「m-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a merchandise sale data processor capable of easily recognizing a discount amount divided proportionally into returned merchandise when the merchandise being a component of an M&M discount combination pattern is returned.例文帳に追加

Ｍ＆Ｍ値引きの組合せパターンの構成要素である商品が返品される際に、容易にその返品商品に按分される値引き額を知ることができる商品販売データ処理装置を提供すること。 - 特許庁

The control device controls the revolving angle and turning-on/off of the spot lamp 3 based on the positional information of the pedestrian M, and changes an emission pattern of the spot light S in accordance with the characteristic information of the pedestrian M.例文帳に追加

制御装置は、歩行者Ｍの位置情報に基づいてスポットランプ３の旋回角度と点消灯を制御するとともに、歩行者Ｍの特性情報に応じてスポット光Ｓの照射パターンを変化させる。 - 特許庁

Therefore, the lost foam pattern M is embedded in the molding sand S while holding the shape at the producing time without causing any deformation and damage.例文帳に追加

従って、消失模型Ｍが変形したり損傷を受けたりすることがなく、製作時の形状を保って鋳砂Ｓ中に埋設される。 - 特許庁

Flip-flops FF(1,1)-FF(m,n) shift a test pattern SIN at a timing given by branch clocks CLK1-CLKm at the scan diagnosis mode time.例文帳に追加

フリップフロップＦＦ（１，１）〜ＦＦ（ｍ，ｎ）は、スキャン診断モード時に、テストパターンＳＩＮを分岐クロックＣＬＫ１〜ＣＬＫｍが与えるタイミングでシフトさせる。 - 特許庁

In this filter circuit substrate, a pattern 30 for controlling coupling which can be regulated by changing the amount of the electromagnetic couplings between the resonators in a pattern shape, such as change of a pattern width M, etc., is disposed on the front surface of the dielectric substrate between the resonator and the resonator.例文帳に追加

このフィルタ回路基板においては、共振器と共振器との間の誘電体基板の表面に、共振器間の電磁結合量をパターン形状、例えば、パターン幅Ｍなどの変更により調節できる結合制御用パターン３０を配置する。 - 特許庁

The circuit upper face pattern layer 2a or the circuit lower face pattern layer 4 and the intermediate pattern layer 3 are connected by a conductor film 2b with thermal conductivity of 50 W/(m K) or above, which is continuously formed on an inner wall face of the first back facing hole 9.例文帳に追加

回路上面パターン層２ａ又は回路下面パターン層４のいずれか１つと中間パターン層３が、第１のザグリ穴９の内壁面に連続して形成された熱伝導率５０Ｗ/(ｍ・Ｋ)以上の熱伝導体膜２ｂで接続されている。 - 特許庁

In the exposure mask M to be used for an exposure apparatus S, a plurality of pattern blocks comprising a pair of a light blocking pattern to block light emitting from the exposure apparatus S and a transmissive pattern to transmit the light are continuously arranged in such a manner that the pitch of the continuous pattern blocks is constant while a ratio of the light blocking pattern to the transmissive pattern is gradually varied.例文帳に追加

本発明は、露光装置Ｓで用いられ露光用のマスクＭにおいて、露光装置Ｓから出射される光を遮断する遮光パターンと、この光を透過する透過パターンとの対から構成されるパターンブロックが複数連続して配置されているとともに、その連続するパターンブロックのピッチが一定で、しかも遮光パターンと透過パターンとの比率が徐々に変化するよう設けられている。 - 特許庁

If they fall within the constant velocity section, the trapezoidal speed pattern is divided into 8-m/s sections (S7), and minimum speed of each axis is transferred to a servo system.例文帳に追加

等速区間に収まる場合は、台形速度パターンを８ｍ／ｓ毎の区間に分割してから（Ｓ７）、各軸の下限速度をサーボシステムに転送する。 - 特許庁

A positioning mark (m) is formed with a reinforcing pattern 12 for a part pad 11 provided near the corner part of a part outline 14.例文帳に追加

部品外形ライン１４の角部近傍位置に配置された部品パッド１１の補強パターン１２により位置決めマーク（ｍ）を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

In addition, there is no need to prepare a conveyance route for the mask M outside the pattern drawing apparatus 1, thereby the work space for the total process flow can be decreased.例文帳に追加

また、パターン描画装置１の外部にマスクＭの搬送経路を確保する必要がないため、工程全体の作業スペースを低減させることができる。 - 特許庁

An imaging apparatus 3 picks up a state that the object M is conveyed in the X axis direction and passes through the slit pattern image from an angle different from that of the projector 2.例文帳に追加

撮像装置３は、物体ＭがＸ軸方向に搬送されスリットパターン像を通過する様子を、プロジェクタ２とは異なる角度から撮像する。 - 特許庁

Then, the frequency of replacing or washing the mask M is decreased, consequently, the production capacity of the pattern drawing device is improved.例文帳に追加

従って、マスクＭの交換や洗浄の頻度を低減させることができ、その結果、パターン描画装置の生産能力を向上させることができる。 - 特許庁

All the pattern portions 2 cover respective sizes which are Lmin_x, an N multiple of Lmin_x and Lmax_x, and Lmin_y, an M multiple of Lmin_y and Lmax_y.例文帳に追加

全てのパターン部２により、Ｌｍｉｎ＿ｘ、Ｌｍｉｎ＿ｘのＮ倍、Ｌｍａｘ＿ｘ、Ｌｍｉｎ＿ｙ、Ｌｍｉｎ＿ｙのＭ倍、Ｌｍａｘ＿ｙの各寸法が網羅されている。 - 特許庁

A sensitivity ratio calculation section 86 calculates a sensitivity ratio of each of signals of C and M having sensitivity to cyan for each density value of the test pattern of cyan.例文帳に追加

感度比率算出部８６によって、シアンのテストパターンの濃度値毎に、シアンに感度を有するＣ、Ｍの各信号の感度比率を算出する。 - 特許庁

A pattern forming region PA of the photomask M is obtained by repeatedly disposing, in a Y direction, a beltlike one-unit region U1 which extends along an X direction.例文帳に追加

このフォトマスクＭのパターン形成用領域ＰＡは、Ｘ方向に沿って延びる帯状の１ユニット領域Ｕ１をＹ方向に繰り返し配置してなる。 - 特許庁

The metabollized layer M and the plated layer P on the surface of the ceramic base are patterned with an element mounting pattern of a specified shape by a photolithography method.例文帳に追加

このセラミックベース表面のメタライズ層Ｍ及びメッキ層Ｐをフォトリソグラフィ工法によってパターニングして所定形状の素子実装パターンを形成する。 - 特許庁

A unit pattern T (m, n) is two-dimensionally arranged in such a manner that a specified embroidery region may be enclosed by a contour line 41 (only one part is shown in the sketch).例文帳に追加

外形線４１によって規定される刺繍領域を包含するように、単位パターンＴ（ｍ，ｎ）を２次元的に配置する（図では一部のみ表示）。 - 特許庁

Material indication for distinguishing plastic material by the use of letters, figures and marks is indicated on the whole of a rear surface 2B of a pressure-sensitive adhesive layer 2 with a repeating pattern M.例文帳に追加

文字，図形，記号をもってプラスチック材質を識別するための材質表示を繰返し模様Ｍにて、粘着層２の裏面２Ｂの全体に表示する。 - 特許庁

A controller 10 and plural units M, S are placed in a radio transmission area 1 and they can communicate with each other by using a global transmission pattern.例文帳に追加

ワイヤレス伝送エリア１内には、コントローラ１０と複数のユニットＭ，Ｓが配置され、互いにグローバル伝送パターンを用いて無線通信可能となっている。 - 特許庁

Zirconium hydroxide having an X-ray diffraction pattern exhibiting amorphous characteristics and a BET specific surface area of 250 m^2/g or more is prepared.例文帳に追加

水酸化ジルコニウムを、Ｘ線回折パターンが非晶質の特徴を示し、かつ２５０ｍ^２／ｇ以上のＢＥＴ表面積を有するものとする。 - 特許庁

The surface of the resist pattern R formed on the surface of a semiconductor wafer W through an exposure process and a developing process is coated with water molecules m.例文帳に追加

露光処理され現像処理された半導体ウエハＷの表面に形成されたレジストパターンＲの表面に水分子ｍを付着させる。 - 特許庁

The light shielding body pattern 2 of a photomask M is formed by incorporating a particulate material such as carbon into an organic film such as a photoresist film.例文帳に追加

フォトマスクＭの遮光体パターン２を、例えばフォトレジスト膜等のような有機膜にカーボン等のような微粒子状物質を含有させて構成した。 - 特許庁

If it matches any one sample pattern, Ndpi one pixel 1 bit binary gray scale of the interested pixel is converted into gray scale of Ndpi one pixel M gray scale corresponding to the matched sample pattern.例文帳に追加

そして、いずれかのサンプルパターンと一致する場合、Ｎｄｐｉ一画素１ビット２値の注目画素の階調を、Ｎｄｐｉ一画素Ｍ値の階調に変換する際に、その一致したサンプルパターンに応じた階調に変換する。 - 特許庁

Accordingly, even if a certain pattern group is stained or gets defective, drawing processing is performed by using another pattern group having the same shape without replacing or washing the mask M itself.例文帳に追加

このため、あるパターン群に汚れまたは欠陥が発生した場合にも、マスクＭ自体を交換または洗浄することなく、同一の形状を有する他のパターン群を使用して描画処理を行うことができる。 - 特許庁

A mCn unit code patterns in which dots are arranged at n places selected from m places are divided into an information pattern indicating information and a plurality of sets of synchronization patterns for fetching information from the information pattern.例文帳に追加

ｍ箇所から選択したｎ箇所にドットを配置したｍＣｎ個の単位符号パターンを、情報を表すための情報パターンと、情報パターンから情報を取り出すための複数組の同期パターンとに分けておく。 - 特許庁

In the automatic thread tension control of the sewing machine of this invention, on the basis of a needle thread tension value preset for each pattern to be sewn, the needle thread tension default value M of a selected pattern is set (S21).例文帳に追加

本発明のミシンの自動糸調子制御では、縫製対象となる模様ごとに予め設定された上糸張力値に基づいて、選択された模様の上糸張力デフォルト値Ｍを設定する（Ｓ２１）。 - 特許庁

A transformation part 24 for time delay coordinate system transforms data comprising the pixel values of respective pixels which constitute the image of an inspection target having a cycle pattern formed thereto to the data of a time delay coordinate system of a dimension (m) (m is an integer of 2 or above).例文帳に追加

時間遅れ座標系変換部２４は、周期パターンが形成された検査対象物の画像を構成する各画素の画素値からなるデータを次元ｍ（ｍは２以上の整数）の時間遅れ座標系のデータに変換する。 - 特許庁

A conductor pattern 20 has a length corresponding to {(Co/f)/(εr)^1/2}/4 regarding the frequency f (Hz) of the transmission signal, the wavelength λ0 (m) in a vacuum, light velocity Co (m/s) and the dielectric constant εr of a dielectric substrate 15.例文帳に追加

伝送信号の周波数ｆ（Ｈｚ）、真空中での波長λ０（ｍ）、光速Ｃｏ（ｍ／ｓ）、誘電体基板１５の比誘電率εｒに関して、｛（Ｃｏ／ｆ）／（εｒ）^1/2｝／４に対応する長さを持つ導体パターン２０を含む。 - 特許庁

When an analog input signal Vin has a feature of EYE pattern, a reference voltage generating circuit 21 outputs (m) ((m) is an integer of ≥2) reference voltages having different voltage values respectively corresponding to the bit accuracy of a digital code Dout'.例文帳に追加

アナログ入力信号ＶinがＥＹＥパターンの特徴を有する場合、基準電圧発生回路２１は、各々異なる電圧値を有し、デジタルコードＤout’のビット精度に応じたｍ（ｍは２以上の整数）個の基準電圧を出力する。 - 特許庁

The distance between the positions (m, n) and (m+i, n+j) is determined so that the first and second droplets join mutually after spreading in the pattern formation area.例文帳に追加

そして、前記第１液滴と前記第２液滴とが、前記パターン形成領域上で広がった後で互いに合流するように、前記（ｍ、ｎ）の着弾可能位置と前記（ｍ＋ｉ、ｎ＋ｊ）の着弾可能位置との間の距離が決められている。 - 特許庁

As for the frequency f (Hz), the wave length λ0 (m) in vacuum and the light velocity Co (m/s) of a transmission signal and the dielectric constant εr of a dielectric substrate 15, a conductor pattern 20 having a length corresponding to {(Co/f)/(εr)1/2}/4 is included.例文帳に追加

伝送信号の周波数ｆ（Ｈｚ）、真空中での波長λ０（ｍ）、光速Ｃｏ（ｍ／ｓ）、誘電体基板１５の比誘電率εｒに関して、｛（Ｃｏ／ｆ）／（εｒ）^1/2｝／４に対応する長さを持つ導体パターン２０を含む。 - 特許庁

A padding part 102 combines the bit string representing n and a prescribed bit pattern to generate a bit string P, and adds the bit string P to a prescribed position of a message M input by an input part 101 to generate the message M'.例文帳に追加

パディング部１０２は、ｎを表すビット列と所定のビットパターンとを組み合わせてビット列Ｐを生成し、ビット列Ｐを、入力部１０１により入力されたメッセージＭの所定の位置に付加してメッセージＭ´を生成する。 - 特許庁

In the photodiode group 5 for origin position detection, a photodiode 5z for phase z and a photodiode 5z' for phase z' are arrayed according to an M-series array pattern, and in the reflecting grating group 8 for origin position detection, a reflecting grating 81 and a non-reflecting grating 82 are arrayed following the same M-series array pattern.例文帳に追加

原点位置検出用のホトダイオード群５はＭ系列の配列パターンに従ってＺ相用ホトダイオード５ＺおよびＺ’相用ホトダイオード５Ｚ’が配列され、原点位置検出用の反射格子群８は、同じくＭ系列の配列パターン従って反射格子８１および非反射格子８２が配列されている。 - 特許庁

The film thickness measuring method forms a laminated film L0 by integrating an adhesion layer L1 comprising film thickness T1 on a substrate S including a mask pattern M by forming the mask pattern M on the substrate S, a measuring object layer Lm, and a protection layer L2 comprising film thickness T2 by having higher mechanical strength than the measuring object layer Lm in order.例文帳に追加

基板Ｓの上にマスクパターンＭを形成し、マスクパターンＭを含む基板Ｓの上に膜厚Ｔ１からなる密着層Ｌ１と、測定対象層Ｌｍと、測定対象層Ｌｍよりも高い機械的強度を有して膜厚Ｔ２からなる保護層Ｌ２とを順に積層して積層膜Ｌ０を形成した。 - 特許庁

An information processor acquires a sample of a feature vector of a pattern belonging to a class in every class recognized by the pattern recognizer, displays an input screen for receiving an input of a real number value as a value m for defining in class dispersion, on a display, and acquires the value m from an interface (S130).例文帳に追加

情報処理装置は、パターン認識装置にて認識するクラス毎に、当該クラスに属するパターンの特徴ベクトルのサンプルを取得すると共に、クラス内分散を定義付ける値ｍとして、実数値の入力を受け付けるための入力画面を表示装置に表示し、ユーザインタフェースから、値ｍを取得する（Ｓ１３０）。 - 特許庁

A process of production of low-grade olefin, comprising methanol in gaseous phase and the constituents expressible as aM2O・bM'O・Al2O3・cSiO2・nH2O (where M = alkali metal and/or hydrogen atom, M' = alkali earth metal, a = 0-1.5, b = 0.2-40, except a+b >1, c = 12-3,000 and n = 0-40) heated to 500-600oC in contact with alkali earth metal including crystal alminocilicate zeolite catalyst having X-ray defecation pattern indicated as xxx. 例文帳に追加

メタノールを気相で、aM2O・bM′O・Al2 O3・cSiO2・nH2O（式中Mはアルカリ金属及び／又は水素原子、M′はアルカリ土類金属、aは０～1.5、bは0.2～40、ただしa＋b＞１、cは12～3,000及びnは０～40である）で表される組成を有し、かつ×××で示されるX線回折パターンを有するアルカリ土類金属含有結晶アルミノシリケートゼオライト触媒と、500～600℃の温度で、接触させることからなる低級オレフィンの製造方法。 - 特許庁

Assuming the number of nozzle group is 'N' and the number of scanning times of a recording head to the same scanning region on a recording sheet is 'M', a mask pattern is set with a pixel region on the recording sheet consisting of 'M' pixels in the main scanning direction of an ink jet head 1 and 'M×N' pixels in the subscanning direction as a control unit for imaging.例文帳に追加

ノズル群の数を「Ｎ」とし、記録用紙上の同一走査領域に対する記録ヘッドの走査回数を「Ｍ」としたとき、インクジェットヘッド１の主走査方向に「Ｍ」個の画素、副走査方向に「Ｍ×Ｎ」個の画素で成る記録用紙上の画素領域を、画像形成のための制御単位としてマスクパターンを設定する。 - 特許庁

The mask M is used to form a thin film having a first pattern on a substrate and comprises: a substrate S made from a nonmagnetic material having an opening 22 corresponding to the first pattern; and a film 28 made from a magnetic material, which has a second pattern and is arranged on the substrate S.例文帳に追加

被成膜基板に対して第一パターンを有する薄膜を形成するためのマスクＭであって、第一パターンに対応する開口部２２を有する非磁性体基板Ｓと、非磁性体基板Ｓ上に第二パターンを有して配置された磁性体膜２８と、を備える。 - 特許庁

Next, the calculated error rate is compared with a predetermined reference error rate threshold, and when the calculated error rate becomes lower than the reference error rate threshold, it is determined that pattern synchronization is obtained between the compared reference pattern and measured signal, and the bit number N of the reference pattern synchronized in pattern with the measured signal is multiplied by integer to obtain a frequency division ratio M.例文帳に追加

次に、算出したエラーレートと予め設定された基準エラーレート閾値とを比較し、算出したエラーレートが基準エラーレート閾値を下回った場合に、比較した基準パターンと被測定信号とがパターン同期したと判別し、被測定信号とパターン同期した基準パターンのビット数Ｎを整数倍して分周比Ｍを取得する。 - 特許庁

Since a display pattern, a sound effect pattern and a light emission pattern as a series of variation patterns of the variable display is designated at a time by a variation pattern designating command, it is not necessary to transmit control commands to respective control boards S, D, M, and L from the main control board C at each point where the state of the variable display changes.例文帳に追加

変動パターン指定コマンドによって変動表示の一連の変動パターンとしての表示パターンと効果音パターンと発光パターンとを一度に指定することができるので、変動表示の状態が変化する各ポイント毎に、主制御基板Ｃから各制御基板Ｓ，Ｄ，Ｍ，Ｌへそれぞれ制御用コマンドを送信する必要がない。 - 特許庁

A management server 500 or the electronic shelf labels 100-1 to 100-M performs a predetermined processing when the patterns of the detection signals output from the touch panels of the electronic shelf labels 100-1 to 100-M coincide with a predetermined input pattern.例文帳に追加

管理サーバ装置５００または電子棚札１００−１〜１００−Ｍは、電子棚札１００−１〜１００−Ｍのタッチパネルが出力する検出信号のパターンが所定の入力パターンに合致する場合に所定の処理を実行する。 - 特許庁

An aligner E synchronously moves a mask M and a substrate P from an accelerating section H 1 to a decelerating section H 4 through a setting section H 2 and a normal section H 3, and during the movement, transfers the image of a pattern formed on the mask M to the substrate P.例文帳に追加

露光装置Ｅは、マスクＭ及び基板Ｐを、加速区間Ｈ１、整定区間Ｈ２、定常区間Ｈ３、減速区間Ｈ４の順に同期移動させ、この移動中にマスクＭに形成されたパターンの像を基板Ｐ上に転写する。 - 特許庁

The method for manufacturing a mold includes steps of: forming a seed layer on an original where a pattern is formed, under the conditions of film formation that an internal stress σ satisfies -3.0 N/m^2<σ<3.0 N/m^2; and electroforming by using the seed layer as an electrode.例文帳に追加

パターンが形成された原版上に内部応力σが−３．０Ｎ／ｍ^２＜σ＜３．０Ｎ／ｍ^２となる成膜条件でシード層を形成する工程と，該シード層を電極として電鋳を行う工程と，を有する金型製造方法とする。 - 特許庁

By applying the washing treatment of a wafer W on which the pattern is formed while using a two-fluid nozzle 7 for forming mist M by mixing a pressed gas and a washing liquid, particles can be removed without damaging the pattern.例文帳に追加

加圧された気体と洗浄液とを混合してミストＭを形成する２流体ノズル７を用いて、パターン形成された基板Ｗの洗浄処理を施すことで、パターンに損傷を与えることなくパーティクルを除去することができる。 - 特許庁

In the stereoscopic display device, n pieces of parallax images are spatially divided and compounded and displayed in one screen of a two-dimensional display part 2 in a predetermined display pattern, and also the display pattern is periodically switched to m kinds of different patterns and displayed.例文帳に追加

ｎ個の視差画像を空間的に分割して所定の表示パターンで２次元表示部２の１画面内に合成して表示すると共に、表示パターンをｍ種類の異なるパターンに周期的に切り換えて表示する。 - 特許庁