「layer depth」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

A depth from the opening of the via hole 3 to the bottom is formed shallower than a distance between the mounting component 2 and the interlayer insulating layer 4.例文帳に追加

ビアホール３の開口部から底部までの深さが、実装部品２と層間絶縁層４の表面との間の距離より浅く形成されている。 - 特許庁

The high strength steel having excellent delayed fracture resistance is characterized in that the depth of a nitrided layer in the surface is ≥200 μm.例文帳に追加

鋼の表面の窒化層深さが２００μｍ以上であることを特徴とする耐遅れ破壊特性に優れた高強度鋼並びにその製造方法である。 - 特許庁

A bottom part 8a having a depth exceeding the position of an active layer 5 from the top surface is formed on a part of area of semiconductor laminates 3, 4, 5, 6, 7, and 8.例文帳に追加

半導体積層３、４、５、６、７、８の一部領域に、表面から活性層５の位置を越える深さをもつ底部８ａが形成されている。 - 特許庁

To provide an optical fiber cable including an external sheath of a multiple layer structure in which recesses of the external sheath having a predetermined diameter and depth are formed.例文帳に追加

外部被覆材の凹部が一定の直径と深さを有するように形成された多層構造の外部被覆材を含む光ファイバーケーブルを提供する。 - 特許庁

Further, the damaged layer is reduced even when an alkaline etchant of ≤20 wt.% in concentration is used to eliminate an increase in depth of an etch pit and a decrease in flatness.例文帳に追加

また、濃度２０ｗｔ％以下のアルカリ性エッチング液を使っても加工変質層が減り、エッチピットの深さ増大や平坦度低下が解消される。 - 特許庁

Forming the nozzles 460 in the layer 420 prior to bonding enables forming nozzles 460 that have a desired depth and a desired geometry.例文帳に追加

ボンディング前に、層４２０内にノズル４６０を形成すると、所望の深さと所望の幾何学的形状を有するノズル４６０を形成することができる。 - 特許庁

On a surface 2a of the base film 2 on which the optical anisotropic layer 3 is layered, multiple grooves, whose width and depth are 5 μm or less, are provided.例文帳に追加

基材フィルム２の光学異方層３が積層された表面２ａに、幅が５μｍ以下かつ深さが５μｍ以下である複数の溝が設けられている。 - 特許庁

To impart higher surface hardness to the surface of an ornamental member formed with the hardened layer at an arbitrary depth from the surface and to enhance the ornamental value.例文帳に追加

表面から任意の深さで硬化層が形成された装飾部材の表面に、より高い表面硬度を与え、かつ装飾的価値を高める。 - 特許庁

The medical tube 1 is extended in the direction of the lumen 3 from the outer surface of the outer layer 5, and is produced with a groove 9 whose depth does not reach the lumen 3.例文帳に追加

そして、医療用チューブ１は、外層５の外面よりルーメン方向に延びるとともに、ルーメン３に到達しない深さの溝を備えている。 - 特許庁

An impurity concentration of the p-type impurity layer 2 is low and further the depth is 1.0 μm or less, sufficiently shallow, so that the carrier implantation efficiency is decreased.例文帳に追加

ｐ型不純物層２の不純物濃度は、低く、かつ、その深さは、１．０μｍ以下と十分に浅いため、キャリア注入効率が低減される。 - 特許庁

Further, the toner intrusion restricting layer 13 is disposed in a depth of 0.05 to 0.3 mm from the outer circumferential surface of the roller main body 12 and the thickness thereof falls into the range of 0.2 to 0.5 mm.例文帳に追加

また、トナー侵入規制層１３は、ローラ本体１２の外周面より０．０５〜０．３ｍｍの深さに設けられ、その厚さは０．２〜０．５ｍｍである。 - 特許庁

The first light receiving part 11a comprises a B-signal charge storage part and an R-signal charge storage part laminated in a depth direction in a semiconductor layer.例文帳に追加

第１受光部１１ａは、半導体層中に深さ方向に積層されたＢ信号電荷蓄積部およびＲ信号電荷蓄積部を備える。 - 特許庁

Further, the tip 6 of the medical tube 1 is provided with a groove 9 extending from the outer face of the outer layer to the direction of the lumen and having a depth, not reaching the lumen.例文帳に追加

さらに、医療用チューブ１は、先端部６で、外層の外面よりルーメン方向に延びるとともに、ルーメンに到達しない深さの溝９を備えている。 - 特許庁

A tail region of the channel layer is compensated by the embedded n-type impurity region, so that the depth of the effective channel region and the channel length can be made equal.例文帳に追加

埋め込みｎ型不純物領域によりチャネル層のテール領域が補償されるため、実効チャネル領域の深さとチャネル長を同等にできる。 - 特許庁

The information recording medium has a clamp region formed as an annular recessed planar part with ≥0.1 mm depth on the face where an information recording layer is formed.例文帳に追加

また、情報記録層形成面におけるクランプ領域が、高さ０．１ｍｍ以上の円形凹状平面部である情報記録媒体が提供される。 - 特許庁

To provide a solar dial for timepiece having a three-dimensional pattern layer on which an irregular pattern having a depth appears and by which a high-quality impression can be felt.例文帳に追加

深みを持った凹凸模様を出現させて高級感を感じさせる立体的模様層を有する時計用ソーラ文字板を提供する。 - 特許庁

A transistor 7 is formed on a surface region of a SOI (silicon on insulator) substrate 1 which has an oxide film layer 3 in a depth direction and is isolated by an element isolating region 5.例文帳に追加

深さ方向に酸化膜層３を有し、素子分離領域５で分離されたＳＯＩ基板１の表面領域にトランジスタ７を形成する。 - 特許庁

A hardened layer to be hardening-treated needs to have a depth of 0.1 mm or more and a hardness of Hv 500 or more, or favorably, Hv 700 or more.例文帳に追加

硬化処理を施す場合の硬化層は、深さが０．１ｍｍ以上、硬さがＨｖ５００以上必要で、Ｈｖ７００以上であることがより好ましい。 - 特許庁

The outer periphery is covered with a coloring resin layer over the length corresponding to the screwing-in depth to the skeleton from the head part outer edge of the fixture for the heat insulation waterproof construction.例文帳に追加

断熱防水施工用固定具の頭部外縁から躯体へのねじ込み深さに相当する長さにかけて、外周に着色樹脂層を被覆する。 - 特許庁

METHOD FOR PREDICTING FORMATION OF ROLLING FATIGUE CRACK, ROLLING FATIGUE DAMAGE EVALUATION SYSTEM, METHOD FOR DETERMINING FATIGUE LAYER REMOVAL TIMING, AND METHOD FOR DETERMINING REMOVAL DEPTH例文帳に追加

転がり疲労き裂発生予測方法および転がり疲労損傷評価システム、並びに、疲労層削除タイミング決定方法および削除深さ決定方法 - 特許庁

To remedy the junction leakage current of a MOSFET against which the depth reduction of a diffused layer is contrived.例文帳に追加

本発明は、拡散層の深さの低減が図られるＭＯＳＦＥＴにおいて、接合リーク電流を改善できるようにすることを最も主要な特徴とする。 - 特許庁

Thus, each of the through holes 20-22 is formed to have depth reaching the base material layer 11 and to penetrate the prescribed colored layers 12-14.例文帳に追加

これにより、各貫通孔２０〜２２を、基材層１１に達する深さを有するとともに、所定の着色層１２〜１４を貫通するように形成する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating the life time of a semiconductor wafer by measuring the life time at optional depth and evaluating the metal contamination of a device active layer.例文帳に追加

任意の深さのライフタイムを測定でき、デバイス活性層の金属汚染評価を行うことができる半導体ウェーハのライフタイム評価方法を提供する。 - 特許庁

Even if the first and the second electrodes 23a, 23b and the film thickness of a surface protective layer 24 thereon are thin, the depth of the chucking groove 26 can be deepened.例文帳に追加

第一、第二の電極２３ａ、２３ｂや、その表面の保護膜２４の膜厚が薄くても、吸着溝２６の深さを深くすることができる。 - 特許庁

A non-consolidated earth layer GC which either has a banking thickness smaller than the depth of a valley or is hardly consolidated is formed on the top plate 1a.例文帳に追加

前記頂板１ａの上には前記谷間の深さｄよりも盛土厚ｔが小さくあるいは殆ど締め固めない非圧密土層ＧＣを形成する。 - 特許庁

A bentonite improved ground layer 2 is formed on the ground surface or at a voluntary depth by the injection or mixture of bentonite slurry.例文帳に追加

ベントナイトスラリーを注入または混合することによって、ベントナイト改良地盤層２を地表面または任意深さに形成することを特徴とする。 - 特許庁

Boron concentration in the direction of the wafer depth of the wafer surface layer of the boron-doped silicon wafer is equalized by properly adding diborane into hydrogen annealing.例文帳に追加

水素アニール中に適度にジボランを添加することによって、ボロンドープされたシリコンウエハのウエハ表層におけるウエハ深さ方向のボロン濃度の均一化が図れる。 - 特許庁

A length of a current path between the p-type contact layer 14 and the n side electrode 17 is made shorter by its depth in a certain portion of the recess 16.例文帳に追加

ｐ型コンタクト層１４とｎ側電極１７との間の電流径路の長さが、窪み１６のある部分ではその深さ分だけ短くなっている。 - 特許庁

Thus, a damage layer 35 of constant depth is formed at a position deeper than the channel region 33 on the lower side of the gate electrode 29.例文帳に追加

それにより、ゲート電極２９の下側においてチャネル領域３３よりも深い位置に、均一な深さのダメージ層３５を形成することができる。 - 特許庁

In a region where the depth from a surface of a porous silicon layer is 5-100nm, a parameter which expresses porous structure of porosity or the like is equalized.例文帳に追加

多孔質シリコン層の表面からの深さが５〜１００ｎｍの領域において、多孔度等の多孔質構造を表現するパラメータを均一化した。 - 特許庁

Each fine hole 5 passes through the insulating layer 3 and the gate electrode lines 4, and passes to a depth at an intermediate part of the cathode electrode lines 2.例文帳に追加

各微細孔５は、上記絶縁層３とゲート電極ライン４とを貫通し、カソード電極ライン２の中程に至る深さに形成されている。 - 特許庁

Then a polygon layer moving portion 205 successively moves the first-fourth polygon layers in the depth direction of the river part, that is, vertically downward to the polygon layers.例文帳に追加

次に、ポリゴン層移動部２０５は、第１〜第４のポリゴン層を順に河川部の深さ方向、即ち、ポリゴン層に対して垂直に下方へ移動させる。 - 特許庁

A damage layer 32 is formed only in a region ranging from a depth of nearly 73 μm to that of nearly 78 μm inside each of the glass substrates 1, 21 by the hydrogen ion implantation.例文帳に追加

水素イオン注入により、ガラス基板１、２１内の約深さ７３μmから約７８μmまでの間の領域にのみ、ダメージ層３２が形成される。 - 特許庁

The thickness of the washing layer 11 is 50-300 μm and this thickness is desirably larger than the penetrated depth from the surface of the core base body 12.例文帳に追加

塗型層１１の厚さは５０〜３００μｍであり、その厚さは中子基体１２の表面からの浸透深さよりも大きいことが好ましい。 - 特許庁

Surface breaking grooves 31 are formed on the surface of the wafer 30 with their depth D1 being smaller than a thickness T2 of the insulating protection layer 29.例文帳に追加

そして、ウエハ３０の表面には、絶縁保護層２９の厚みＴ２よりも小さい深さ寸法Ｄ１を有する表面側ブレイク溝３１を形成する。 - 特許庁

Then, as the formation depth from the first main surface J of the ion implantation layer 4 for peeling becomes small, a dose rate in ion implantation is set small.例文帳に追加

そして、剥離用イオン注入層４の第一主表面Ｊからの形成深さが小さくなるほど、イオン注入のドーズ量を小さく設定する。 - 特許庁

To sufficiently implant sulfuric ions at a low acceleration voltage in the depth direction of a semiconductor layer of intrinsic amorphous silicon, in a region other than a channel protective film.例文帳に追加

チャネル保護膜下以外の領域における真性アモルファスシリコンからなる半導体層の深さ方向にリンイオンを低加速電圧で十分に注入する。 - 特許庁

The square of the intrinsic carrier concentration of the base layer of the transistor having the composition distribution changes like decreasing linearly to depth.例文帳に追加

この組成分布を有するトランジスタのベース層における真性キャリア濃度は、その２乗が、深さに対して、傾きが負の一次関数的に変化している。 - 特許庁

Round steel pipes 9 reaching the depth deeper than a sand layer 4 are embedded in a soil cement column row wall 1 at predetermined spaces in a wall surface direction.例文帳に追加

ソイルセメント柱列壁１には、砂層４よりも深い深度まで到達する丸型鋼管９が壁面方向に所定の間隔で埋設されている。 - 特許庁

A foundation part 12 of a pier 10 comprises a footing 14 and a foundation 16 which extends from a lower surface of the footing to the depth of a bearing layer 30.例文帳に追加

橋脚１０の基礎部１２は、フーチング１４と、このフーチングの下面から支持層３０の深さまで到達する基礎１６とにより構成される。 - 特許庁

The coating layer 6 has an penetration depth A into the voids 3 of the surface 2 of the injection holder body 1 controlled to 5 to 60 μm, and a film thickness B to 50 μm or less.例文帳に追加

コーティング層６のインジェクションホルダー本体１の表面２の空隙３への侵入深さＡを５〜６０μｍ、膜厚Ｂを５０μｍ以下にする。 - 特許庁

The coating layer 6 has a penetration depth A into the voids 3 of the surface 2 of the sintered article body 1 controlled to 5 to 60 μm, and a film thickness B to 50 μm or less.例文帳に追加

コーティング層６の焼結品本体１の表面２の空隙３への侵入深さＡを、５〜６０μｍ、膜厚Ｂを５０μｍ以下にする。 - 特許庁

To provide an optical information recording medium which can be manufactured at a low cost and with a high yield by making the groove depth of a groove of a spacer layer shallow.例文帳に追加

スペーサ層のグルーブの溝深さを浅くすることにより、低コストでしかも高歩留まりで作製できる光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

The source region and high concentration body region are insulated by a first separation region 23 that is provided to have a depth not reaching the insulating layer.例文帳に追加

これらソース領域及び高濃度ボディ領域は、絶縁層に達しない深さで設けられた第１分離領域２３によって絶縁されている。 - 特許庁

To provide a simple and small sized information recording/reproducing device which is manufactured at a low cost and is capable of stably performing recording/reproducing to each recording layer in the depth direction.例文帳に追加

簡単かつ小型、安価にでき、深さ方向の各記録層に対して安定して記録／再生できる情報記録再生装置を提供する。 - 特許庁