowering of rinsing performance and capable of saving time and power consumption.例文帳に追加

すすぎ性能の低下を防ぐとともに、時間及び消費電力量も節約可能な加熱すすぎ行程を提供する。 - 特許庁

The method preferably applied to the preheated livestock and marine product subjected to the primary process of boiling or steam heating.例文帳に追加

好適には、加熱済畜水産加工品の一次加熱方法がボイル又はスチーム加熱である畜水産加工品に使用される。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a highly reliable insulating film by a process not relying on the high temperature heating.例文帳に追加

高温加熱によらない方法で、高い信頼性を有する絶縁膜を形成する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Bromine is slowly diffused into the silicon germanium layer in a heating process, so that bromine is hardly diffused into the tungsten nitride layer.例文帳に追加

臭素は、熱プロセスの間、シリコンゲルマニウム層内では、より遅く拡散するので、臭素は窒化タングステン層まで拡散しない。 - 特許庁

Pyrolysis in a molding process by heating to melt and extrude the polyacetal resin under an inert gas atmosphere is controlled.例文帳に追加

ポリアセタール樹脂を不活性ガス雰囲気下で加熱溶融して押出加工し、成形加工過程での熱分解を抑制する。 - 特許庁

To prevent the discoloration of a cast molded epoxy resin article produced by pressure gelation process without using a special heating apparatus.例文帳に追加

特殊な加熱装置を必要とすることなく、加圧ゲル化法によるエポキシ樹脂注形品の着色を防止する。 - 特許庁

By a lighting testing process 17, aging is carried out while passing the light-emitting tube through a heating furnace in a lighted state.例文帳に追加

点灯検査工程１７により、発光管を点灯させた状態で加熱炉に通過させながらエージングをする。 - 特許庁

A heating process is executed at the corrected set temperature, and a resist pattern of the target dimension is formed on the wafer (step S10).例文帳に追加

補正された設定温度で加熱処理を行い、ウェハ上に目標寸法のレジストパターンを形成する（ステップＳ１０）。 - 特許庁

This heating process is carried out in a clip tenter 18 while clipping both end parts of the cellulose acylate film 11 with clips 13.例文帳に追加

この加熱工程は、セルロースアシレートフィルム１１の両側部をクリップ１３で把持しながらクリップテンタ１８で実施する。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing device has a process tube for containing a wafer holder and a heating means disposed around it.例文帳に追加

ウェハホルダを収容するプロセスチューブとその周囲に配置された加熱手段を有する半導体製造装置である。 - 特許庁

To simplify a device and enhance the process time by using a substrate holder in a heating and cooling treatment in a vacuum.例文帳に追加

真空中での加熱、冷却処理について、基板ホルダーを使うことにより、装置の簡略化とタクトアップを図る。 - 特許庁

To provide a method for separating sulfur dispensing with the use of an additional heating device for an adsorption/separation process.例文帳に追加

吸着分離プロセスのための付加的な加熱装置の使用を省くことが可能な硫黄分離方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the porous silicon oxide comprises (1) a process for reacting a silicon alkoxide with a liquid acid anhydride under heating, (2) a gelling process for adding an organic compound to the resultant liquid product and then heating the mixture thereof, (3) a process for drying the resultant gelled product and (4) a process for removing the organic compound component from the resultant dried product.例文帳に追加

(1)ケイ素アルコキシドと液状酸無水物とを加熱下に反応させる工程、(2)得られた液状生成物に有機化合物を加え、加熱することによりゲル化する工程、(3)得られたゲル状生成物を乾燥する工程、および(4)得られた乾燥物から有機化合物成分を除去する工程を備えた多孔質ケイ素酸化物の製造方法。 - 特許庁

The method has the process of thermally decomposing the hydrogen iodide into hydrogen and iodine by heating the hydrogen iodide, the process of fixing the iodine formed by the thermal decomposition to a fixing agent, the process of separating from the formed hydrogen an undecomposed hydrogen iodide which is not subjected to the decomposition in the thermal decomposition, and the process of separating the iodine from the fixing agent by heating the fixed iodine.例文帳に追加

ヨウ化水素を加熱して水素とヨウ素とに熱分解させる工程と、熱分解で生成したヨウ素を固定化剤に固定化する工程と、熱分解で分解されなかった未分解のヨウ化水素を生成した水素から分離する工程と、固定化したヨウ素を加熱して固定化剤からヨウ素を分離する工程とを有する。 - 特許庁

The method comprises a process for performing heating treatment for a semiconductor device with a layer insulation film containing impurities, a process for executing a treatment for making impurity concentration distribution of an upper layer part of the layer insulation film 2 uniform after the heating treatment process and a process for polishing a layer insulation film by CMP after the uniformization treatment of impurity concentration distribution.例文帳に追加

不純物を含む層間絶縁膜を有する半導体装置を加熱処理する工程と、その加熱処理工程の後、層間絶縁膜２の上層部の不純物濃度分布を均一にするための処理を行う工程と、不純物濃度分布の均一化処理の後に、層間絶縁膜をＣＭＰにより研磨する工程とを備える。 - 特許庁

Among an arrangement process, a heating process and a forming process, at least the heating process is carried out in keeping the oxygen concentration in the chamber 10 lower than the atmospheric oxygen concentration, the oxygen concentration in the cavity C lower than the oxygen concentration in the chamber 10, and the cavity C at a positive pressure against the chamber 10.例文帳に追加

配置工程、加熱工程、及び成形工程のうち少なくとも加熱工程を、チャンバ１０内の雰囲気の酸素濃度を大気の酸素濃度よりも低く保ち、且つキャビティＣ内の雰囲気の酸素濃度をチャンバ１０内の雰囲気の酸素濃度よりも低く保つと共にキャビティＣをチャンバ１０に対して陽圧とした状態で行う。 - 特許庁

The first evaluation method of emulsion stability includes a heating process for heat-treating the emulsion, a separation process for centrifugally separating the emulsion, after the heating process into water phase and oil phase and a concentration measuring process for measuring the concentration of protein contained in the oil phase and the emulsion stability of the emulsion is evaluated, on the basis of the concentration of protein.例文帳に追加

第一の乳化安定性の評価方法は、乳化物を加熱処理する加熱工程と、加熱工程後の乳化物を遠心して水相及び油相に分離する分離工程と、油相に含まれるタンパク質の濃度を測定する濃度測定工程とを備え、該タンパク質の濃度に基づいて乳化物の乳化安定性が評価される。 - 特許庁

To achieve a process for meeting environment, in an image-forming apparatus having an induction heating apparatus for generating an eddy current, in a heating member by generating a high-frequency magnetic field from a coil and promoting self-heating of the heating member based on eddy current losses and a fixing apparatus for fixing a developer image on a recording medium by the self-heating of the heating member.例文帳に追加

この発明は、コイルから高周波磁界を発生させることにより加熱部材に渦電流を生じさせ、渦電流損に基づいて加熱部材を自己発熱させる誘導加熱装置を有し、この加熱部材の自己発熱により記録媒体上の現像剤像を定着させる定着装置を有するものにおいて、環境に対処した処理を実現できる。 - 特許庁

A condition setting is carried out by calculating a data pattern, a heating temperature, and a heating time in a following storage state heating process resting on stress calculated for each data pattern as to the steps S4 and S8 which are previously carried out.例文帳に追加

条件の設定は、既に行なったステップＳ４およびステップＳ８の工程について、データパタンごとに算出したストレスに基づき、次記憶状態加熱工程のデータパタン、加熱温度、加熱時間の算出をすることにより行なう。 - 特許庁

To provide a vapor-phase growth apparatus that can simplify the insulation structure between a process chamber and heating means, can improve the heating efficiency of a substrate to be processed, and can prevent progression of aged deterioration due to overheating by the heating means.例文帳に追加

プロセス室と加熱手段との間の遮蔽構造を簡単化すると共に、被処理基板の加熱効率を向上させ、加熱手段の過加熱による経年劣化の促進を防ぐことのできる気相成長装置を提供する。 - 特許庁