「light shift」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

As the light source bodies 15 relating to light emission shift, the length of the pointer image 20 changes according to the positions at the outer periphery end of the polygonal shape.例文帳に追加

発光に係る光源体１５が遷移するにつれて、多角形状の外周端の位置に応じて指針像２０の長さが変化する。 - 特許庁

The optical shift section 1 has a compensation element which compensates the difference in the converted distance between the ordinary light and the extraordinary light passing through the birefringent element 3.例文帳に追加

光学シフト部１は、複屈折素子３を通過する常光と異常光との換算距離の差を補償する補償素子を有する。 - 特許庁

Based on signals output by the light detectors 8a, 8b and indicating positional shift of light, displacement of the table 2 in the carrying position is detected.例文帳に追加

光検出器８ａ，８ｂが出力する光の位置ずれを表す信号に基づいて、その搬送位置でのテーブル２の変位を検出する。 - 特許庁

A first voltage which produces a predetermined phase shift between the first part and the second part of the light from the first light source is computed.例文帳に追加

第１の光源からの光の第１部分と第２部分との間の所定の位相シフトを生じさせる第１の電圧が計算される。 - 特許庁

To obtain a stable signal by suppressing shift of light intensity distribution in a light receiving part, in an optical pickup compatible with multiwavelength.例文帳に追加

複数波長対応型の光ピックアップにおいて、受光部での光強度分布ずれを抑制して安定した信号が得られるようにする。 - 特許庁

To provide an organic light-emitting device capable of preventing a wavelength shift caused by optical interference, and a manufacturing method for an organic light-emitting device.例文帳に追加

光学干渉による波長シフトを防止することが可能となる有機発光装置及び有機発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An image reading apparatus 50 comprises: a light source 210; and an image sensor 220 configured to transfer charges accumulated in a photoelectric conversion element to a shift register via a shift gate.例文帳に追加

画像読取装置５０は、光源２１０と、光電変換素子に蓄積された電荷をシフトゲートを介してシフトレジスターへ転送するイメージセンサー２２０と、を備える。 - 特許庁

The color image forming apparatus performs light intensity adjustment when there is the abnormality in detection of the color shift detection pattern image (S23: YES) when a color shift amount is set.例文帳に追加

カラー画像形成装置は、色ずれ量を設定する際に、色ずれ検出パターン画像の検出に異常がある場合（Ｓ２３：ＹＥＳ）には、光量調整を行う。 - 特許庁

To reduce leakage light occurring following a shift of a projection lens in a projection video display device including a lens shift mechanism in a projection optical system.例文帳に追加

投写光学系にレンズシフト機構を備えた投写型映像表示装置において、投写レンズのシフトに伴い発生する漏れ光を削減することを目的とする。 - 特許庁

To provide a lens shift mechanism and a projection video display device which limit a shift range of a projection lens to avoid the reduction of the amount of projection light.例文帳に追加

投写レンズのシフト範囲を制限して投写光量の低下を回避するレンズシフト機構及び投写型映像表示装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Phase difference is given by the phase shift element 11 and the high refractive index liquid 12 filled in a phase shift surface, and light is condensed on a recording surface of an optical disk 14 by the objective lens 13.例文帳に追加

位相シフト素子１１と、位相シフト面に満たされた高屈折率液体１２により位相差付与し、対物レンズ１３で光ディスク１４記録面に集光する。 - 特許庁

This halftone phase shift mask consists of a halftone phase shift mask structure having resist deposited on the halftone films of wafer alignment mark parts and the light shielding belt parts existing on the outside of pattern forming regions.例文帳に追加

ウェハ合わせマーク部のハーフトーン膜上とパターン形成領域の外側にある遮光帯部にレジストが被着されたハーフトーン位相シフトマスク構造とする。 - 特許庁

To enhance the operating feeling when a shift lever is turned from the parking position to other operating position and embody a shift lock member in a small and light construction.例文帳に追加

シフトレバーをパーキング位置から他の操作位置へ移動操作する際の操作フィーリングを向上させるとともに、シフトロック部材を小型で軽量化できるようにする。 - 特許庁

To readily correct a positional shift in printing in a main scanning direction in terms of an image forming apparatus using a plurality of exposing light sources, an image processor and a method for correcting the positional shift in printing.例文帳に追加

複数の露光用光源を用いた画像形成装置、画像処理装置、プリント位置ずれ補正方法に関し、主走査方向のプリント位置ずれを簡単に補正する。 - 特許庁

Both substrates 2 and 3 are provided with the light-shielding films 6 and 13, so that even if the substrates 2 and 3 have a combination shift, light leakage can be prevented to eliminate decrease in the contrast of display, even if the substrate combination shift occurs.例文帳に追加

両方の基板２，３に遮光膜６，１３を設けたので、基板２，３に組ずれが発生しても光り抜けを防止でき、それ故、基板の組ずれが発生しても表示のコントラストが低下することがなくなる。 - 特許庁

To provide a halftone type phase shift mask blank or the like which is a halftone phase shift mask blank of a multilayered type and is reduced in transmittance to inspection light by making the reflectivity of multilayered films to the inspection light higher.例文帳に追加

多層型のハーフトーン位相シフトマスクにおいて多層膜の検査光に対する反射率を高くすることによって、検査光に対する透過率を低減したハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。 - 特許庁

A portion of the phase shift mask above the contact holes is covered with one of patterns, a portion of the phase shift mask above respective transistors and the anti-electrostatic-discharge protecting circuit in the active area has a low light transmissivity pattern, and other parts of the phase shift mask have a high light transmissivity pattern.例文帳に追加

そのうち、コンタクトホール上方の一部の位相シフトマスクはいずれのパターンにも被覆されず、アクティブ領域内の各トランジスタ上方と抗静電放電保護回路上方の一部の位相シフトマスクは低透光率パターンを具え、位相シフトマスクのその他の部分は高透光率パターンを具えている。 - 特許庁

At this time, the photographed image becomes an image in which a shift area SA corresponding to light from the object which passes through the part where the optical power is uneven shifts by shift amount L to a non-shift area GS corresponding to light from an object which passes through a part where the optical power is even.例文帳に追加

このとき、撮影画像は、光学パワーが均一な部分を透過した被写体からの光に対応する非シフト領域ＧＳに対して、光学パワーが不均一な部分を透過した被写体からの光に対応するシフト領域ＳＡが、シフト量Ｌだけシフトした画像となる。 - 特許庁

An imaging unit 2 receives reflected light at four phases of 0, π/2, π, and 3π/2, in a period of the shift of the stripe pattern light, and obtains light-receiving signals F1, F2, F3, F4.例文帳に追加

撮像部２が縞パターン光の移動の周期における０、π／２、π、３π／２の４つの位相において反射光を受光して受光信号Ｆ１，Ｆ２，Ｆ３，Ｆ４を得る。 - 特許庁

To provide a surface light source device suppressing generation of brightness unevenness and glaring and moreover suppressing a color shift even if a light guide body is made thinner, and provide a light guide body used for the above.例文帳に追加

導光体が薄型化しても、輝度むら及びギラツキの発生が抑制され且つカラーシフトの発生が抑制された面光源装置及びそれに用いる導光体を提供する。 - 特許庁

A reflection wall 36 inclined downward is formed at the side wall 26 of the light box 24 and the light other than the light for irradiating the mark member 14 is reflected toward the side of the shift lever 12.例文帳に追加

ライトボックス２４の側壁２６に下方へ向けて傾斜した反射壁３６を形成し、マーク部材１４を照射する光以外の光をシフトレバー１２側へ向けて反射する。 - 特許庁

A part of the measurement light L is branched, given a frequency shift by a frequency shifter 34, synthesized with the measurement light transmitted through the subject 22, and those beat components are detected by a light detector 13.例文帳に追加

計測光Ｌを一部分岐させて周波数シフター34により周波数シフトを与え、被検体22を透過した計測光Ｌと合成し、それらのビート成分を光検出器13で検出する。 - 特許庁

The digital holography device is equipped with a phase shift array element 2 which converts incident light into a reference light group consisting of a plurality of reference light beams having mutually different phase values and outputs it.例文帳に追加

デジタルホログラフィ装置は、入射した光を互いに位相値の異なる複数の参照光からなる参照光群に変換して出射する位相シフトアレイ素子２を備えている。 - 特許庁

When the light is transmitted to the first MMI light distributor 110 from the second MMI light distributor 120, the non-reciprocal phase shift is λ/4, overall phase value becomes to have a phase value of about λ/2, to disappear.例文帳に追加

光が第２MMI光分配器(120)から第１MMI光分配器(110)に伝わる場合は、非相反的位相変位がλ／4になり、総位相値はλ／2ほどの位相値を有するようになり消滅する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a photomask blank, for improving the light fastness of a phase shift film or light-shielding film for an exposure light having a wavelength of 200 nm or less, and for improving the lifetime of the photomask.例文帳に追加

波長２００ｎｍ以下の露光光に対する位相シフト膜や遮光膜の耐光性を向上させ、フォトマスクの寿命を改善できるフォトマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To satisfy both patterning accuracy and light shielding performance in using a hard mask and a light shielding band light shielding film in common relating to a method of manufacturing a halftone phase shift mask and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ハーフトーン位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法に関し、ハードマスクと遮光帯遮光膜を兼用する場合に、パターニング精度と遮光性を両立する。 - 特許庁

To obtain a solid state image sensor comprising a pixel shift CCD sensor in which light receiving elements are arranged periodically while enlarging the opening in a light shield film on the light receiving element as compared with a conventional one.例文帳に追加

画素ズラシＣＣＤセンサーを備えた固体撮像装置に関し、受光素子を周期的に配置し、しかも受光素子の上の遮光膜の開口を従来より広げること。 - 特許庁

To provide a light source unit which fixes a light source so as not to shift from an original position or be distorted, a light emitting device with an improved structure so as not to leak light, and a display device provided with the same.例文帳に追加

光源を固定して元の位置からずれない、または、歪まないように固定できる光源ユニット、及び光が漏れないように構造を改善した発光装置、及びそれを備えた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a blank suitable for the manufacture of a halftone type phase shift mask having a halftone type phase shift film which has a refractive index and an extinction coefficient for exposure light satisfying the requirements as a phase shift mask, which has controlled reflectance for the exposure light and controlled transmittance at the inspection wavelength and which is accurately patterned, and to provide a halftone type phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクとして露光光での屈折率及び消衰係数が満たされ、露光光での反射率や検査波長での透過率が制御され、正確なパターニングがされたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクの製造に好適なハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス、及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a phase shift mask blank having a light semi-transmission film or a light semi-transmission area with a specified phase angle and transmittance and excellent film characteristics such as good chemical resistance, good light resistance and reduced inner stress, and to provide a method for manufacturing a phase shift mask.例文帳に追加

所定の位相角及び透過率を有し、耐薬品性、耐光性、及び内部応力などの膜特性に優れた光半透過膜又は光半透過部を有する位相シフトマスクブランクの製造方法又は位相シフトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for using electronic paper as a light control medium to modify, dim or color-shift the light used for lighting a space.例文帳に追加

電子ペーパを光制御媒体として用いて、空間を照らすことに使用される光を修正、調光、又は色シフトするシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

To enable display of a shift remaining period to a further deep power saving mode using a light emitting element which is not used during a power saving mode among existing light emitting elements.例文帳に追加

既存の発光素子のうち省電力モード時に使用しない発光素子を用い、更に深い省電力モードへの移行残期間の表示を可能にする。 - 特許庁

Since a pellicle beam splitter 6 is arranged between two discs 2, 3 as a means to branch light, an optical axis shift is not generated when the illumination light passes.例文帳に追加

光を分岐する手段としてペリクルビームスプリッタ６を２枚のディスク２，３の間に配置したため、照明光が通過する際に光軸シフトが生じない。 - 特許庁

Then, the shift of the light emission start time in a continuous line is the time T, which is 1/3 of the time 3T being the light emission period of each line.例文帳に追加

そして、連続するラインの発光開始時刻のずれは、それぞれのラインの発光期間である時間３Ｔの１／３である時間Ｔである。 - 特許庁

The liquid crystal element is operative to shift polarization of light incident on at least one light sensitive element, based on an orientation of a plurality of molecules.例文帳に追加

前記液晶素子は、前記複数の分子の方向に基づいて前記少なくとも１つの受光素子への入射光の偏光をシフトさせるように機能する。 - 特許庁

To protect the characteristic shift of a TFT electrode (1) by light and to form the base for a reflection electrode (3) with high efficiency by forming a light-shielding film (2).例文帳に追加

遮光膜（２）により光によるＴＦＴ電極（１）の特性シフトを保護し、また効率の良い反射電極（３）のためのベースを形成する。 - 特許庁

To provide light source equipment and imaging device text equipment having the same capable of testing phase shift characteristics with respect to the incident light of each pixel of a CCD.例文帳に追加

ＣＣＤの各画素の入射光に対する位相シフト特性検査を可能にする光源装置とこれを有する撮像素子検査装置を提供すること。 - 特許庁

The light further becomes horizontally polarized light P3 by being added with a phase shift of λ/4 when the liquid crystal molecules of the liquid crystal element 12 are oriented in 45° direction.例文帳に追加

液晶素子１２の液晶分子が４５°方位を向いているとき、さらにλ／４の位相差が加わり水平方向の偏光Ｐ３となる。 - 特許庁

The phase shift elements 1A and 1B having lens effect are installed to improve light convergence efficiency, and the light transmission quantity of a liquid crystal display panel is increased.例文帳に追加

レンズ効果を有する位相シフト素子１Ａ、１Ｂの設置により、集光効率を向上し、液晶表示パネルの光透過量を増大させる。 - 特許庁

To provide an image microscope superior in operation performance by correcting focus shift in observation using invisible light such as infrared light.例文帳に追加

赤外光のような不可視光を用いた観察時にも焦点のずれを補正することができ、しかも、操作性能の良好な画像顕微鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone-phase shift mask which meets the requirement for a shorter wavelength of exposure light or requirement for a higher transmittance of a mask for exposure light, and which has high process accuracy.例文帳に追加

露光波長の短波長化や露光光の透過率の高透過率化に対応し、高い加工精度を有するハーフトーン型位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

Consequently, a light emission control thyristor Ci (i is an integer of 1 or more) cannot shift into the on state, and lighting of the corresponding light emitting thyristor Li is prevented.例文帳に追加

これにより、発光制御サイリスタＣi（iは１以上の整数）はオン状態に移行できず、対応する発光サイリスタＬiの点灯が阻止される。 - 特許庁

To prevent drop of light emission current due to the shift of the Vth characteristics of a writing transistor to a depletion side caused by a negative bias voltage during a light emission period.例文帳に追加

発光期間での負バイアスによる書込みトランジスタのＶｔｈ特性のデプレッションへのシフトに起因する発光電流の低下を抑制する。 - 特許庁

The interference pulse light S6a is subjected to phase shift by a nonlinear semiconductor waveguide 7 by this interference pulse light S6a and is then sent to the delay interference device 9.例文帳に追加

その干渉パルス光Ｓ_6aにより非線形半導体導波路７で干渉パルス光Ｓ_6bを位相シフトさせてから、遅延干渉器９に送る。 - 特許庁

The halftone phase shift film 1 has 4 to 20% for the light transmissivity and the film 2 has 0 to 100% for the light transmissivity.例文帳に追加

上記ハーフトーン位相シフト膜１は、光透過率が４〜２０％であり、上記膜２は、光透過率が０〜１００％の膜であることを特徴とする。 - 特許庁