「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(91ページ目) - Weblio英語例文検索

PATTERN FILM-FORMING MASK FOR SOLUTION COATING, ITS MANUFACTURING METHOD, PATTERN FILM-MANUFACTURING METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC THIN FILM TRANSISTOR例文帳に追加

溶液塗布用パターン製膜用マスクとその製造方法、パターン膜の製造方法、有機薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁

IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET, METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR DUPLICATING THE IRREGULAR PATTERN FORMATION SHEET AND OPTICAL ELEMENT例文帳に追加

凹凸パターン形成シートおよびその製造方法、凹凸パターン形成シート複製用工程シート原版、光学素子 - 特許庁

MANUFACTURE OF PHOSPHOR PATTERN, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE SAME, AND BACK PLATE FOR PHOSPHOR PATTERN AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

蛍光体パターンの製造法、これに用いられる感光性エレメント、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - 特許庁

In this case, a tensile force for maintaining a spreading state of the pattern 60 is imparted to the pattern 60 by the holder 61.例文帳に追加

この際、印刷パターン部６０には、その展張状態を維持する引張力がマスク保持部６１により付与される。 - 特許庁

This device acquires a sample of the feature vector of the pattern, belonging to the class for each of the classes, in executing pattern recognition (S110).例文帳に追加

本装置は、パターン認識するクラス毎に、当該クラスに属するパターンの特徴ベクトルのサンプルを取得する（Ｓ１１０）。 - 特許庁

The pattern exposure system decides the luminous exposure for pattern exposure in accordance with the received thickness of the resist film (step S202).例文帳に追加

パターン露光装置は、受信した膜厚に応じてパターン露光処理における露光量を決定する（ステップＳ２０２）。 - 特許庁

To provide an additive for a lost pattern by which, the defects of residue can sufficiently in the use of a lost pattern be solved.例文帳に追加

消失模型を用いた場合に、残渣欠陥を十分に解消できる消失模型用添加剤を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter capable of enhancing a pattern formation limit, and capable of forming a further fine pattern.例文帳に追加

パターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The pattern data are corrected in each small partition by a correcting unit 28 using the pattern data correction amount calculated for each partition.例文帳に追加

補正処理部２８は、小区画毎に算出したパターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正する。 - 特許庁

FINE PATTERN FORMING MATERIAL AND FINE PLATING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

微細パターン形成材料並びにこれを用いた微細めっきパターン形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a mask layout pattern verification device and its method for precisely verifying rectangular layout pattern data.例文帳に追加

矩形レイアウトパターンデータに対する検証を高精度に行なえるマスクレイアウトパターン検証装置および方法を提供する。 - 特許庁

The variation pattern includes time information to inform a user of the number of opportunities for starts stored by the pattern variation time.例文帳に追加

変動パターンは、始動契機の記憶数を図柄の変動時間で遊技者に報知するための時間情報を含む。 - 特許庁

To provide a method and program for preparing an evaluation pattern, which can appropriately evaluate pattern transfer fidelity.例文帳に追加

パタン転写忠実度を適切に評価することのできる評価パタンの作成方法および作成プログラムを提供する。 - 特許庁

A conductor pattern 3 made of, for example, copper is formed on one surface of the base insulating layer 2 via an adhesive pattern 7.例文帳に追加

ベース絶縁層２の一面に、接着剤パターン７を介して、例えば銅からなる導体パターン３が形成される。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern by using a laser, by which a high-definition pattern can be formed.例文帳に追加

高精細なパターンを形成することができるレーザーを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The semiconductor device includes a pattern generation section (109); and a pattern check section (107) for comparing an output signal from the resistor with the expected value.例文帳に追加

パターン生成部（１０９）と、上記レジスタの出力信号を期待値と比較するパターンチェック部（１０７）とを設ける。 - 特許庁

The emitter electrode pattern 7 is connected to the outside of the device, for energization to the emitter electrode pattern 7 and the metal wire 16.例文帳に追加

エミッタ電極パターン７は装置外部に接続され、エミッタ電極パターン７及び金属ワイヤ１６に通電される。 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern which forms a pattern that has high process likelihood and correction accuracy on a semiconductive wafer.例文帳に追加

半導体ウェハ上にプロセス裕度及び補正精度が高いパターンを形成するマスクパターン補正方法を提供する。 - 特許庁

The resist pattern is formed on a wafer for inspection (step S1), and a first linewidth of the resist pattern is measured (step S2).例文帳に追加

検査用ウェハ上にレジストパターンを形成し（ステップＳ１）、当該レジストパターンの第１の線幅を測定する（ステップＳ２）。 - 特許庁

An index provision section 426 provides indices for identifying the shape pattern and the dot pattern to the respective patterns.例文帳に追加

インデクス付与部４２６は、形状パターン及び網点パターンに対して、それぞれのパターンを識別するインデクスを付与する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method for efficiently performing lithography rule check on a design pattern after optical proximity correction.例文帳に追加

光近接効果補正後の設計パターンに対して効率的にリソグラフィールールチェックを行うパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

An energizing path for cooling is formed between an among the N-type pattern 3, the discharge electrode 6 and the P-type pattern 4.例文帳に追加

そして、Ｎ型パターン３、放電電極６及びＰ型パターン４の間に、冷却用の通電経路を設ける。 - 特許庁

The detergent for lithography is caused to contact a resist pattern formed in the resist pattern forming process.例文帳に追加

また、このリソグラフィー用洗浄剤をレジストパターン形成工程において、形成したレジストパターンと接触させることによる。 - 特許庁

A test pad addition part 2 adds a test pad for sampling and applying electrical signal to the layout pattern to form an additional layout pattern.例文帳に追加

テストパッド付加部２は、上記レイアウトパターンに、電気信号サンプリング／印加するテストパッドを付加し、付加レイアウトパターンとする。 - 特許庁

The pattern variable display means (370) displays the generation part (521) for generating the pattern images (500-512) at a hiding part (91).例文帳に追加

図柄変動表示手段(370)は、図柄画像(500〜512)を発生させる発生部(521)を隠蔽部分(91)に表示させるようにしている。 - 特許庁

The potentials of the local match lines are selected according to the data pattern lengths, and matching is performed for the data items having the different pattern lengths.例文帳に追加

ローカルマッチ線電位をデータパターン長に応じて選択して、異なるパターン長のデータについて一致検索を行なう。 - 特許庁

And the calculated classification pattern number for every positional relationship is used to calculate the pattern dependency of defect groups (step S9).例文帳に追加

そして、算出した位置関係毎の分類パターン数を用いて欠陥群のパターン依存度を算出する（ステップＳ９）。 - 特許庁

The event/action decision part 515 decides whether or not the rule pattern information suitable for the pattern of the object message exists.例文帳に追加

イベント／アクション判定部５１５は、対象メッセージのパタンに適合するルールパタン情報が存在するかを判定する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method for forming a high-density/high-definition pattern in a short period, and to provide a circuit substrate.例文帳に追加

高密度・高精細なパターンを短時間に形成することができるパターン形成方法及び回路基板を提供する。 - 特許庁

In-plane tendencies of measurement sizes of a resist pattern and a pattern of the film to be processed on a wafer for inspection are calculated (step S5).例文帳に追加

検査用ウェハ上のレジストパターンと被処理膜パターンの測定寸法の面内傾向を算出する（ステップＳ５）。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern having a good feature while decreasing roughness generating in a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for producing a fine metal pattern where the productivity of the fine metal pattern can be improved.例文帳に追加

微細金属パターンの製造方法において、微細金属パターンの生産性を向上することができるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern which decreases reflectivity of EUV light with a less dose amount.例文帳に追加

少ないドーズ量でＥＵＶ光の反射率を低下させたパターンを形成できるパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Since the pattern 5 for visual recognition is not light transmissive, the pattern enhances an effect of preventing the other person from seeing the information I.例文帳に追加

この視認用模様５は非透光性であるため、他人による情報Ｉの視認を妨げる効果を補強する。 - 特許庁

To provide a method of testing a pattern which can improve simulation accuracy of a layout pattern for an actual product.例文帳に追加

実製品に対するレイアウトパターンのシミュレーション精度を向上させることができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

To form an extremely minute dot pattern with high throughput, at a low cost and with excellent reproducibility in a method for forming a dot pattern.例文帳に追加

ドットパターンの形成方法に関し、極微小のドットパターンを高スループット且つ低コストで、再現性良く形成する。 - 特許庁

The embroidery frame body 31 holding the workpiece cloth has a sewing region capable of sewing the embroidery pattern A2 for sewing the embroidery pattern.例文帳に追加

加工布を保持する刺繍枠本体３１は、刺繍模様を縫製するための縫製可能領域Ａ２を有する。 - 特許庁

To form a narrow pattern by minimizing deformation of the pattern by a forming method for a contact hole of a semiconductor element.例文帳に追加

半導体素子のコンタクト孔形成方法として、パターンの変形を最小限にし、狭いパターン形成を可能にする。 - 特許庁

TEST PATTERN HARDLY-PERCEPTIBLE TO HUMAN OBSERVATION, AND METHOD FOR ANALYZING IMAGE DATA CORRESPONDING TO TEST PATTERN OF INKJET PRINTER例文帳に追加

人間観察に知覚されにくいテストパターン、およびインクジェットプリンタのテストパターンに対応する画像データの分析方法 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film pattern capable of forming a thin linear film pattern precisely and stably.例文帳に追加

細い線状の膜パターンを、精度よく安定して形成することができる薄膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ANTENNA PATTERN FRAME, MANUFACTURING METHOD AND MANUFACTURING MOLD THEREOF, AND MANUFACTURING METHOD FOR CASE OF ELECTRONIC DEVICE WITH THE ANTENNA PATTERN FRAME EMBEDDED例文帳に追加

アンテナパターンフレーム、その製造方法及び製造金型、アンテナパターンフレームが埋め込まれた電子装置のケースの製造方法 - 特許庁

To provide a pattern formation method for forming a pattern where unevenness is reduced on a sidewall by a multilayer resist process.例文帳に追加

側壁の凹凸を低減したパターンを、多層レジストプロセスを用いて形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a neat coating pattern by sharply cutting the terminal end of the coating pattern in a die for a hot melt adhesive.例文帳に追加

ホットメルト接着剤用ダイにおいて、塗布パターンの終端部の切れを良くし、きれいな塗布パターンが得られるようにする。 - 特許庁

To form a fine via pattern while reducing the man-hours for pattern design, the number of sheets of use masks and the deviation of superposition.例文帳に追加

パターン設計工数、使用マスク枚数及び重ね合わせずれを低減しつつ、微細なビアパターンの形成を可能にする。 - 特許庁

To provide a resist composition and a method for forming a resist pattern, by which a resist pattern in a good shape with high sensitivity can be formed.例文帳に追加

高感度で、良好な形状のパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁