「m-pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

As regards each transmission pattern wherein the number of terminals does not exceed the minimum integer number n_m, the wireless access point calculates an expected value t_n of the number of times of success in reception or interception and a distribution rate d_n of each terminal on the basis of the link loss rates L_i and the maximum number M of times of transmission in unicast communication (steps S6 to S10).例文帳に追加

無線アクセスポイントは、最小の整数ｎ_mを超えない送信パターン各々について、リンクロス率Ｌ_iとユニキャスト通信の最大送信回数Ｍとに基づいて、端末各々の受信又は傍受の成功回数の期待値ｔ_nと配信率ｄ_nとを算出する（ステップＳ６〜Ｓ１０）。 - 特許庁

The shading layer 12 is arranged at a position overlapped on at least a channel region of the semiconductor layer on a lower layer side of the semiconductor layer composing the thin film transistor, connected over all pixels P(1, 1) to P(M, N) and has an electrically connected pattern.例文帳に追加

遮光層１２は薄膜トランジスタを構成する半導体層の下層側で半導体層の少なくともチャネル領域に重なる位置に配置され、遮光層１２が全ての画素Ｐ（１，１）〜Ｐ（Ｍ，Ｎ）にわたって連結され電気的に接続されたパターンを有していることを特徴とする。 - 特許庁

A first mark M1 and a second mark M2 are formed on the surface of a wafer W, as a mark M measured by scatterometry, so that they are a line and space pattern in which they are repeated on the surface of the wafer W in the direction orthogonal to each other at a different pitch.例文帳に追加

スキャッタロメトリによって計測されるマークＭとして、第１マークＭ１と第２マークＭ２とのそれぞれを、ウエハＷの面において互いに直交する方向であって互いに異なったピッチで繰り返されたライン・アンド・スペース・パターンになるように、ウエハＷの面に形成する。 - 特許庁

A connection layer 20 comprising adhesive materials or the like, a deposit layer 31, and an under coat layer 32 are successively stacked on a base sheet 10 wherein a release sheet 11, an adhesive layer 12, and a body base material 13 are successively stacked to form a metal layer m in a desired pattern to obtain a sticker.例文帳に追加

離けいシート１１、粘着層１２、及び本体基材１３を順に積層した基本シート１０の上に、粘着剤等による接続層２０、蒸着層３１、及びアンダーコート層３２を順に積層した金属層ｍを所望のパターンで形成しステッカー。 - 特許庁

A release sheet, an adhesive layer, and a barrier layer are stacked, and a connection layer 20 comprising adhesives or the like, a deposit layer 31, and an under coat layer 32 are successively stacked on the barrier layer to form a metal layer m in a desired pattern, and an application layer is stacked on the metal layer through an adhesive layer to obtain a transfer sheet.例文帳に追加

離けいシート、粘着層、及びバリア層を積層し、その上に、粘着剤等による接続層２０、蒸着層３１、及びアンダーコート層３２を順に積層した金属層ｍを所望のパターンで形成し、その上に粘着層７０を介してアプリケーションシートを積層して転写シート。 - 特許庁

In the method for measuring the resistance of the coating film, which is covered with a cover material, by a fall-of-potential method, an interruptor turned ON/OFF by an M system code pattern is installed on a current-carrying cable and the obtained potential difference is subjected to cross-correlation processing.例文帳に追加

上記課題は、被覆材に被覆された塗膜抵抗を電位降下法で測定する方法において、通電ケーブルにＭ系列符号パターンによりオン／オフするインタラプタを設置し、得られた電位差を相互相関処理することを特徴とする塗膜抵抗の測定方法によって解決される。 - 特許庁

This target M of the non-contact extensometer is formed by a pattern different in optical property from the surface of the test pieces, which has an elliptical edge shape taking the extension direction (longitudinal direction) of the test piece S as a minor axis and the direction (cross direction) orthogonal to the extension direction as a major axis.例文帳に追加

試験片Ｓの伸び方向（長手方向）を短軸とし、上記伸び方向と直交する方向（幅方向）を長軸とした楕円状の縁部形状を有して試験片の表面とは光学的性質を異ならせたパターンからなる非接触伸び計ターゲットＭとする。 - 特許庁

This moisture-permeable waterproof camouflage fabric is printed by a camouflage pattern showing ≥5% reflectance of fabric surface and ≤60% multistage reflectance in an infrared wavelength range from 1,000 nm to 1,400 nm and is subjected to moisture permeable waterproof processing having ≥2 kg/cm2 waterproof pressure and ≥5,000 g/m2.24 hours moisture permeability.例文帳に追加

１０００ｎｍから１４００ｎｍの赤外線波長領域において、布帛表面反射率が５％以上、６０％以下の多段階反射率を示す迷彩模様を捺染し、２kg/cm^2以上の耐水圧と５０００g/m^2・24hrs以上の透湿性を有する透湿防水加工を施す。 - 特許庁

This frame synchronizing system for performing frame processing of a received data string counts the number (X) of times when a synchronous pattern is not detected at a position at which a frame is assumed within a prescribed period of time T in each prescribed period of time T, and changes the number (M) of stages of front protection.例文帳に追加

受信データ列のフレーム処理を行うためのフレーム同期方式であって、所定期間Ｔおきに、その所定期間Ｔ内にフレームの想定される位置に同期パターンが検出されなかった回数（Ｘ）をカウントし、この数に応じて前方保護の段数（Ｍ）を変更する。 - 特許庁

In an ordinary train ready-to-win, at a special pattern game to be carried out by the varying of three of right, middle and left display figures, when a train 75 reaches a point 5 m before the stop position, one stop sound is emitted and one of balloons 76 as given on the background 74 is displayed.例文帳に追加

左、中、右の３つの表示図柄の変動で行われる特図ゲームにおける普通列車リーチパターンにおいて、列車７５が停止位置の５ｍ前になると、停止音を１回報知するとともに、背景７４上を示す吹き出し７６を１つ表示させる。 - 特許庁

The mask M is provided with small-sized masks M1 to M4, and the mask stage 1 retains a plurality of small-sized masks M1 to M4, such that the sum of effective exposure area of the plurality of small-size masks M1 to M4 becomes larger than the area of one complete pattern which is exposed and transferred to the substrate W.例文帳に追加

マスクＭは複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４を備え、且つ、マスクステージ１は、複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４の有効露光面積の合計が基板Ｗに露光転写される１つの完成パターンの面積よりも大きくなるように、複数の小型マスクＭ１〜Ｍ４を保持する。 - 特許庁

In the pattern forming method, when the at least one photosensitive resin layer contains a naphthoquinonediazido derivative, in the step of transferring the photosensitive transfer material, a substrate temperature is 120-180°C, a roll temperature is 130-160°C, or a conveyance speed is 1-2 m/min.例文帳に追加

また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が１２０℃以上１８０℃以下、又はロール温度が１３０℃以上１６０℃以下又は搬送速度が１ｍ／分以上２ｍ／分以下であるパターン形成方法。 - 特許庁

To provide a highly safe high-performance pest insect expellant contained in an aerosol container, exhibiting a jetting pattern having a spread not in a rod shape, having a long jetting ability of 2-3 m, ensuring high safety, and hardly causing ignition in a jetting state.例文帳に追加

エアゾール容器入り害虫駆除剤について、棒状でない広がりを有する噴射パターンを有し、かつ２〜３ｍの長い噴射能力があり、しかも安全性が高く噴出状態での着火が起こり難い高安全性かつ高能力のエアゾール容器入り害虫駆除剤とすることである。 - 特許庁

A pattern drawing apparatus 1 includes a mask checking section 60, a mask cleaning section 70, a stocker section 50 within the apparatus, and a mask conveyance mechanism 40 for conveying a mask M among multiple optical heads 32a, 32b to 32g, the mask checking section 60, the mask cleaning section 70, and the stocker section 50.例文帳に追加

パターン描画装置１は、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０を装置内に備えるとともに、複数の光学ヘッド３２ａ，３２ｂ，…，３２ｇ、マスク検査部６０、マスク洗浄部７０、およびストッカー部５０の間でマスクＭを搬送するマスク搬送機構４０を備える。 - 特許庁

The coating liquid for a pattern forming body comprises a semiconductor photocatalyst, a liquid repellent agent having fluorine and a low volatile solvent whose surface tension at 20°C is within a range of 25-73 mN/m.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、半導体光触媒、フッ素を有する撥液剤、および２０℃における表面張力が２５ｍＮ／ｍ〜７３ｍＮ／ｍの範囲内である低揮発性溶剤を含有することを特徴とするパターン形成体用塗工液を提供する。 - 特許庁

An alignment mark 86 in a mask to be photographed by an alignment camera 36 is disposed outside an effective exposure area of the mask, while an alignment mark in a substrate includes a pixel Pw of a black matrix BM disposed outside an area, where a pattern of the mask M is to be transferred by exposure.例文帳に追加

アライメントカメラ３６によって撮像される、マスク側アライメントマーク８６はマスクの有効露光エリアの外側に設けられており、基板側アライメントマークは、マスクＭのパターンが露光転写される領域の外側に設けられたブラックマトリクスＢＭのピクセルＰｗを含む。 - 特許庁

Further, a parking position where the one's own vehicle is parked is specified based on the parking place map M, and when it is determined that the occupant gets off, a drawing pattern for rousing attention of a driver of the other vehicle to the occupant is drawn on a road surface of the passage adjacent to the parking position of the one's own vehicle.例文帳に追加

また、駐車場マップＭに基づき、自車両が駐車した駐車位置を特定し、乗員が降車したと判断した際に、他車両の運転者に対し、該乗員に対する注意を喚起する描画パターンを、自車両の駐車位置に隣接する通路の路面に描画する。 - 特許庁

A pattern variation display picture G1 for vary-displaying three patterns L, M and R and a special game animation G2 for displaying a special game animation in occurrence of a big win right are overlapped with the pattern variation display picture G1 on a front line to make a layer.例文帳に追加

３個の図柄Ｌ、Ｍ、Ｒを変動表示する図柄変動表示画Ｇ１と大当り権利が発生しているときの特別遊技動画を表示する特別遊技動画Ｇ２とを図柄変動表示画Ｇ１が前列になるよう重ねてレイヤーとし、大当り権利が発生したときには図柄変動表示画Ｇ１うち３個の図柄Ｌ，Ｍ，Ｒの数字部分Ｃ２を除くすべての部分を透明化して特別遊技動画が透かして見えるようにする。 - 特許庁

The exposure device includes an illumination optical system illuminating a reflection-type mask (M) installed on a first surface, by using a light from a light-condensing point (1a) on which light emitted from a light source (1) is condensed; and a projection optical system (PO) projecting a pattern of the mask to a photoreceptive substrate (W) installed on a second surface.例文帳に追加

本発明の露光装置は、光源（１）より射出された光が集光する集光点（１ａ）からの光を用いて、第１面に設置される反射型のマスク（Ｍ）を照明する照明光学系と、マスクのパターンを第２面に設置される感光性基板（Ｗ）に投影する投影光学系（ＰＯ）とを備えている。 - 特許庁

The mesh pattern M is formed so that the average strength P_H on a space frequency zone side, in which the space frequency is higher than a predetermined space frequency BF, is larger than the average strength P_L on a space frequency zone side, in which the space frequency is lower than the predetermined space frequency BF, relative to the center of gravity spectrum Spcc of each mesh.例文帳に追加

各メッシュの重心スペクトルＳｐｃｃに関して、所定の空間周波数ＢＦよりも高い空間周波数帯域側における平均強度Ｐ_Hが、所定の空間周波数ＢＦよりも低い空間周波数帯域側における平均強度Ｐ_Lよりも大きくなるように、メッシュパターンＭが形成されている。 - 特許庁

The device comprises a infrared lamp 41 which irradiates a substrate for treatment W with a light beam to heat the substrate W and a mask M placed between the infrared lamp 41 and the substrate W, made of copper which reflects wavelength of irradiated light with apertures Ma of prescribed pattern.例文帳に追加

処理基板Ｗに向けて照射光を照射することで処理基板Ｗを昇温させる赤外線ランプ４１と、赤外線ランプ４１と処理基板Ｗとの間に配置され、照射光の波長に対し反射する銅材で形成されるとともに所定のパターンで開口部Ｍａが形成されたマスクＭとを備えている。 - 特許庁

A matrix display panel is used and the holding state of each of memory elements of a plurality of pixel parts of the matrix display panel is changed to one of a binary value or the other according to a predetermined fixed pattern; and (m) driving lines are connected in common to obtain one electrode and (n) scanning lines are connected in common to obtain the other electrode.例文帳に追加

マトリックス表示パネルを用いて、所定の固定パターンに対応させてマトリックス表示パネルの複数の画素部各々のメモリ素子の保持状態を２値のうちの一方又は他方の値に変化させ、ｍ本の駆動線を共通接続して一方の電極とし、ｎ本の走査線を共通接続して他方の電極とする。 - 特許庁

This manufacturing method of the organic EL element at least has a process to form a barrier rib pattern on a transparent substrate, and a process to form a layer by transferring hole transport ink to an region surrounded by the barrier rib by a letterpress printing method, and the surface tension of the hole transport ink is 40 mN/m or less.例文帳に追加

透明基板上に隔壁パターンを形成する工程と、上記隔壁で囲まれた領域に凸版印刷法により正孔輸送インキを転写して層を形成する工程とを少なくとも有し、該正孔輸送インキの表面張力が４０ｍＮ／ｍ以下である有機ＥＬ素子の製造方法。 - 特許庁

This exposure device has an illumination optical system (IL) for illuminating a mask (M) formed with prescribed patterns and the projection optical system (PL) having the plural projection optical units (PL1 to PL5) arranged along a prescribed direction and subjects the pattern images of the mask to projection aligning on a photosensitive substrate (P) by means of the projection optical system.例文帳に追加

所定のパターンが形成されたマスク（Ｍ）を照明するための照明光学系（ＩＬ）と、所定方向に沿って配列された複数の投影光学ユニット（ＰＬ１〜ＰＬ５）を有する投影光学系（ＰＬ）とを備え、投影光学系を介してマスクのパターン像を感光性基板（Ｐ）へ投影露光する露光装置。 - 特許庁

In the friction stir welding system 1, the omen of the damage of the rotary tool 3 is detected by counting how many times a wave pattern M in an output signal for measuring detected by an acceleration detecting sensor 201 intersects sample lines H1 and H2 within a predetermined time and judging whether the number exceeds a predetermined number.例文帳に追加

摩擦攪拌接合システム１では、加速度検出センサ２０１によって検出された測定用の出力信号の波形パターンＭが所定時間内に標本線Ｈ１，Ｈ２と交差した回数をカウントし、その回数が一定以上になった場合に、回転ツール３の破損の予兆を検出している。 - 特許庁

The electrophotographic coating sheet is made by imparting a rugged pattern to one surface of the coating sheet prepared by forming at least one of coating layer on both surfaces of a base paper, wherein the electrophotographic coating sheet has the rugged surface in which the solid content coating amount on the rugged surface is 5 g/m^2 or more and the BEKK smoothness is 200 sec or less.例文帳に追加

原紙の両面に１層以上の塗工層を設けた塗工シートの片面に凹凸模様を付与した電子写真用塗工シートにおいて、該凹凸面の固形分塗工量が５ｇ／ｍ^2以上で、ＢＥＫＫ平滑度が２００秒以下である事を特徴とする凹凸面を付与した電子写真用塗工シート。 - 特許庁

A CPU 31 in an image processing section 3 calculates variation in the brightness of image data, i.e. the device pattern of a semiconductor wafer picked up at an image pickup section 2, finds the distribution width D and the central value M of brightness, and corrects them to have specified distribution width D2 and central value M2, thus correcting variation in the brightness of the image data.例文帳に追加

画像処理部３内のＣＰＵ３１により、画像撮像部２で撮像された半導体ウェハのデバイスパターンである画像データの明るさのばらつきを計算し、明るさの分布幅Ｄと中央値Ｍを求め、所定の分布幅Ｄ２と中央値Ｍ２となるように補正し、画像データの明るさのばらつきを補正する。 - 特許庁

Interpolation operation is carried out for an image data D3 of a color test pattern expressed by coordinate values in a three dimensional coordinate space (namely, three components) using anyone of a plurality of three dimensional lookup tables b1 and b2, and the image data are transformed into an image data of four components of C, M, Y, and K to output a print.例文帳に追加

３次元座標空間における座標値によって表現された（すなわち３成分の）カラーテストパターンの画像データＤ３を、複数個の３次元ルックアップテーブルｂ１，ｂ２のいずれかを用いて補間演算することによって、Ｃ，Ｍ，Ｙ，Ｋの４成分の画像データに変換し、プリント出力する。 - 特許庁

When a transfer starting point T is set in the setting section H 2 according to the target accuracy of the pattern to be formed, the exposure can be performed efficiently, in such a way that the exposing area on the substrate P can be expanded, and so on, in the case where the mask M and substrate P are moved by prescribe number of strokes.例文帳に追加

このとき、形成するパターンの目標精度に応じて、転写開始点Ｔを整定区間Ｈ２に設定することにより、マスクＭ及び基板Ｐが所定のストロークで移動する場合、基板Ｐ上における露光領域を拡大することができるなど、露光処理を効率良く行うことができる。 - 特許庁

A black (K) registration mark 120K, a cyan (C) registration mark 120C, a magenta (M) registration mark 120M and a yellow (Y) registration mark are consecutively formed by every 1/4 rotation of each corresponding photoreceptor drum, and a unit registration pattern consisting of four (even- numbered) registration marks is formed over nearly one round of a transfer belt 16.例文帳に追加

ブラック（Ｋ）のレジストマーク１２０Ｋとシアン（Ｃ）のレジストマーク１２０Ｃとマゼンタ（Ｍ）のレジストマーク１２０Ｍとイエロー（Ｙ）のレジストマークとを対応する各感光体ドラムの四分の１回転おきに連続して形成し、これら４本（偶数本）のレジストマークからなる単位レジストパターンを転写ベルト１６の略１周に渡って形成する。 - 特許庁

A sampling means 62 samples (n) pieces of output signals (m) times in time series, when operating a remote command device, so as to follow after the movement of the multi-finger robot hand 1, in a state of operating the multi-finger robot hand 1, by inputting a joint angle command value according to a predetermined time series joint angle pattern.例文帳に追加

サンプリング手段６２は、予め定めた時系列関節角度パターンに従って関節角度指令値を入力して多指ロボットハンド１を動作させた状態において、多指ロボットハンド１の動きに倣うように遠隔指令装置を操作したときにｎ個の出力信号を時系列でｍ回サンプリングする。 - 特許庁

This projection exposure method includes a step of exposing an exposure area of a radiation-sensitive substrate with at least one image of a pattern of a mask in a scanning operation which includes a step of moving the mask M relative to an effective object field of the projection objective PO and simultaneously moving the substrate relative to an effective image field of the projection objective in respective scanning directions.例文帳に追加

投影露光方法は、放射線感応基板の露光区域をマスクのパターンの少なくとも１つの像により、投影対物系の有効物体視野に対してマスクをかつ同時に投影対物系の有効像視野に対して基板をそれぞれの走査方向に同時に移動する段階を含む走査作動において露光する段階を含む。 - 特許庁

The area marker ME pattern of the diffraction grating plate 66 is restricted by a slit 68a of a visual field diaphragm 68 and the marker light M having passed through only a cross central guide Mb in the center part is irradiated, and thus it can be also used for the optical information reader equipped with optical systems with narrower angles of view, such as for reading a direct marking D of a stamp.例文帳に追加

該回折格子プレート６６のエリアマーカーＭＥのパターンを、視野絞り６８のスリット６８ａで制限し、中心部の十字形状の中央ガイドＭｂのみ通過させたマーカー光Ｍを当てるようにすることで、刻印のダイレクトマーキングＤの読み取り用等の画角の狭い光学系を備える光学情報読取装置に転用できる。 - 特許庁

While raising the precision of adhesion position by stabilizing injection by setting jet velocity of the droplets 43 into 3 to 18 m/s, by making the droplets follow after the droplets which have adhered previously adhere at suitable velocity, a high definition pattern is obtained by volatilizing the solvent in the solution, or by making absorbed instantly in the substrate 14.例文帳に追加

液滴４３の噴射速度を３〜１８ｍ／ｓとし、噴射を安定させ、付着位置精度を向上させるとともに、先に付着している液滴に後から付着する液滴が適切な速度で付着するようにし、溶液中の溶媒を揮発させ、或いは基板１４中に瞬時に吸収させ、高精細なパターンを得る。 - 特許庁

Respective maker light beams M split symmetrically with respect to the light emission axis (optical axis L) by a diffractive optical element 36 are reflected toward a reading port 14a by respective plane mirrors 37a and 37b in a reflection member 37 arranged symmetrically with respect to the light emission axis, and displayed as a pattern serving as a mark for a reading position on an article R surface.例文帳に追加

そして、回折光学素子３６により発光軸（光軸Ｌ）に対して対称に分光される各マーカ光Ｍは、当該発光軸に対して対称に配置される反射部材３７の各平面鏡３７ａ，３７ｂにより読取口１４ａに向けて反射されて物品Ｒ表面において読取位置の目印となるパターンとして表示される。 - 特許庁

Among N multi-beams by a main antenna 1 used in a no-jamming environment, a high side lobe angular area of the main antenna 1 is a jamming environment is covered by using M beam signals forming an antenna pattern of the main antenna 1, while a low side lobe wide angular area is covered by using subsidiary beams by L low-gain subsidiary antennas 2.例文帳に追加

妨害が無い環境で使用している主アンテナ１によるＮ本のマルチビームのうち、妨害環境下では、主アンテナ１のアンテナパターンを成形したＭ本のビーム信号を用いて、主アンテナ１のサイドローブの高い角度領域を覆い、サイドローブの低い広い角度領域は、利得の低いＬ個の補助アンテナ２による補助ビームで覆うようにする。 - 特許庁

Even if a cycle lag arises in the output signal 4 of the asynchronous circuit, the output signal 4 of the asynchronous circuit is outputted to the output terminal 5 at the same time by using the same value as the period number of the cycle lag as the value m of the setting signal 12, making it possible to perform correct inspection by using the same expectation value pattern.例文帳に追加

非同期回路の出力信号４にサイクルずれが生じても、そのサイクルずれの周期数と同じ値をサイクルずれ周期数設定信号１２の値ｍとすることで、出力端子５には同じタイミングで非同期回路の出力信号４が出力されるため、同じ期待値パターンを用いて正しい検査が可能になる。 - 特許庁

The color filter substrate 100 has a plurality of color filters through patterning processes, such as pattern exposure, by the use of exposure mask having the transflective region at the end of the transmissive region, development, and post baking so that an overlap step-like portion of the color filter formed on a black matrix 21a can be reduced to a height of 0.5 m or smaller.例文帳に追加

本発明のカラーフィルタ基板１００は、透過領域の端部に半透過領域が形成された露光マスクを用いてパターン露光、現像、ポストベーク等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成しているので、ブラックマトリクス２１ａ上に形成される着色フィルタのオーバーラップ（重なり）段差を０．５μｍ以下にすることができる。 - 特許庁

In the decorative sheet configured to include at least the pattern layer 7 and the transparent layer 8 in this order on a wood substrate 5, the moisture vapor transmission rate of the transparent resin layer is 60.0 g/(m^224h) or higher (measurement method is based on JIS-K-7129-1992) and the resin of the transparent layer is made of polylactic acid.例文帳に追加

木材基板５の上に、絵柄模様層７、透明樹脂層８を少なくともこの順に設けてなる化粧シートにおいて、前記透明樹脂層の水蒸気透過率が６０．０ｇ／（ｍ^２・２４ｈ）（測定方法はＪＩＳ−Ｋ−７１２９−１９９２に準じる）以上であり、前記透明樹脂層の樹脂がポリ乳酸からなる。 - 特許庁

The tubular laminated body including a barrier layer (12) disposed among a plurality of layers (10 and 14) comprising a synthetic resin to prevent the passage of steam and water, is manufactured, wherein one layer of the layers (10 and 14) is embossed with a fine embossed pattern by fine embossing finish (M) so as to have an optical effect.例文帳に追加

本発明の製造方法は、水蒸気や水の通過を防ぐために、合成樹脂の複数の層（１０、１４）の間に配置された遮断層（１２）を有し、これらの複数の層（１０、１４）のうちの一つの層には、微細なエンボス加工（Ｍ）によって作られた微細なエンボス模様が、光学的な効果を生じるように形成された、管状積層体を製造する。 - 特許庁

The multiplex pixel pattern is related to a multiplex diffraction grating medium with which different motifs are observed in different wavelength regions by defining micro pixels by further dividing a pixel composing one closed region and defining a unit micro pixel arrangement in which the micro pixels are arranged in m-lines×n-columns, and related to the mechanical reading device using the multiplex diffraction grating medium.例文帳に追加

この多重画素パターンは、一つの閉領域を構成する画素を、さらに分割して微小画素とし、この微小画素をｍ行ｎ列に配置した単位微小画素配列というものを定義することで、異なる波長領域において、異なるモチーフを観察することができる多重回折格子媒体及びそれを用いた機械読取装置に関するものである。 - 特許庁

Information 9 needed for the reply such as the approval mark of the Japan Post is mentioned in a predetermined color on a transparent unsealing tab 5, and a color which makes the predetermined color mentioning the information 9 needed for reply unrecognizable or a pattern of M is applied on an intervening tape T2 intervened at a folded position of the tab 5.例文帳に追加

透明な開封用舌片５に返信用の郵政公社の承認印等の返信用に必要な情報９が所定の色で記載され、透明な開封用舌片５の折り返し位置に介在される介在テープＴ２に、上記返信用に必要な情報９が記載された所定の色が認識できないようにする色か、又は、模様Ｍが施されている。 - 特許庁

The aligner EX comprises: a mask stage MST for supporting a mask M having a plurality of pattern regions; a substrate stage PST for supporting a photosensitive substrate P; a storage device MRY prestoring the error information of the measurements of respective shapes of the plurality of patterns and a target shape; and a controller CONT for controlling the mask stage MST and substrate stage PST.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、複数のパターン領域を有するマスクＭを支持するマスクステージＭＳＴと、感光基板Ｐを支持する基板ステージＰＳＴと、複数のパターンそれぞれのの形状計測結果と目標形状との誤差情報を予め記憶した記憶装置ＭＲＹと、マスクステージＭＳＴ及び基板ステージＰＳＴを制御する制御装置ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

The method of manufacturing the metal oxide thin-film pattern in a predetermined region on a substrate includes a process of applying an ink composition containing ions of metal to become metal oxide in an ink jet manner, wherein the ink composition has a viscosity of 3 to 40 mPa s and a surface tension of 10 to 70 mN/m.例文帳に追加

基板上の所定の領域に金属酸化物薄膜パターンを製造する方法であって、該金属酸化物となる金属のイオンを含むインク組成物をインクジェット方式により塗布する工程を含み、該インク組成物の、粘度が３〜４０ｍＰａ・ｓ、かつ表面張力が１０〜７０ｍＮ／ｍであることを特徴とする金属酸化物薄膜パターンの製造方法。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition capable of faithfully reproducing the design size of a mask pattern with high sensitivity, excellent in adhesion to a substrate, capable of obtaining a satisfactory spacer shape and film thickness under an exposure energy of ≤1,500 J/m^2, excellent also in strength and heat resistance, and excellent in controllability of spacer shape and film thickness in a low exposure energy region.例文帳に追加

高感度でマスクパターンの設計サイズを忠実に再現でき、かつ基板との密着性に優れ、１，５００Ｊ/ｍ^2以下の露光量で十分なスペーサー形状および膜厚を得ることを可能とし、また強度、耐熱性等にも優れ、低露光量領域におけるスペーサーの形状、膜厚の制御性に優れている感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁