「pattern for」に関連した英語例文の一覧と使い方(95ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a resist pattern for alignment measurement preventing image processing signals of a pattern edge from being asymmetrical to the center line even when a heat flow treatment is executed to the resist pattern for the alignment measurement.例文帳に追加

合わせ測定用のレジストパターンに熱フロー処理を施しても、パターンエッジ部の画像処理信号が左右非対称とならないようにする合わせ測定用のレジストパターンを提供することである。 - 特許庁

To provide: an antenna pattern frame capable of preventing a phenomenon that an antenna pattern part is floated on an antenna pattern frame; a method and mold for manufacturing the same; a method for manufacturing an electronic device case; and an electronic device.例文帳に追加

本発明はアンテナパターン部がアンテナパターンフレーム上で浮く現象を防ぐアンテナパターンフレーム、その製造方法及び製造金型、電子装置のケースの製造方法及び電子装置に関する。 - 特許庁

The internal electrode pattern for additional lamination is printed just after arrangement of the internal electrode non-forming part 3c, and shape of the internal electrode pattern for additional lamination is made identical to an internal electrode pattern just before arrangement of the internal electrode non-forming part 3c.例文帳に追加

追加積層用の内部電極パターンは、内部電極非形成部３ｃの直後に印刷し、形状を内部電極非形成部３ｃの直前の内部電極パターンと同じにする。 - 特許庁

Pattern information for executing arpeggio articulation and phrase pronuciation fitted to the extended tone color and a sequencer for executing pattern articulation in response to the pattern information are mounted on the extension board 3.例文帳に追加

音色拡張ボード３には、該拡張された音色になじむアルペジオ発音やフレーズ発音を実行するためのパターン情報と該パターン情報に応じてパターン発音を行うシーケンサが搭載されている。 - 特許庁

To provide a test pattern preparation device, a test pattern preparation method, a failure detection rate calculation device, and a failure detection rate calculation method for preparing a test pattern for highly precisely detecting the bridge failure of an LSI.例文帳に追加

ＬＳＩのブリッジ故障を高精度に検出するテストパターンを作成できるテストパターン作成装置、テストパターン作成方法、故障検出率算出装置故障検出率算出方法を提供する。 - 特許庁

Tables for determining failure variation pattern types have common determination values allocated for variation pattern types including the variation pattern with super ready-to-win status, regardless of the total count of saved prize ball data.例文帳に追加

また、はずれ用変動パターン種別判定テーブルは、スーパーリーチを伴う変動パターンを含む変動パターン種別に対しては、合算保留記憶数にかかわらず、共通の判定値が割り当てられている。 - 特許庁

To provide a printer and a device for setting a print pattern for easily setting a layout pattern, wherein print target data are arranged in print areas defined by template data, to a predetermined layout pattern.例文帳に追加

テンプレートデータに規定された印刷領域に印刷対象データを配置した配置パターンを、容易に所望の配置パターンに設定しうる印刷装置及び印刷パターン設定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation substrate with improved uniformity of a pattern shape formed by drying droplets, and to provide an electrooptical device, a method for manufacturing the pattern formation substrate and a method for manufacturing the electrooptical device.例文帳に追加

液滴を乾燥して形成するパターン形状の均一性を向上したパターン形成基板、電気光学装置、パターン形成基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The carrier transmission unit 32 includes a transmission pattern holding unit 33 for holding a transmission pattern of a carrier signal to be transmitted, and a transmission unit 34 for transmitting the carrier signal on the basis of the transmission pattern.例文帳に追加

キャリア送信部３２は、送信するキャリア信号の送信パターンを保持する送信パターン保持部３３、および送信パターンに基づいてキャリア信号を送信する送信部３４を備えている。 - 特許庁

To provide a color measuring method which enables the measurement of a color tone of a color pattern by accurately discriminating the color patterns for measuring the color tone even when a contrast of the color pattern for measuring the color pattern is small, and to provide a color measuring apparatus.例文帳に追加

測色する絵柄のコントラストが小さい場合でも、色調を測定する絵柄を正確に識別し、前記絵柄の色調を測定できる測色方法および測色装置を提供する。 - 特許庁

A pattern controller 152 stops a part of a performance symbol by the mode of the determined ready-for-winning pattern and carries out variation performance using a back ground image and a character corresponding to the mode of the ready-for-winning pattern.例文帳に追加

図柄制御装置１５２は、決定したリーチ図柄の態様で演出図柄の一部を停止させ、そのリーチ図柄の態様に対応する背景画像およびキャラクタにより変動演出を行う。 - 特許庁

To provide an apparatus for forming colored pattern and a method of forming colored pattern by which a treatment time for applying colored pattern material onto a plurality of portions on a substrate and curing the material.例文帳に追加

基板における複数の箇所に着色パターン材料を塗布しかつ硬化させるときの処理時間を短縮し得る着色パターン形成装置及び着色パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A dummy pattern 102 which is the same in the size of a Y direction as that of a pattern 101 for evaluation and short in the size of an X direction is drawn, and then the pattern 101 for evaluation is drawn in the X direction.例文帳に追加

評価用パターン１０１とＹ方向の寸法が同じでＸ方向の寸法が短いダミーパターン１０２を描画し、次いで、Ｘ方向に沿って評価用パターン１０１を描画する。 - 特許庁

To provide an overlapping error measuring method for calculating the true value M of a precise overlapping error with a resist pattern for forming a lower layer pattern and an upper layer pattern, even if the optical axis is deviated.例文帳に追加

光軸にズレが生じても下層パターンと上層パターンを形成するためのレジストパターンとの正しい重ね合わせ誤差の真値Ｍを算定するこのができる重ね合わせ誤差測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyvalent phenolic material as a base material for a pattern forming material with which a pattern with high resolution and reduced line edge roughness (LER) can be formed, and to provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

ＬＥＲの低減された高解像性のパターンが形成できるパターン形成材料の基材用の多価フェノール材料、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive silane coupling agent for forming a fine particle pattern, a dot array pattern and a hole array pattern having small defects in small amount of processes and a method for forming the patterns by using the photosensitive silane coupling agent.例文帳に追加

少ない工程数で低欠陥な微粒子パターン、ドットアレイパターン、ホールアレイパターンを形成するための感光性シランカップリング剤、及び該感光性シランカップリング剤を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A pattern display area deciding part decides the arrangement position and change size of the pattern display area according to the input change designation for the pattern display area and execution designation for reach (ready-to-win condition) presentation.例文帳に追加

図柄表示領域決定部は、入力される図柄表示領域の変更指示やリーチ演出の実行指示などに従って、図柄表示領域１１９の配置位置や変更サイズを決定する。 - 特許庁

When removing the masking pattern, the raw material is heated to raise temperature of the masking pattern indirectly for melting and removing or masking pattern itself is directly heated for melting and removing.例文帳に追加

マスキングパターンを除去するに際しては、素材を加熱することで、間接的にマスキングパターンを昇温させ、溶融・除去する他、マスキングパターン自体を直接加熱し、溶融・除去することができる。 - 特許庁

A color shift correcting means includes: a pattern image forming means for forming a color shift pattern image in each color on a transfer surface; and a position detecting means for detecting the position of the formed pattern image.例文帳に追加

色ずれ補正手段は、各色ごとの色ずれのパターン画像を転写面上に形成するパターン画像形成手段と、形成されたパターン画像の位置を検出する位置検出手段とを含む。 - 特許庁

To provide an apparatus for forming a functional film pattern which can form a film pattern uniform in the depth direction without being made large-sized, and to provide a method for forming the functional film pattern and electronic equipment.例文帳に追加

装置を大型化せずに、深さ方向に均一な膜質のパターンを形成することのできる機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁

A reading means (11) for reading the vein pattern of an inspection target and a comparison means (12) for comparing the read vein pattern to a plurality of vein pattern data are linked together by a general-purpose network communication means (13).例文帳に追加

検査対象の静脈パターンを読み取る読取手段(11)と、該読み取った静脈パターンを複数の静脈パターンデータと比較する比較手段(12)が汎用ネットワーク通信手段 (13)で結ばれている。 - 特許庁

INSPECTION DEVICE FOR PHOTOMASK FOR PROXIMITY EXPOSURE, METHOD FOR INSPECTING PHOTOMASK FOR PROXIMITY EXPOSURE, PHOTOMASK FOR PROXIMITY EXPOSURE, PATTERN TRANSFER METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK FOR PROXIMITY EXPOSURE例文帳に追加

プロキシミティ露光用フォトマスクの検査装置、プロキシミティ露光用フォトマスクの検査方法、プロキシミティ露光用フォトマスク、パターン転写方法及びプロキシミティ露光用フォトマスクの製造方法 - 特許庁

In the Yamashina family, many textiles for hosonaga are matsushige (moegi color for omote (outside cloth), murasaki (purple) for ura (background cloth), koiro color for nakabe or kurenai (deep red) for ura, usu kurenai (light red) for nakabe, an ordered arabesque pattern of white pine for the outside cloth). 例文帳に追加

山科家では多くの場合松重（表萌黄・裏紫・中倍香色もしくは裏紅・中倍薄紅。表の地は松唐草の浮織）を調進した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

If a jackpot is determined, for example, its announcement is started using a normal changing sound with a delay of Ta from the start of changing pattern, after which a right pattern and a left pattern are stopped with the accompaniment of pattern stop sounds.例文帳に追加

例えば、大当りと判定された場合には、図柄変動の開始からＴａ遅らせて通常変動音による報知を開始させ、その後、左図柄と右図柄を夫々図柄停止音を伴わせて停止させる。 - 特許庁

To provide a mask pattern verification method, mask pattern generation method, pattern data processor, and program, for fast pattern verification to prevent destruction of a stencil mask using a simple graphic process.例文帳に追加

簡易な図形演算処理を用いて、ステンシルマスクの破壊防止のためのパターン検証を高速に行うことができるマスクパターン検証方法、マスクパターン作成方法、パターンデータ処理装置、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

To form a mask pattern of high dimensional precision by preventing the change of width of a mask pattern line after plasma dry etching to a resist pattern turning to an etching mask, in a forming method of a mask pattern for an EUV lithography.例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用のマスクパターン形成方法において、エッチング・マスクとなるレジストパターンに対するプラズマ・ドライエッチング後のマスクパターン線幅変動を防止し、高寸法精度なマスクパターンを形成することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resist composition for supercritical development process which suppresses pattern deformation due to swelling and pattern collapse and can obtain a pattern having a high aspect ratio, and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

パターンの膨潤による変形及びパターン倒れを抑制するとともに、高アスペクト比のパターンを得ることのできる超臨界現像プロセス用レジスト組成物及び当該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Further, for the pattern data to be finally stop-displayed, pattern character success moving image data corresponding to the pattern data are read and displayed instead of the pattern data and the moving image display is performed (S217:YES - S226).例文帳に追加

さらに、最後に停止表示される図柄データについては、その図柄データに代わって当該図柄データに対応する図柄キャラ成功動画データを読み出して表示し、その動画表示を行う（Ｓ２１７：ＹＥＳ〜Ｓ２２６）。 - 特許庁

The image forming apparatus includes a pattern image forming means configured to form a pattern image for image correction on the respective image carriers 1Y, 1C, 1M and 1Bk, and a pattern image detection means 32 configured to detect the pattern image on the conveyance body 14.例文帳に追加

当該画像形成装置は、各像担持体１Ｙ，１Ｃ，１Ｍ，１Ｂｋ上に画像補正用のパターン像を形成するパターン像形成手段と、搬送体１４上でパターン像を検知するパターン像検知手段３２とを備える。 - 特許庁

When the variation pattern of the special figures determined based on the random numbers present the ready for win variation pattern (S228: YES), a stock button is pushed (S230: YES) and the pattern can be replaced with the normal variation pattern (S250).例文帳に追加

その乱数に基づき決定される特別図柄の変動パターンがリーチ変動パターンであった場合（Ｓ２２８：ＹＥＳ）、ストックボタンを押して（Ｓ２３０：ＹＥＳ）、通常変動パターンに差し替えることができる（Ｓ２５０）。 - 特許庁

For example, the interference is determined when the change pattern between noted sweep data x(n) and previous sweep data x(n-1) is the pattern P and the change pattern between the noted sweep data and subsequent sweep data x(n+1) is the pattern N.例文帳に追加

例えば、注目スイープデータｘ（ｎ）の１つ前のスイープデータｘ（ｎ−１）との変化パターンがパターンＰであり、１つ後のスイープデータｘ（ｎ＋１）との変化パターンがパターンＮである場合、干渉であると判定する。 - 特許庁

The mask pattern includes a first conductive pattern corresponding to a region for forming a product, a second conductive pattern corresponding to a frame part, and a third conductive pattern electrically connecting the first and second conductive patterns.例文帳に追加

マスクパターンは、製品形成領域に対応する第１導電性パターンと、枠部に対応する第２導電性パターンと、第１及び第２導電性パターンを電気的に接続する第３導電性パターンを含む。 - 特許庁

Considering that contrast in light intensity of the fine pattern adjacent to the wide pattern is decreased, a pattern processing which reduces a decrease of the contrast in light intensity for the fine pattern is performed to obtain a semiconductor device.例文帳に追加

幅広パターンに隣接した微細パターンの光強度コントラストが低下することを考慮して、微細パターンに対する光強度コントラストの低下を軽減するパターン処理を施した半導体装置が得られる。 - 特許庁

A plurality of waveform generating circuits generates the test waveform of each continuous pattern data from the continuous pattern data generated in the pattern generating circuit and the clock for determining the change timing of each continuous pattern data generated in an edge generator.例文帳に追加

複数の波形発生回路は、パターン発生回路で発生した連続パターンデータと、エッジ発生器で発生した各連続パターンデータの変化タイミングを決定するクロックとから、各連続パターンデータのテスト波形を発生する。 - 特許庁

To provide a pattern position detector and a pattern position detecting method for rapidly detecting the position of a predetermined pattern included in a two-dimensional code or the like while improving accuracy in detecting the pattern position.例文帳に追加

２次元コードなどに含まれる所定パターンの位置の検出精度を向上させつつ、高速に当該位置を検出することができるパターン位置検出装置及びパターン位置検出方法を提供する。 - 特許庁

A device for evaluating a pattern form comprises a design data storage section 1, an evaluation region production section 2, a pattern image acquisition section 3, a pattern contour detection section 4, a data synthesis section 5, and a pattern form measurement section 6.例文帳に追加

パターン形状評価装置は、設計データ記憶部１と、評価領域生成部２と、パターン画像取得部３と、パターン輪郭検出部４と、データ合成部５と、パターン形状計測部６とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of forming an irregular pattern for surely forming the desired irregular pattern even if a wide recessed area is included in the irregular pattern, and also to provide a manufacturing method of information storage medium using the same irregular pattern forming method.例文帳に追加

凹凸パターンに幅が広い凹部が含まれる場合であっても所望の凹凸パターンを確実に形成できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a test pattern producing apparatus, a circuit design apparatus, a test pattern producing method, a circuit design method, a test pattern producing program, and a circuit design program, for reducing the processing time in test pattern production and the amount of memory used.例文帳に追加

テストパターン生成時の処理時間や使用メモリ量の削減を図るテストパターン生成装置、回路設計装置、テストパターン生成方法、回路設計方法、テストパターン生成プログラム、回路設計プログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.例文帳に追加

種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、ＣＤＵ及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a reference value setting method and a pattern determining method, wherein even in the case of an underlying pattern having a substantially circular shaped part, it is possible to determine the pertinence of the position of a resist pattern for the underlying pattern accurately.例文帳に追加

略円形状の部分を有する下地パターンであっても、下地パターンに対するレジストパターンの位置の良否を正確に判定することができる基準値設定方法およびパターン判定方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern is characterized in that after a resist pattern is formed, a resist pattern thickening material containing a resin, a crosslinking agent and a nitrogen-containing compound is applied so as to cover the surface of the resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの製造方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、樹脂と、架橋剤と、含窒素化合物とを含有するレジストパターン厚肉化材料を塗布することを特徴とする。 - 特許庁

At the time of the start winning to the start winning port 13, drawing for deciding the number of times of the pattern variation is performed and the pattern variable display device 10 executes the pattern variation on the basis of the decided number of times of the pattern variation.例文帳に追加

始動入賞口１３への始動入賞時に、図柄変動回数を決定するための抽選を行い、決定された図柄変動回数に基づき図柄変動表示装置１０が図柄変動を実施する。 - 特許庁

A reach pattern group data table 43 selected in relation to the decision of the reach pattern group is constituted of a 'count value' for indicating the count value of a reach pattern group counter 27D and the 'reach pattern group' corresponding to the 'count value'.例文帳に追加

リーチ図柄群の決定に関して選択されるリーチ図柄群データテーブル４３は、リーチ図柄群カウンタ２７Ｄのカウント値を表す「カウント値」と、この「カウント値」に対応する「リーチ図柄群」とから構成されている。 - 特許庁

In each of varyingly displayed patterns 'A' to 'F' the possibility of shifting from an arbitrary ready-to-win pattern to a big win stop pattern (reliability of a big win) is set to an arbitrary value for each ready-to-win pattern and each big win stop pattern.例文帳に追加

各変動表示パターンＡ〜Ｆにおいて、任意のリーチ図柄から大当たり停止図柄に移行する確率（大当たり信頼度）が、リーチ図柄毎および大当たり停止図柄毎に任意の値に設定されている。 - 特許庁

The pachinko game machine 1 carries out big winning pattern lottery processing for deciding one big winning pattern constantly integrally with the big winning pattern lottery processing without regard to the result of the big winning pattern lottery processing.例文帳に追加

パチンコ遊技機１は、一の大当たり図柄を決定しておくための大当たり図柄抽選処理を、大当たり抽選処理の結果の如何に拠らず該大当たり抽選処理と常時一体的に実行する。 - 特許庁