「pattern formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

The primary and secondary wires of the sheet transformer are formed on conductor pattern layers in the winding pattern formation regions 212 and 222 of multilayered printed wiring boards 210 and 220.例文帳に追加

多層プリント配線板２１０、２２０の巻線パターン形成領域２１２、２２２内の各導体パターン層に、シート型トランスの１次巻線及び２次巻線を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an extrusion molded cement panel with an embossed pattern, which enables the formation of a sharp pattern, wherein ribs and embosses are compounded, difficult heretofore, and an apparatus therefor.例文帳に追加

従来では困難であったリブとエンボスを複合したシャープな模様の形成が可能となるエンボス模様付押出成形セメント板の製造方法及びその装置を得る。 - 特許庁

To provide a mask pattern formation method by which the dimensional accuracy of the pattern of a photomask is enhanced and a photomask having no harmful effect on a wafer step and easy to put to practical use can be manufactured.例文帳に追加

フォトマスクのパタン寸法精度を向上させ、さらにウエハ工程への悪影響がなく、実用が容易であるフォトマスクを作製できるマスクパタン形成方法を提供 - 特許庁

To provide a resist composition superior in depth of focus (DOF) when forming an isolated contact hole pattern, and a resist film and a negative pattern formation method using the same.例文帳に追加

孤立コンタクトホールパターンを形成する際の焦点深度マージン（ＤＯＦ）に優れたレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The surface treating agent for resist pattern formation contains: a chemical species which reacts with a functional group contained in a resist pattern upon heating to form a bond; and a solvent.例文帳に追加

加熱により、レジストパターンに含まれる官能基と反応し、結合を形成する化学種と、溶媒を含有することを特徴とするレジストパターン形成用表面処理剤。 - 特許庁

When any symbol for designating an image formation color such as a specific pattern or character capable of designating the image formation color at a reception side is drawn at a specific position in a transmission image at a transmission side, the reception side is provided with a function to operate image formation by using the image formation color following the symbol.例文帳に追加

本構成において、送信側の送信画像内の特定位置に受信側の画像形成色を指定できる特定の絵柄、文字等の画像形成色指定用記号を持つ場合、受信側はその記号に従った画像形成色を使用して画像形成を行う機能を有する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition capable of suppressing generation of a development residue and allowing formation of a favorable pixel pattern.例文帳に追加

現像残渣の発生を抑制するとともに、良好な画素パターンを形成可能な感光性組成物を提供すること。 - 特許庁

COLORED RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, FORMATION METHOD OF PATTERN, MANUFACTURING METHOD OF COLOR FILTER, COLOR FILTER, AND SOLID STATE IMAGE SENSOR例文帳に追加

着色感放射線性組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、および固体撮像素子 - 特許庁

To provide a film formation method whereby one highly precise film pattern can be simply formed from one liquid drop.例文帳に追加

１個の液滴から１本の高精細な膜パターンを簡単に形成することが可能な、膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam for suppressing variations in magnetic field at manipulator operation and improving an accuracy of pattern formation.例文帳に追加

マニュピレータ作動時の磁場変動を抑え、パターン形成精度を向上させた荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light guide further maximizing optical efficiency and reducing further bright edge pattern formation.例文帳に追加

光学効率をより一層最大化すると共に、より明るいエッジパターンの形成を低減する導光体を提供する。 - 特許庁

To enable the formation of a pattern having a bad profile to be prevented by further enhancing resolution resulting from liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィによる解像度をより向上させることにより、パターンの形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁

A pretreatment composition, including a basic compound can be also applied prior to the application of the composition for fine pattern formation.例文帳に追加

微細パターン形成用組成物の塗布の前に塩基性化合物を含む前処理組成物を塗布することもできる。 - 特許庁

To provide a diffraction optical element capable of obtaining high optical performance even though the formation density of a recessed and projecting pattern is non-uniform.例文帳に追加

凹凸パターンの形成密度が非一様であっても高い光学性能の得られる回折光学素子を提供する。 - 特許庁

The control section limits the formation of the additional light distribution pattern when the number of the oncoming vehicles exceeds a predetermined threshold value.例文帳に追加

制御部は、前方車両の台数が所定のしきい値を超えた場合には、付加配光パターンの形成を制限する。 - 特許庁

To recognize an image of a recognition mark which is formed on the circuit pattern formation side of a silicon wafer from the back thereof.例文帳に追加

シリコンウェハの回路パターン形成面に形成された認識マークを裏面側から画像認識することを課題とする。 - 特許庁

To provide a technique for facilitating dimensional control of the width (W) of a lower layer in formation of a resist pattern for lift-off.例文帳に追加

リフトオフ用レジストパターンの形成において、下層の幅（Ｗ）の寸法制御を容易とする技術を提供する。 - 特許庁

To manufacture a SAW element, which enables formation of a microscopic electrode pattern of the IDT in its interior, and can cope with increase in turning into high frequency.例文帳に追加

微細な電極パターンのＩＤＴを形成でき、高周波化に対応可能なＳＡＷ素子を製造する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method that can realize highly accurate patterning even when the film is made of photosensitive resin or the like and is thick.例文帳に追加

非感光性樹脂等からなる厚膜であっても、高精度のパターニングが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To enable formation of a surface plated film even on the side of a wiring pattern.例文帳に追加

配線パターンの側面にまで表面めっき被膜を形成することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

PHENYLENEDIAMINE DERIVATIVE, PRODUCTION OF PHENYLENEDIAMINE DERIVATIVE, PHOTORESIST COMPOSITION, FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フェニレンジアミン誘導体、フェニレンジアミン誘導体の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

RUGGED PATTERN FORMATION SHEET, LIGHT DIFFUSING BODY, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR MANUFACTURING THE LIGHT DIFFUSING BODY, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

凹凸パターン形成シート、光拡散体および光拡散体製造用工程シート原版およびそれらの製造方法 - 特許庁

FILM PATTERN FORMATION METHOD AND DEVICE MANUFACTURING METHOD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING ACTIVE MATRIX SUBSTRATE例文帳に追加

膜パターンの形成方法及びデバイスの製造方法、電気光学装置及び電子機器、アクティブマトリクス基板の製造方法 - 特許庁

To provide a spectroscopic module stabilizing the formation of a diffraction grating pattern, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

回折格子パターンの形成を安定化させることができる分光モジュール及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve throughput of an exposure process for exposing mutually different patterns in a plurality of pattern formation areas of a substrate.例文帳に追加

露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。 - 特許庁

To provide a resist composition that allows formation of a pattern having excellent resolution and a mask error factor (MEF).例文帳に追加

優れた解像度及びマスクエラーファクター（ＭＥＦ）を有するパターンを形成することができるレジスト組成物等を提供する。 - 特許庁

To provide a high speed controllable film formation device capable of forming a film pattern by an AD method without using a mask.例文帳に追加

マスクを使用することなくＡＤ法による膜パターンを形成できる、高速制御可能な成膜装置を提供する。 - 特許庁

The bilayer film for pattern formation is obtained by forming a coating film comprising the radiation-sensitive resin composition on the underlayer film.例文帳に追加

パターン形成用多層膜は、該下層膜上に該感放射線性樹脂組成物からなる被膜を形成してなる。 - 特許庁

The conductive primer layer 7 is grounded and an electrified pattern formation material 9 is given in the state of un-hardening.例文帳に追加

導電プライマー層７を接地し、ベースコート層６が未硬化の状態で、帯電させた模様形成材料９を付与する。 - 特許庁

A resist is coated on an SiO_2 film 63, and then a resist pattern 64 for a mask for diffraction-grating formation is formed (c).例文帳に追加

ＳｉＯ_２膜６３上にレジストを塗布した後に回折格子作製マスク用のレジストパターン６４を作製する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a method for producing a color filter where a pattern forming limit is improved, and the formation of finer patterns is made possible.例文帳に追加

パターン形成限界が向上し、より微細なパターンの形成が可能となるカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMATION OF PATTERN, ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME, AND OPTICAL PARTS MANUFACTURED THEREBY例文帳に追加

パターン形成方法、この方法を用いる電子ビーム描画装置およびその方法を用いて作製される光学部品 - 特許庁

A stress distortion formation film 24 is formed and further a third resist pattern 25 is formed on a semiconductor substrate 11.例文帳に追加

半導体基板１１の上に、応力歪み生成膜２４を形成し、さらに、第３のレジストパターン２５を形成する。 - 特許庁

To further extend service life of a vapor deposition boat by relieving the degree and pattern of groove formation on an evaporation surface.例文帳に追加

蒸発面での溝形成の程度及びパターンを緩和することによって蒸着ボートの有効寿命をさらに延ばす。 - 特許庁

Further, the anode is thinned, whereby the formation of a minute phosphor pattern by photolithography, slurry method or the like is facilitated.例文帳に追加

また、陽極を薄膜とすることで、フォトリソ法・スラリー法等により微細な蛍光体パターンの形成を容易にした。 - 特許庁

To provide a means of obtaining a phase shifting mask which widens a process window in pattern formation in an exposure step.例文帳に追加

露光工程におけるパターンを形成する際のプロセスウィンドウを広げる位相シフトマスクを実現する手段を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method for variable pattern formation of a dampening solution and an improved method for variable imaging lithographic marking systems of various forms.例文帳に追加

湿潤溶液の可変パターン形成と各種態様の可変作像平版マーキングシステムの改良法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which reduces efficiently the amount of footing after development in a resist process.例文帳に追加

レジストプロセスにおける現像後のフッティング量を効果的に削減することが可能なパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

POLYVINYL ACETATE SAPONIFICATION PRODUCT-BASED PHOTOSENSITIVE RESIN, AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポリ酢酸ビニルケン化物系感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパタ—ン形成方法 - 特許庁

To provide a transfer molding apparatus capable of preventing the formation of creases and accurately transferring a pattern to a molded article.例文帳に追加

しわの発生を防止して成形品に正確に図柄を転写することができる転写成形装置を提供する。 - 特許庁

To enable formation of a fine pattern having a high dimensional accuracy by a transfer technique without using complicated manufacturing steps.例文帳に追加

製造工程を複雑化することなく、転写技術を利用して寸法精度の高い微細パターンを形成できる。 - 特許庁

This enhances the emission efficiency of the h-line of the discharge lamp 1 and allows formation of a resist pattern having a trapezoid cross section.例文帳に追加

このようにすると、放電ランプ１のｈ線の発光効率が高まり、台形断面のレジストパターンに形成できる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having a wide depth-of-focus range (DOF) and a method for formation of a resist pattern.例文帳に追加

焦点深度幅（ＤＯＦ）特性に優れたポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法 - 特許庁

MONOMER FOR PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST CROSSLINKING AGENT, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMATION OF PHOTORESIST PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト架橋剤用単量体、フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、および半導体素子 - 特許庁