「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(93ページ目) - Weblio英語例文検索

In the pattern forming method for a semiconductor device, a gate line, a padding and a selection line are formed at the same time by forming a pattern for a gate line using a first photoresist pattern and a first antireflection film, and forming a pattern for a padding and a selection line of a width wider than that for the gate line using a second photoresist pattern and a second antireflection film.例文帳に追加

第1のフォトレジストパターン及び第1の反射防止膜を用いてゲートライン用パターンを形成し、第2のフォトレジストパターン及び第2の反射防止膜を用いてゲートラインより広い幅のパッド及びセレクトライン用パターンを形成することにより、ゲートライン、パッド及びセレクトラインを同時に形成することができる半導体素子のパターン形成方法。 - 特許庁

For a character pattern which is binarized into black and white, a preprocess part 1-2 performs a process for dividing the pattern into areas by characters and a normalizing process for the positions and sizes of the characters.例文帳に追加

前処理部１−２で、黒白に二値化された文字パターンに対し、一文字毎の領域に分割する処理と、文字の位置及び大きさの正規化処理を行う。 - 特許庁

To provide a device and method for providing a pattern for calibration, which reduces a space occupied when a pattern for calibration is imaged by an imaging apparatus.例文帳に追加

撮像装置による校正用パターンの撮像における占有空間を縮小することができる校正用パターン提供装置、校正用パターン提供方法を提供する。 - 特許庁

The spray dripping of the coating for the pattern is performed in the desired region on the levelling roll and the coating for the pattern may be transferred on the coating for the substrate by the levelling roll to be smoothed.例文帳に追加

なお、柄模様用塗料のスプレー滴下を、均しロール上の所望領域に行い、均しロールで柄模様用塗料を基地用塗料上に転写、平滑化してもよい。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SURFACE METAL FILM MATERIAL, SURFACE METAL FILM MATERIAL, MANUFACTURING METHOD FOR METAL PATTERN MATERIAL, METAL PATTERN MATERIAL, AND DISPERSED SUBSTANCE FOR FORMING POLYMER LAYER例文帳に追加

表面金属膜材料の作製方法、表面金属膜材料、金属パターン材料の作製方法、金属パターン材料、及びポリマー層形成用分散物 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR FORMING THIN FILM, APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT PATTERN AND ELECTRONIC EQUIPMENT, AND APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

薄膜形成装置と薄膜形成方法、回路パターンの製造装置と回路パターンの製造方法と電子機器、及びレジストパターンの製造装置とレジストパターンの製造方法 - 特許庁

To make light distribution patterns appropriate for both of a light distribution pattern for low beams and a light distribution pattern for high beam, in a projector type vehicle headlight having a movable shade.例文帳に追加

可動シェードを有するプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを共に適正な配光パターンとする。 - 特許庁

The repair agent composition for a lost pattern or the adhesive composition for a lost pattern consists of organic polymer particles and a binder resin for sticking the particles.例文帳に追加

消失模型用補修剤組成物または消失模型用接着剤組成物は、有機ポリマー粒子と同粒子を固着するためのバインダー樹脂とからなる。 - 特許庁

To provide a mask having a mask pattern for transferring a prescribed circuit pattern; and to provide a method for manufacturing the mask and a method for manufacturing a semiconductor device using the mask.例文帳に追加

所望の回路パターンを転写するためのマスクパターンを有するマスクと、そのマスクの製造方法と、そのマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming apparatus which alleviates degradation in accuracy for forming a pattern due to a variation in manufacturing accuracy of the nozzle hole of a head and facilitates pattern formation of high accuracy.例文帳に追加

ヘッドのノズル孔製造精度のばらつきに起因する形成パターンの精度低下を緩和し、高精度なパターン形成を実現するパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

A pattern image for detecting a transfer rate is formed on a photoreceptor and a transfer rate is calculated based on toner adhesive amount before transferring the pattern image and that after transferring the pattern image.例文帳に追加

転写率検知用のパターン像を感光体に形成し、パターン像の転写前のトナー付着量と転写後のトナー付着量に基づいて転写率を算出する。 - 特許庁

Consequently, the vehicular headlight can improve the light-distribution accuracy of the low beam light-distribution pattern and the high beam light-distribution pattern (the light-distribution pattern for daytime running light).例文帳に追加

この結果、この発明は、ロービーム用配光パターンおよびハイビーム用配光パターン（デイタイムランニングライト用配光パターン）の配光精度を向上させることができる。 - 特許庁

A hologram prepared by being exposed to record a pattern which regulates the exiting direction and range of diffracted light and a pattern which constitutes a decorative image different from the above pattern is used for the reflector.例文帳に追加

回折光の出射方向・範囲を規定するパターンと、前記パターンとは異なる装飾画像を構成するパターンとが露光記録されたホログラムを採用する。 - 特許庁

A pattern memorizing means maintains a variation pattern which variably displays several types of stopped pattern candidates and various types of blank patterns for each of several variation rows.例文帳に追加

パターン記憶手段は、複数の変動列ごとに複数種類の停止図柄候補と、複数種類のブランク図柄とを変動表示させる変動パターンを保持する。 - 特許庁

The pattern G is set as the pattern for ending the variation after 240 seconds (after the big winning right becomes extinct) after variable display is started and displaying the stop pattern.例文帳に追加

パターンＧは、変動表示を開始してから２４０秒後（大当り権利消滅後）に変動を終了して停止図柄を表示するパターンとして設定されている。 - 特許庁

In response to an operator's selecting operation for print conditions, a relating pattern specification part 14 specifies a pattern corresponding to the print conditions in the relating pattern group PG.例文帳に追加

そして、オペレータによる印刷条件の選択操作に応答して、関連付けパターン指定部１４が関連付けパターン群ＰＧから印刷条件に対応するパターンを指定する。 - 特許庁

The auxiliary pattern 13 comprises a pattern for correcting the optical proximity effect by engraving a specified region of the reticle 11 in such a manner that the pattern is parallel to at least a specified line part.例文帳に追加

ここでは、補助パターン１３は、少なくとも所定ライン部と並行するようにレチクル１１を所定領域掘り込んだ光学近接効果補正用のパターン部である。 - 特許庁

The wiring pattern of a semiconductor device is approximated to a columnar approximation pattern which is then used for calculating a capacitance approximating the parasitic capacitance of the wiring pattern.例文帳に追加

半導体装置の配線パターンを円柱形の近似パターンに近似し、その近似パターンを用いて、配線パターンの寄生容量を近似した近似寄生容量を算出する。 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁

After the resist pattern 7A is formed, it can be reduced in pattern width W, so that it is not required to prepare an expensive exposure system for micronizing the resist pattern 7A.例文帳に追加

レジストパターン７Ａを形成した後にそのパターン幅Ｗを縮小化できるので、レジストパターン７Ａを微細化するための高価な露光装置を用意する必要がない。 - 特許庁

To provide a lithography correcting system which forms a resist pattern nearer to design dimensions for forming the resist pattern crossing perpendicularly to a pattern on a substrate having steps.例文帳に追加

段差を有する基板上のパターンと直交するレジストパターンを形成する場合に、設計寸法により近いレジストパターンを形成可能なリソグラフィ補正システムを提供する。 - 特許庁

The build-up layer includes: an outer layer circuit pattern 23 of a surface layer and a blind via 22 A for electrically connecting the outer circuit pattern 23 to the inner circuit pattern 11 A.例文帳に追加

このビルドアップ層は、表層の外層回路パターン２３と、外層回路パターン２３と内層回路パターン１１Ａを電気的に接続するブラインドビア２２Ａとを有する。 - 特許庁

The print inductor 1 includes a first inductor pattern 10, a second inductor pattern 20, and a connection member 30 (for instance, a third inductor pattern 30A).例文帳に追加

本実施形態のプリントインダクタ１は、第１のインダクタパターン１０、第２のインダクタパターン２０および接続部材３０（例えば、第３のインダクタパターン３０Ａ）を備えている。 - 特許庁

A semiconductor is manufactured by using a template 1 formed with a pattern 11 for circuit pattern formation in a pattern formation region, and formed with a convex section 15 in a peripheral region.例文帳に追加

パターン形成領域に回路パターン形成用のパターン１１が形成され、周辺領域に凸部１５が形成されたテンプレート１を使用して半導体装置を製造する。 - 特許庁

On the basis of the evaluation values determined for each of the plurality of candidate pattern images, the pattern image configuring the character under consideration is specified among the plurality of candidate pattern images.例文帳に追加

複数の候補パターン画像のそれぞれについて求めた評価値に基づいて、複数の候補パターン画像のうち着目文字を構成しているパターン画像を特定する。 - 特許庁

A plurality of shortening patterns including a pattern for shortening pattern varying by omitting at least one of the plurality of variable areas and a pattern with out shortening are set.例文帳に追加

複数の変動区間のうち１つ以上を省略して図柄変動を短縮するパターン、及び短縮なしのパターンを含み複数の短縮パターンが設定されている。 - 特許庁

MARKER STRUCTURE FOR ALIGNMENT OR OVERLAY TO CORRECT PATTERN INDUCED DISPLACEMENT, MASK PATTERN TO DEFINE THE MARKER STRUCTURE, AND LITHOGRAPHIC PROJECTING APPARATUS USING THE MASK PATTERN例文帳に追加

パターン誘発変位を補正するためのアラインメント又はオーバレイ用マーカ構造、当該マーカ構造を規定するためのマスク・パターン、及び当該マスク・パターンを使用するリトグラフ投影装置 - 特許庁

In the line pattern structure and the method for forming the same, the line pattern structure comprises at least a first line pattern having a linear shape including a cut-off part.例文帳に追加

ラインパターン構造物及びその形成方法において、ラインパターン構造物は切断部位を含むライン形状を有する少なくとも１つの第１ラインパターンを含む。 - 特許庁

To provide method and system for inspecting pattern which are capable of correctly inspecting a circuit pattern at high speed without failing the extraction of profile data of the pattern.例文帳に追加

パターンの輪郭データの抽出を失敗すること無く、高速かつ正確に回路パターンの検査を行うことのできる、パターン検査方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

Since a part, wherein the wiring pattern 35 becomes dense, is eliminated so that the wiring pattern 35 can have a simple shape, the costs required for the formation of the wiring pattern 35 can be reduced.例文帳に追加

配線パターン３５が密になる部分がなくなり、配線パターン３５が単純な形状となるため、配線パターン３５の形成に掛かるコストを削減させることができる。 - 特許庁

Furthermore, the setting for the designated woven pattern is changed to the monochrome woven pattern, so that the printing may be performed in the monochrome mode using the designated woven pattern setting.例文帳に追加

さらに、指定された地紋設定をモノクロの地紋設定に変更し、指定された地紋設定を用いてモノクロモードにて印刷処理を行うこととしてもよい。 - 特許庁

Plural feature points (first feature points 121) of a first pattern 111 are arranged on an embroidery pattern (the first pattern 111) used as a model for preparing embroidery data.例文帳に追加

刺繍データを作成する場合に模範とする刺繍模様（第一模様１１１）上に、第一模様１１１の特徴的な点（第一特徴点１２１）が複数配置される。 - 特許庁

To correct a mask pattern while considering the position of a projection pattern formed on a substrate upon designing the mask pattern for forming a diffusion area in a substrate.例文帳に追加

基板に拡散領域を形成するときのマスクパターンを設計するときに、基板に形成された凸状のパターンの位置を考慮して補正を行うことができるようにする。 - 特許庁

An individual identifying means 12 collates the voice pattern of the first voice of the communication party A with a voice pattern in a voice pattern table 13 for each communication party to identify the communication party.例文帳に追加

個人特定手段１２は、通話相手Ａの第１声の音声パターンと、通話相手別音声パターンテーブル１３の音声パターンとを照合し通話相手を特定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a novel pattern sheet of a thermoplastic resin having a pattern such as that of an inlaid chip flooring, especially a pattern flooring, in a simple way without using chips.例文帳に追加

チップを使用することなく,簡便な方法で、インレイドチップ床材のような模様を持つ新規な熱可塑性樹脂模様シートとくに床材の製造方法の提供 - 特許庁

After determining a variation pattern type, the variation pattern for use in the variable display is determined from a plurality of types of variation patterns pertaining to the determined variation pattern type.例文帳に追加

さらに、変動表示に用いる変動パターンは、変動パターン種別を決定した後に、該変動パターン種別に属する複数種類の変動パターンから決定する。 - 特許庁

When it is judged that the standby system K bytes are not the defined pattern in the step, whether or not the pattern is a pattern for reporting an erroneous connection is judged (step S55).例文帳に追加

このステップで、予備系Ｋバイトが定義されたパターンでないと判定されれば、そのパターンが、誤接続通知用のパターンであるか否かを判定する（ステップＳ５５）。 - 特許庁

A detection pattern 9 comprising a triangle pattern 9A and square patterns 9D or the like is located adjacent to a black/white pattern 8 on a calibration sheet 5 for black/white hue adjustment.例文帳に追加

白黒レベル調整用のキャリブレーションシート５に、三角パターン９Ａや四角パターン９Ｄなどからなる検出パターン９を白黒パターン８と隣接して設ける。 - 特許庁

The impedance in a high frequency band between the ground pattern 53 and the ground pattern 37 is adjusted and an appropriate antenna pattern is attained for both of vertically polarized waves and horizontally polarized waves.例文帳に追加

グランドパターン５３とグランドパターン３７との間の高周波域におけるインピーダンスを調整して、垂直偏波、水平偏波ともに適正なアンテナパターンとなるようにする。 - 特許庁

To provide a forming method of an inorganic thin-film pattern for a polyimide resin capable of forming the inorganic thin film pattern on the surface of polyimide resin by ensuring both adhesion reliability and pattern precision.例文帳に追加

無機薄膜を密着信頼性及びパターン精度高くポリイミド樹脂表面に形成することができるポリイミド樹脂の無機薄膜パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To form a uniform and stable picture pattern, character pattern, and symbol pattern without impairing the senses of beauty and value as surface decorations for various equipment made of metal.例文帳に追加

金属製等の各種装備品に対して表面装飾としての美感・価値感を損なうことなく均一で安定した絵柄模様・文字模様・記号模様等を形成する。 - 特許庁

To provide a photomask pattern correcting method capable of accurately and rapidly correcting a photomask pattern for forming a photoresist pattern and to provide a photomask corrected by the correcting method.例文帳に追加

フォトレジストのパターンを形成するためのフォトマスクのパターンを高精度かつ高速に補正できるフォトマスクのパターン補正方法およびそれにより補正されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a shift control method for improving a shift feeling when shifting a speed by switching a shift pattern to a speed reduction time shift pattern from an ordinary shift pattern.例文帳に追加

通常変速パターンから減速時変速パターンに切替わって変速が行なわれる場合における変速フィーリングが向上する変速制御方法を提供すること。 - 特許庁

To read a prescribed pattern without writing it to a medium for an electronic writing instrument on which the prescribed pattern is printed, the pattern being readable to an electronic writing instrument such as an electronic pen.例文帳に追加

電子ペンなどの電子筆記具が読取可能な所定のパターンが印刷された電子筆記具用媒体への書込みをすることなく、その所定のパターンを読み取ること。 - 特許庁

To provide a pattern recognition method and device for stably recognizing a pattern whose features fluctuate due to pattern deformation and a storage medium in which its program is stored.例文帳に追加

パターン変形により特徴が変動したパターンを安定に認識するパターン認識方法及びその装置及びそのプログラムを格納した記憶媒体を提供する。 - 特許庁