「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(96ページ目) - Weblio英語例文検索

When it is decided that a varying result of the special pattern should make a big win, the ready-to-win varying pattern is selected as a varying pattern to be used for a varying display of identification information or the probability of the selection of the ready-to-win varying pattern is increased.例文帳に追加

特図の変動結果が大当たりとすることが決定されたときには識別情報の変動表示に用いる変動パターンとしてリーチ変動パターンを選択するか又はその選択の確率を高くする。 - 特許庁

A light intensity pattern is formed by optical simulation using the pattern data (S13), and a model for specifying the quantity of corrections correlated with the difference in size between the light intensity pattern and the test pattern is developed (S14, S15).例文帳に追加

パターンデータを用いた光学シミュレーションにより光強度パターンを形成し（Ｓ１３）、テストパターンに対する光強度パターンの寸法相違に相関する補正量を規定するモデルを生成する（Ｓ１４，Ｓ１５）。 - 特許庁

STRIP-LIKE TRANSFER DIE FOR PATTERN TRANSFER, ELECTROFORMING ROLL FOR STRIP-LIKE TRANSFER DIE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

紋様転写用の帯状転写型材、帯状転写型材用の電鋳ロールおよびそれらの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING LIQUID CRYSTAL DISPLAY, AND EXPOSURE MASK例文帳に追加

パターン形成方法、薄膜トランジスタ基板の製造方法、液晶表示装置の製造方法、及び露光マスク - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN-FILM PATTERN, METHOD FOR PRODUCING MAGNETO-RESISTIVE EFFECT ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THIN-FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜パターンの形成方法、磁気抵抗効果素子の製造方法および薄膜磁気ヘッドの製造方法 - 特許庁

MATERIAL FOR FORMING RESIST PROTECTION FILM FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE PROTECTION FILM例文帳に追加

液浸露光プロセス用レジスト保護膜形成用材料、および該保護膜を用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

To provide an image forming apparatus for reducing the labor and time required for sampling a test pattern for automatic gradation correction.例文帳に追加

自動階調補正のテストパターンのサンプリングを行う際の手間の削減と時間の短縮を目的とする。 - 特許庁

METHOD FOR GENERATING OPTIMAL LUMINOUS PATTERN OF PLASMA DISPLAY PANEL, METHOD FOR MEASURING CONTOUR NOISE, AND METHOD FOR SELECTING GRAY SCALE例文帳に追加

プラズマディスプレーパネルの最適の発光パターン生成方法と輪郭ノイズ測定方法及びグレースケール選択方法 - 特許庁

PRINTING INK COMPOSITION, METHOD FOR LETTERPRESS REVERSED OFFSET, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC COMPONENT AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

印刷インキ組成物、凸版反転オフセット法、レジストパターンの形成法、電子部品の製造法及び電子部品 - 特許庁

MONOMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, POLYMER FOR CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

化学増幅レジスト用単量体、化学増幅レジスト用重合体、化学増幅レジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁

SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK, SUBSTRATE SET FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK SET, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスク用基板、フォトマスク、フォトマスク用基板セット、フォトマスクセット、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING IMAGING PERFORMANCE OF TRANSFER/ EXPOSURE APPARATUS, METHOD FOR ADJUSTING TRANSFER/ EXPOSURE APPARATUS, AND PATTERN FOR EVALUATION例文帳に追加

転写露光装置の結像性能の評価方法、転写露光装置の調整方法及び評価用パターン - 特許庁

METHOD FOR FORMING THIN FILM PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING THIN FILM MAGNETIC HEAD AND THIN FILM ELEMENT例文帳に追加

薄膜パターンの形成方法、薄膜素子の製造方法、薄膜磁気ヘッドの製造方法及び薄膜素子 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ELEMENT, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN USING THE SAME, METHOD FOR PRODUCING PRINTED CIRCUIT BOARD AND METHOD FOR PRODUCING LEAD FRAME例文帳に追加

感光性エレメント、これを用いたレジストパターンの製造法、プリント配線板の製造法及びリードフレームの製造法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN, MATERIAL FOR FORMING PROTECTIVE FILM USED THEREFOR, AND LIQUID FOR CLEANING AND REMOVING PROTECTIVE FILM例文帳に追加

ホトレジストパターンの形成方法、及びこれに用いる保護膜形成用材料並びに保護膜洗浄除去液 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, COMPOSITION FOR RESIST UNDERLAY FILM TO BE USED FOR THE METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN DATA FORMING METHOD FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

リソグラフィ用パターンデータ生成方法、それを用いた半導体装置の製造方法及び半導体製造装置 - 特許庁

Yakiba-tsuchi soil (soil used for quenching) is applied thinly and evenly over the Hirachi (blade side), then Hamon (blade pattern) is designed with a writing brush using Yakiba-tsuchi soil for quenching for Hamon. 例文帳に追加

平地に平地用の焼場土を均一に薄く塗り、刃紋に筆で刃紋用焼場土を描く。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

METHOD FOR PROMOTING SELF-FORMATION OF BLOCK COPOLYMER AND METHOD FOR FORMING SELF-FORMATION PATTERN OF BLOCK COPOLYMER USING THE METHOD FOR PROMOTING SELF-FORMATION例文帳に追加

ブロックコポリマーの自己組織化促進方法及びそれを用いたブロックコポリマーの自己組織化パターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN GRAY TONE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK, GRAY TONE MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

グレートーンマスクの欠陥修正方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

A glass substrate can be used for the substrate 2, for example, and ITO which is a transparent electrode, for example can be used for the wiring pattern 3.例文帳に追加

基板２は、例えばガラス基板が使用でき、配線パターン３は、例えば透明電極であるＩＴＯが使用できる。 - 特許庁

The composition for microfabrication of a resist pattern is used in a resist pattern forming method including steps of applying a composition for microfabrication of a resist pattern on a resist pattern formed by using a radiation-sensitive resin composition, and baking, followed by cleaning to microfabricate the resist pattern, and the composition contains an acidic low-molecular weight compound and a solvent that does not dissolve the resist pattern.例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有するレジストパターン微細化組成物を提供する。 - 特許庁

Correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of process using a first resist pattern as a mask is performed for the pattern dimension of a first photomask, and correction based on a work conversion difference depending on a pattern at the time of etching process of a film to be processed by using a mask pattern as a mask is performed for the pattern dimension of the first photomask.例文帳に追加

第１のフォトマスクのパターン寸法に対して、第１のレジストパターンをマスクに用いた加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行い、前記第１のフォトマスクのパターン寸法に対して、前記マスクパターンをマスクに用いた前記被加工膜のエッチング加工時のパターンに依存する加工変換差に基づく補正を行う。 - 特許庁

To provide a method for forming film pattern which makes it possible to control the line width of a pattern as desired particularly when the pattern having a thick film is formed and, thereby realizing fine pattern and high definition pattern, and to provide a conductive film wiring, an electro-optical device, an electronic appliance and a non-contact card medium obtained by the method for forming film pattern.例文帳に追加

特に膜厚が厚いパターンを形成するにあたって、そのライン幅を所望通りに制御できるようにし、これによってパターンの微細化、高精細化を可能にした膜パターンの形成方法と、この形成方法によって得られる導電膜配線、電気光学装置、電子機器、及び非接触型カード媒体とを提供する。 - 特許庁

The apparatus is provided with a means (210) for detecting a ground pattern (background dot pattern) embedded in a background image included in image data of an original image from the image data, and means (210, 211) for comparing the detected ground pattern (background dot pattern) with an output-prohibited ground pattern (background dot pattern) stored in a storage area to determine the sameness of them.例文帳に追加

原稿画像の画像データに含まれる背景画像に埋め込まれた地紋パターン（背景ドットパターン）を画像データから検出する手段（２１０）と、検出した地紋パターン（背景ドットパターン）を、記憶領域に記憶されている出力を禁止する地紋パターン（背景ドットパターン）と比較し、その同一性を判定する手段（２１０、２１１）と、を設ける。 - 特許庁

The pattern 20 for the first band and the pattern 30 for the second band are constituted so as to be branched in a V shape from the end section of a common input- output pattern 10, while the pattern 20 and the pattern 30 are configured in a shape that the patterns 20 and 30 are curved as a whole, and the area of the whole wiring pattern is decreased.例文帳に追加

第１の帯域用パターン２０と第２の帯域用パターン３０を、共通入出力パターン１０の端部からＶ字状に分岐するように構成すると共に、第１の帯域用パターン２０と第２の帯域用パターン３０とを全体的に湾曲した形状に構成し、配線パターン全体の小面積化が図られている。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes: a resist pattern forming step of forming a resist pattern on the surface to be processed and then applying the thickening material for a resist pattern to cover the surface of the resist pattern to thereby thicken the resist pattern; and a patterning step of patterning the surface to be processed by etching by using the thickened resist pattern as a mask.例文帳に追加

被加工面上にレジストパターンを形成後、レジストパターンの表面を覆うように前記レジストパターン厚肉化材料を塗布することによりレジストパターンを厚肉化するレジストパターン形成工程と、厚肉化したレジストパターンをマスクとしてエッチングにより被加工面をパターニングするパターニング工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

This method for manufacturing the substrate with the metal pattern comprises developing a photosensitive resin film 4a on the metal film 3a to form a predetermined pattern of the photosensitive resin film, etching the above metal film 3a to form the metal pattern 3b, and then leaving the photosensitive resin pattern as a protective film 4b for the above metal pattern 3b, without removing the photosensitive resin pattern.例文帳に追加

金属膜３ａ上に感光性樹脂膜４ａを所定のパターンに現像して感光性樹脂パターンを形成し、前記金属膜３ａを腐食処理して金属パターン３ｂを形成した後、感光性樹脂パターンを除去することなく、この感光性樹脂パターンを前記金属パターン３ｂの保護膜４ｂとして残すものである。 - 特許庁

This aligning method of semiconductor integrated circuit includes a step by which aligning pattern data per a specified unit area is extracted from aligning pattern data inputted in an aligning device, and the aligning pattern data extracted and a dummy pattern data for every specified unit area are merged and the aligning processing of the aligning pattern data and the dummy pattern data merged is executed for every area.例文帳に追加

露光装置に入力した露光パターンデータから所定の単位領域毎の露光パターンデータを抽出し、抽出した露光パターンデータと、所定の単位領域毎のダミーパターンデータとをマージし、マージした露光パターンデータとダミーパターンデータとを単位領域毎に露光処理するステップとを有することを特徴とする半導体集積回路の露光方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern capable of inexpensively forming a bump electrode, a wiring pattern, a spacer for a liquid crystal display unit, a spacer for a touch panel and a pattern such as a barrier or the like for a plasma display panel on a material to be formed such as a substrate or the like.例文帳に追加

基板などの被形成体上にバンプ電極、配線パターン、液晶表示装置用のスペーサ、タッチパネル用のスペーサ、プラズマディスプレイパネル用の障壁等のパターンを安価に形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection method and device for eliminating the need of the exact positioning for a master pattern, for eliminating erroneous determination of determining a nondefective as a defective, and for restraining an increase of the kinds of reference pattern portions prepared as the master pattern.例文帳に追加

マスタパターンの厳密な位置合わせを不要とし、良品を不良品と誤判定することのなく、しかもマスタパターンとして用意すべき基準パターン部分の種類の増大を抑制できる外観検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

An operation part 30 includes: a first operation part for detecting the position of the detection part 20 for the scale 10; a second operation part for calculating a comparison pattern; and a third operation part for collating the comparison pattern and a detection pattern to detect the existence of errors.例文帳に追加

演算部３０は、スケール１０に対する検出部２０の位置を検出する第１演算部と、比較パターンを算出する第２演算部と、比較パターンと検出パターンとを照合してエラーの有無を検出する第３演算部とを備える。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having excellent pattern precision and adhesion property to substrates, being developed with water or with a dilute alkali solution and being suitable for pattern formation such as for a color filter, for a black matrix and for a spacer pattern and a photosensitive film utilizing it.例文帳に追加

パターン精度、基板との密着性に優れ、水又は希アルカリ溶液で現像ができ、カラーフィルター、ブラックマトリックス及びスペーサーパターン等のパターン形成に適する感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性フイルムを提供する。 - 特許庁

To provide a lighting fixture for a vehicle for obtaining a diffusion type light distribution pattern and a light distribution pattern for an overhead sign, eliminating curving-up or -down of a light distribution, and obtaining the light distribution pattern suitable for vehicular illumination.例文帳に追加

拡散タイプの配光パターンとオーバーヘッドサイン用の配光パターンとが得られるとともに、配光の反り上がり及び反り下がりをなくして車両照明に適した拡散タイプの配光パターンが得られる車両用照明灯具を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting fixture for vehicle which is constructed so as to form selectively a light distribution pattern for rainy weather running and a light distribution pattern for high beam, in which the light distribution pattern for rainy weather running is formed with sufficient brightness with a low cost structure.例文帳に追加

雨天走行時用配光パターンとハイビーム用配光パターンとを選択的に形成し得るように構成された車両用照明灯具において、安価な構成で、雨天走行時用配光パターンを十分な明るさで形成可能とする。 - 特許庁

A metronome having an operator (101) for setting a rhythm pattern with an arbitrary combination of strong beats and weak beats, a rhythm pattern memory means (102) for storing the rhythm pattern of the arbitrary combination of strong beats and weak beats set by the operator and a rhythm pattern regeneration means (103) for repeatedly regenerating the rhythm pattern stored in the rhythm pattern memory means is provided.例文帳に追加

強拍及び弱拍の任意の組み合わせの拍子パターンを設定するための操作子（１０１）と、操作子により設定された強拍及び弱拍の任意の組み合わせの拍子パターンを記憶するための拍子パターン記憶手段（１０２）と、拍子パターン記憶手段に記憶された拍子パターンを繰り返し再生する拍子パターン再生手段（１０３）とを有するメトロノームが提供される。 - 特許庁

The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加

本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン１を含む原画パターン１４を設計する工程と、設計された原画パターン１４をグリッド９０上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド９０上に位置づけられたパターンを透明基板１１上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR, ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

導電パターンの形成方法、薄膜トランジスタの製造方法、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁

PRINTER, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING PRINTED MATTER AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL ELEMENT例文帳に追加

印刷装置、パターン形成方法、印刷物の製造方法、有機ＥＬ素子の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SLIDE LINE PATTERN TRANSFER PAPER FOR CERAMIC ENGINEERING, AND CERAMIC PRODUCT MANUFACTURED BY USING THE METHOD例文帳に追加

窯業用スライド万線転写紙の製造方法とそれを用いて製造した窯業製品。 - 特許庁

This invention can be applied to, for example, a device for learning the time series pattern of the time series data.例文帳に追加

本発明は、例えば、時系列データの時系列パターンを学習する装置に適用できる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFT MASK, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

位相シフトマスクの製造方法、レジストパターンの形成方法および半導体装置の製造方法 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PRINTING RESIST MASK, METHOD FOR FORMING CONDUCTOR PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

レジストマスク印刷装置、レジストマスク印刷方法、導体パターンの形成方法、並びに電子部品 - 特許庁

METHOD FOR FORMING WIRING PATTERN, SUBSTRATE FOR ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTROOPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPLIANCE例文帳に追加

配線パターンの形成方法、電気光学装置用基板、および電気光学装置、ならびに電子機器 - 特許庁