「ionized source」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A sample 1 is introduced into plasma generated in a plasma ion source part 2, and ionized.例文帳に追加

プラズマイオン源部２で生成されたプラズマ中には試料１が導入され、イオン化される。 - 特許庁

In the dioxin measuring devices 3a (3b), an exhaust gas is ionized by an atmospheric pressure ion source, and the ionized material is analyzed by a mass spectrometry so that a concentration of dioxins is measured.例文帳に追加

ダイオキシン計測装置３ａ，３ｂは、大気圧イオン源で排ガスをイオン化し、これを質量分析して、ダイオキシン類の濃度を計測する。 - 特許庁

To provide a manufacturing equipment for an ionized liquid capable of perfectly preventing the ionized liquid from leaking to a liquid supply source from a liquid tank for storing the ionized liquid prepared by charging high voltage DC electricity.例文帳に追加

本発明は、高電圧直流電気を荷電して作るイオン化液を蓄溜する液槽から、液供給源にリークするのを完全に阻止できるイオン化液製造装置を提供するものである。 - 特許庁

A sample is ionized softly by a sonic spray ion source 3 in the case of elementary analysis.例文帳に追加

元素分析を行う場合は、試料はソニックスプレイイオン源３によってソフトにイオン化される。 - 特許庁

While maintaining an ion source at the pressure below 0.1 Torr, a reagent gas is ionized in the ion source by electron ionization to produce reagent ions.例文帳に追加

イオン源を0.1Torr未満の圧力に維持しながら、電子イオン化により、試薬ガスをイオン源内でイオン化して、試薬イオンを生成する。 - 特許庁

The remaining neutral molecules which are not ionized are sent to the ion source on the mass spectrometry apparatus side by an extraction electrode 10.例文帳に追加

イオン化しなかった残留中性分子は引出電極１０により質量分析部側のイオン源に送られる。 - 特許庁

Energy is applied to impurities, with which a semiconductor wafer 9 is to be doped by using an ion source in a vacuum vessel, and the impurities are ionized.例文帳に追加

真空容器内のイオン源１で半導体ウエハ９にドーピングする不純物にエネルギーを与えてイオン化する。 - 特許庁

The light source 100 comprises optical elements such as a lens and a mirror to modify a property of continuous wave laser energy provided to the ionized gas.例文帳に追加

光源１００は、イオン化ガスに供給される連続波レーザエネルギーの特性を変更するため、レンズ、ミラー等の光学要素を備える。 - 特許庁

When the target is irradiated with laser beams, the noble metal source and the NOx storage material source are mixed with each other on the atomic levels in ionized states or neutral particle states and the obtained mixture is then mixed with the carrier oxide source on the atomic levels.例文帳に追加

レーザー照射によって貴金属源とNO_x 吸蔵材源とはイオン状態あるいは中性粒子状態で原子レベルで混合され、それが原子レベルで担体酸化物源と混合されることになる。 - 特許庁

Nitrogen introduced in the electron defect correction device by a gas introducing system 1 is ionized by α-rays generated by an α-ray source 2 such as polonium, and the ionized nitrogen is irradiated on a portion 4 charged up by the irradiation of electron beams, and destaticizes it.例文帳に追加

ガス導入系１で電子ビーム欠陥修正装置内に導入した窒素をポロニウムのようなα線源２から出るα線で電離し、電離した窒素を、電子ビームの照射でチャージアップした部分４に照射し除電する。 - 特許庁

A process gas supplied from a supply source 2 is ionized into plasma in a plasma discharging space 1a and blown upon the semiconductor substrate 90 coated with the tungsten film to be etched.例文帳に追加

供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、エッチングすべきタングステンが被膜された基材９０に吹付ける。 - 特許庁

In this space, not only thermion are discharged from a filament 5, but also laser beam is irradiated from a laser light source 6, and the sample is ionized.例文帳に追加

この空間内にはフィラメント５から熱電子が放出されるのみならずレーザ光源６からレーザが照射され試料がイオン化される。 - 特許庁

At the ion source 10, a broad range of the sample is ionized at a time and the ion image of the sample is extracted as it is through the lens system 60.例文帳に追加

イオン源１０では、試料の広い範囲を同時にイオン化し、上記レンズ系６０を用いて、上記試料のイオン像をそのまま引き出す。 - 特許庁

A target 104 disposed inside a treatment region 107 provides a material source which is sputtered and thereafter ionized in plasma atmosphere.例文帳に追加

処理領域１０７内に配置されたターゲット１０４は、スパッタされその後プラズマ雰囲気中でイオン化される材料源を提供している。 - 特許庁

At least in one mode, a target 104 provides a source of the material sputtered by plasma and subsequently ionized by an induction coil 122.例文帳に追加

少なくとも一つの態様において、ターゲット１０４は、プラズマによりスパッタリングされ、その後、誘導コイル１２２によってイオン化される材料のソースを提供する。 - 特許庁

A minus bias is applied to the workpiece W or a workpiece holder 8 holding the workpiece W by a bias power source 26, and the ionized sputtered particles are adsorbed.例文帳に追加

ワークＷまたはワークＷを保持するワークホルダ８には、バイアス電源２６によってマイナスのバイアスが与えられ、イオン化されたスパッタ粒子を吸着する。 - 特許庁

A target 104 provides a source of material to be sputtered by a plasma and then ionized by an induction coil 122, thereby producing electrons and ions.例文帳に追加

ターゲット１０４はプラズマによってスパッタされる材料を供し、さらに材料は電子とイオンを生成する誘導コイル１２２によってイオン化される。 - 特許庁

Electron temperature below the lower range is generated, so that the metal atoms are dissociated from the gas atoms and the metal atoms are ionized into light ions and heavy ions according to their mass to charge ratio, and thereby the source material is partially ionized.例文帳に追加

低い範囲より下の電子温度が生成されて、気体原子から金属原子を解離することによって、および金属原子をそれらの質量対電荷比に従って軽イオンおよび重イオンへとイオン化することによって、原料物質を部分的にイオン化する。 - 特許庁

The sputtering power source 3 supplies electric power of ≥5 W/cm^2 to the target 2, and the sputtering particles are ionized in a plasma P formed only by the electric power.例文帳に追加

スパッタ電源３は５Ｗ／ｃｍ^２ 以上の電力をターゲット２に投入し、この電力のみで形成されたプラズマＰ中でスパッタ粒子がイオン化する。 - 特許庁

To provide a field ionized ion source adjustment method for GC-MS which can be easily performed by using acetone so that measurement can be always performed on the best condition.例文帳に追加

常に最良の条件で測定できるように、アセトンを用いて簡単に行なえるＧＣ−ＭＳ用の電界イオン化イオン源の調整方法を提供する。 - 特許庁

A soft X-ray generator 3 being an ionizing source is arranged in a chamber 1 and an ion carrying gas is supplied into the chamber 1 to be ionized by soft X-rays.例文帳に追加

チャンバ１にイオン化源である軟Ｘ線発生装置３を配設すると共に、このチャンバ１内にイオン搬送ガスを供給し、軟Ｘ線によってイオン搬送ガスをイオン化する。 - 特許庁

A light source 100 includes: a chamber 128; an ignition source 140 that ionizes a gas within the chamber; and a continuous wave laser 104 that provides energy to the ionized gas within the chamber to produce a high brightness light 136.例文帳に追加

光源１００は、チャンバ１２８と、前記チャンバ内のガスをイオン化するための点火源１４０と、前記チャンバ内の前記イオン化ガスにエネルギーを供給して高輝度光１３６を生成するための連続波レーザ１０４と、を備える。 - 特許庁

A supply source of the gaseous cleaning agent comprises a spray source of the evaporated cleaning agent that flows into the housing and a weak ionization plasma source that is arranged near the article-supporting place within the housing for generating weakly ionized plasma in a surrounding atmosphere adjacent to the material-supporting place.例文帳に追加

ガス状洗剤の供給源は、ハウジングの内部に流入する蒸発した洗剤の噴霧源と、ハウジングの内部において物品支持場所に近接配置され、弱イオン化プラズマを物体支持場所に隣接する周囲雰囲気中に発生させる弱イオン化プラズマ源とより成る。 - 特許庁

A sample separated in a separation column 4 is ionized by an ion source 5, and the collision induction dissociation is caused by the first ion guide 21, the slit electrode 22 and the second ion guide 23 to perform MS^2.例文帳に追加

分離カラム４にて分離した試料はイオン源５でイオン化され、第１イオンガイド２１、スリット電極２２、第２イオンガイド２３により衝突誘起解離が起こされＭＳ^２が行われる。 - 特許庁

Also, this ionization type sensor is provided with photoelectric emission materials, and the photoelectric emission materials are irradiated with the ultraviolet rays to be emitted from the ultraviolet ray emitting source so that air in the space can be ionized by generated negative ion.例文帳に追加

また、光電子放出材を設け、紫外線照射源より照射される紫外線をこの光電子放出材に照射して、発生する負イオンにより上記空間の空気をイオン化する。 - 特許庁

A gas (Ar gas) having an atomic weight lower than that of an ion emitted from a target material 6 (Cr) is introduced into a furnace 1, and the Ar gas is ionized with a filament electron source 2.例文帳に追加

ターゲット材６（Ｃｒ）より放出されるイオンよりも低原子量のガス（Ａｒガス）を炉１内に導入し、フィラメント電子源２でＡｒガスをイオン化し、基材４にバイアス電圧を印加する。 - 特許庁

A neutral atom of the element contained in the hair is ionized in the ion source 40 by electron beam irradiation or light irradiation, to mass-analyze an ion obtained therein of the element contained in the hair, by the analytical part 50.例文帳に追加

イオン源４０では、毛髪含有元素の中性原子を電子線照射または光照射によってイオン化し、これにより得られる毛髪含有元素のイオンを分析部５０で質量分析する。 - 特許庁

The evaporated titanium particles formed in the evaporation source 3 are ionized by a plasma of argon or an argon-nitrogen mixture, and then are deposited on surfaces of the substrates to which a negative bias potential is applied.例文帳に追加

蒸発源３において形成されたチタンの蒸発粒子は、アルゴン又はアルゴン及び窒素の混合ガスのプラズマによってイオン化され、負のバイアス電位が印加された基板の表面に蒸着される。 - 特許庁

On passing through the filter, the highly ionized arc plasma is essentially rid of particles making a source plasma for reacted as well as un-reacted coatings characterized by high density and near defect free quality.例文帳に追加

フィルタを通過する際に、高度に電離したアークプラズマには基本的に粒子がなく、これによって高密度でほぼ欠点がない品質を特徴とする反応及び未反応コーティングの源プラズマとなる。 - 特許庁

The ECR sputtering apparatus 1 comprises: an ECR sputtering source 2 which generates the plasma originating from the sputter target by using an electron cyclotron resonance mechanism and irradiates a substrate 10 with the generated plasma; and an ion beam source 3 which ionizes a supplied gas like the reactive gas and irradiates the substrate 10 with the ionized gas.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタ装置１は、電子サイクロトロン共鳴によってスパッタターゲットのプラズマを発生し、発生したプラズマを基板１０に照射するＥＣＲスパッタ源２と、反応性ガス等の供給ガスをイオン化し、イオン化したガスを基板１０に照射するイオンビーム源３を備える。 - 特許庁

This mass spectroscope is provided with a mass spectrometry mechanism for allowing a mass spectrometry on ionized detected gases, and is separately equipped with a first ion source 11 for attaching positive metal ions to ionize and a second ion source 17 for giving the impact of electrons to ionize.例文帳に追加

イオン化した被検出ガスを質量分析する質量分析機構を備える質量分析装置であり、正電荷の金属イオンを付着させてイオン化する第１イオン源１１と、電子を衝撃させてイオン化する第２イオン源１７の２つのイオン源を独立して備えている。 - 特許庁

To provide an ion flame generator usable as various driving sources and an ion source as well as a heat source of an incinerator and the like and capable of more efficiently generating hotter and stronger ion flame by combusting positive ionized fuel in an existing ion burner.例文帳に追加

既知のイオンバーナーにおいて、陽イオン化された燃料を燃焼させ、より高温でより強力なイオン火炎をより効率よく発生することができ、焼却炉等の熱源として以外にも、各種推進源、イオン源として利用可能なイオン火炎発生装置を提供する。 - 特許庁

Subsequently, laser light is irradiated to the above fixed solution kind through a laser light introduction port prepared in the above vacuum chamber from a laser light source of the above interface for mass spectrometric analysis, and the above solution kind is ionized.例文帳に追加

次いで、固定された前記溶質種に対して、前記質量分析用インターフェイスのレーザ光源から前記真空チャンバに設けられたレーザ光導入口を介してレーザ光を照射し、前記溶質種をイオン化する。 - 特許庁

To provide a flight time type mass spectrometry device which can cut off at this side of an ion reserve much of ions originating in a carrier gas that are introduced in a large quantity from a gas chromatograph device and ionized in a large quantity at an ion source.例文帳に追加

ガスクロマトグラフ装置から大量に導入され、イオン源で大量にイオン化される、キャリアガス由来のイオンの多くを、イオン溜の手前でカットすることのできる飛行時間型質量分析装置を提供する。 - 特許庁

Electric power is supplied into a chamber 2 through a base material holder 5 for holding the base material 15 from a rear surface side, by which the clusters spouted from the cluster evaporation source 3 are cluster ionized and the film is formed on the base material 15.例文帳に追加

基材１５を背面側から保持する基材ホルダ５を介してチャンバ２内に電力を供給することにより、クラスター蒸発源３より噴出したクラスターをクラスターイオン化させるとともに基材１５上に膜を形成する。 - 特許庁

The film forming method comprises ionizing the source gas which has been introduced by the gas feeding means 34 to the reaction chamber, with an electrolytic dissociation reaction caused by plasma in the reaction chamber 3, and then opening the butterfly valve 1 to introduce the ionized gas into the film forming chamber 2.例文帳に追加

反応室用ガス供給手段３４より導入された原料ガスを反応室３内で、プラズマによる電離作用でイオン化しておき、その後、バタフライバルブ１を開き、イオン化されたガスを成膜室２内に導入する。 - 特許庁

An ultraviolet ray from an ultraviolet ray generating source 15 is irradiated onto a light receiving body 11a in which a covered layer 14 composed of titanium oxide is installed, and air surrounding the light receiving body 11a is ionized into positive charged particles and negative charged particles.例文帳に追加

酸化チタンからなる被覆層１４が設けられた受光体１１ａに紫外線発生源１５からの紫外線を照射し、受光体１１ａの周囲の空気を正の荷電粒子と負の荷電粒子とに電離する。 - 特許庁

An electron source 38 for He^* ionization is provided between an ionization chamber 32 and QMF 36 disposed in a vacuum chamber 31 of an MS part 30, and He^* emitted from the ionization chamber 32 is irradiated with electrons having proper energy, and thereby ionized into He^+.例文帳に追加

MS部３０の真空チャンバ３１内に配設されたイオン化室３２とQMF３６の間にHe^*電離用電子源３８を設け、イオン化室３２から出てきたHe^*に適当なエネルギーを持つ電子を照射することにより電離させてHe^+に変える。 - 特許庁

An operation of the plasma torch 6 is stopped in the case of chemical morphologic analysis, the sample is soft-ionized by the sonic spray ion source 3 in the condition therein, and the generated ion is analyzed mass-spectrometrically by the mass spectrometer.例文帳に追加

化学形態別分析の場合は、誘導結合プラズマトーチ６の作動が停止され、その状態において、試料をソニックスプレイイオン源３によりソフトにイオン化することによって生成されたイオンを質量分析計で質量分析する。 - 特許庁

A discharge vessel 2 comprises a gas inlet 10 for gas to be ionized in the discharge vessel 2; a source 9 for gas to be ionized, connected to the gas inlet 10; a high frequency coil 3 surrounding the discharge vessel 2; and a high frequency generator 4 connected to the high frequency coil 3 to generate the high frequency alternating electromagnetic field for ionizing the gas in the discharge vessel 2.例文帳に追加

放電容器（２）は、放電容器（２）内に通じる、放電容器（２）内でイオン化すべきガス用のガス入口（１０）と、前記ガス入口に接続されたイオン化すべきガス用の源（９）と、放電容器を包囲する高周波コイル（３）と、放電容器内にあるガスをイオン化する高周波交番電磁界を発生させるための高周波コイルに接続された高周波発生器（４）とを含む。 - 特許庁

An epitaxial film of a compound material is grown on a substrate crystal material by jointly using a partially ionized beam obtained by ionizing at least one portion of molecules or atoms released from a conventional molecular beam supplying source and a neutral molecular beam from a conventional vaporization source.例文帳に追加

従来の分子ビーム供給源から放出される分子または原子の少なくとも一部分をイオン化することによって得られる部分イオン化ビームを使用して、従来の蒸発源からの中性分子ビームと併用することにより、基板結晶材料の上に化合物材料のエピタキシャル膜の成長を行う。 - 特許庁

In the method and the apparatus for ionizing cluster, a cluster ion beam source 5 is included, the cluster ion beam source has a wavelength control mechanism (diffraction grating, aperture slit) capable of controlling the wavelength of the light irradiated on the cluster in a wavelength range having the energy to cause ionization by inner shell electron, and the cluster is ionized in multivalent manner by utilizing Auger process.例文帳に追加

クラスターのイオン化方法または装置において、クラスターイオンビーム源５を備え、該クラスターイオンビーム源を、クラスターに照射される光の波長を内殻電子による電離が起きるエネルギー持つ波長範囲に制御可能とした波長制御機構（回折格子，アパチャースリット）を有する構成とし、オージェ過程を利用してクラスターを多価にイオン化するように構成する。 - 特許庁

To solve the following problem: it is effective that a precipitate including a fluorine compound is exhausted as hydrofluoric acid vapor by generating hydrogen ions by ionizing a hydrogen compound gas and by reacting fluorine and the hydrogen ions, as one of methods for removing a precipitate including fluorine piled up on a source housing in an ion pouring device, but the hydrogen compound gas is not ionized when a cathode filament of an ion source is burned out.例文帳に追加

イオン注入装置において、ソースハウジング内に堆積したフッ素を含む析出物を除去する方法の一つとして、水素化合物ガスをイオン化し水素イオンを発生させ、フッ素と水素イオンとを反応させ、フッ酸蒸気として排気することが有効であるが、イオン源のカソードフィラメントが切れると、ガスをイオン化できない。 - 特許庁

The charged particle transfer ionizer is provided with an irradiation window 11 on a side wall portion on an upper side of a chamber 10, a radiation ray shielding cover 12 on an outer side of the side wall portion inside of which an ionizing source 20 is arranged, and air in the chamber is ionized by radiation ray from the irradiation window.例文帳に追加

チャンバ１０の上方の側壁部に照射窓１１を設けると共に、側壁部の外側に放射線遮蔽用カバー１２を設け、その内部にイオン化源２０を配設し、照射窓を介して、チャンバ内の空気をイオン化するように構成する。 - 特許庁

A work W is held in a vacuum chamber 11, a source gas introduced intermittently to the vacuum chamber 11 is ionized to generate plasma, and a bias voltage V is applied between an electrode 14 inside the work W and the work W, while causing the plasma to exist in the work W.例文帳に追加

ワークＷを真空槽１１内に保持し、真空槽１１に導入する原料ガスを間欠的に電離させてプラズマを生成し、ワークＷ内にプラズマを存在させながら、ワークＷ内の電極１４とワークＷとの間にバイアス電圧Ｖを印加する。 - 特許庁