「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(194ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, a fourth insulating film 10 is deposited on the first insulating film pattern 9, a resist pattern is formed again, and spacer processing and anisotropic etching processing are performed to form a spacer part with the width F/2 on a line part of the first insulating film pattern 9 and form a line and spacer pattern with a pattern pitch F.例文帳に追加

更に、第１の絶縁膜パターン９上に第４の絶縁膜１０を堆積させ、再びレジストパターン形成、スペーサ加工、及び異方性エッチング処理を施すことで、第１の絶縁膜パターン９のライン部にＦ／２の幅のスペース部を形成してパターンピッチＦのラインアンドスペースパターンを形成する。 - 特許庁

The imprinting mold provides a large-opening recessed pattern to a substrate and provides a fine uneven pattern to the base of the large-opening recessed pattern.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドは、基板に、大開口凹パターンが設けられ、前記大開口凹パターンの底面に微細な凹凸パターンが設けられていることを特徴とする。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

A movable conductor pattern 7 is formed on the movable part 4.例文帳に追加

可動部４には可動導体パターン７を形成する。 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY DEVICE例文帳に追加

パターン形成方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁

The erosion-preventive plug and the photo-resist pattern are removed.例文帳に追加

侵蝕防止用プラグ及びフォトレジストパターンを除去する。 - 特許庁

To provide a semiconductor testing device provided with a pattern generator capable of bringing a pattern storage capacity stored in the pattern generator equivalently into phase number times of an interleave, in a sequential pattern generation mode wherein a pattern generation mode is not accompanied with a repeating loop and the like.例文帳に追加

パターンの発生形態が繰り返しループ等を伴わないシーケンシャルなパターン発生形態の場合において、パターン発生器に格納できるパターン格納容量を等価的にインタリーブの相数倍にすることができるパターン発生器を備える半導体試験装置を提供する。 - 特許庁

PHOTOMASK FOR CRYSTAL SURFACE ALIGNMENT AND PATTERN DRAWING DEVICE例文帳に追加

結晶面アライメント用ホトマスクおよびパターン描画装置 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、デバイスの製造方法並びにデバイス - 特許庁

After a hydrophilic pattern is formed on the surface of a substrate in a state where the pattern is directly coupled with the surface, a conductive polymer layer is formed on the pattern.例文帳に追加

支持体上に、該支持体表面に直接結合した親水性パターンを形成したのち、該親水性パターン上に導電性ポリマー層を形成することを特徴とする。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POSITIVE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びポジ型パターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a system and a method for pattern defect inspection which can speed up detailed analysis of detected pattern defect in semiconductor circuit pattern formation process, by skipping visual reinspection through a review device.例文帳に追加

半導体回路パターン形成工程において、レビュー装置による目視再検査を省略して、検出したパターン欠陥の詳細な解析を迅速化する。 - 特許庁

The mask for forming a prescribed pattern on a substrate is provided with, the pattern forming member 10 provided with the opening parts 16 corresponding to the prescribed pattern, and the pattern-holding member 12 laminated on the pattern-forming member 10.例文帳に追加

本発明のマスクは、基板上に所定パターンを形成するためのマスクであって、所定パターンに対応する開口部１６が設けられたパターン形成部材１０と、前記パターン形成部材１０の一面に重ねて設けられたパターン保持部材１２と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

PATTERN DISPLAY CONTROL METHOD AND APPARATUS FOR GAME MACHINE例文帳に追加

遊技機における図柄表示制御方法及び装置 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR READING CLOTH PATTERN例文帳に追加

布パターン読み取り装置および布パターン読み取り方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

When a mask made of a resist layer is formed, a laminated resist pattern 110 having a T-shaped section is formed on the patterning film, where the laminated resist pattern 110 includes a lower-layer resist pattern 111 and an upper-layer resist pattern 112 having plane area larger than that of the lower resist pattern 111.例文帳に追加

レジスト層でなるマスクを形成するにあたり、被パターニング膜の上に、下層レジストパターン１１１と、下層レジストパターン１１１の平面積よりも大きい平面積を有する上層レジストパターン１１２とを含む断面Ｔ形状の積層レジストパターン１１０を形成する。 - 特許庁

METHOD FOR DECIDING OXYGEN FEEDING FLOW RATE PATTERN IN CONVERTER DEPHOSPHORIZATION BLOWING例文帳に追加

転炉脱燐吹錬の送酸流量パターン決定方法 - 特許庁

A candidate detection section 12 detects a second abnormal tissue pattern candidate Clc, with which a first abnormal tissue pattern candidate Cmc overlaps, as a final abnormal tissue pattern candidate.例文帳に追加

候補検出部１２は、第１の異常陰影候補Ｃｍｃが重畳される第２の異常陰影候補Ｃｌｃを、最終的な異常陰影候補Ｃｉとして検出する。 - 特許庁

POLYMER, COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

When it is discriminated that the U key 20 is placed in the use position P2, the user set pattern F is read out in a step S36, and photographing is conducted by a function pattern of the user set pattern F in a step S38.例文帳に追加

判断が肯定された場合には、ステップＳ３６でユーザー設定パターンＦを読出し、ステップＳ３８で、ユーザー設定パターンＦの機能パターンで撮影を行う。 - 特許庁

In the user side sewing system 2, it is instructed for pattern editing (S10) and the server side computer 6 performs the editing processing of pattern data (pattern display data and pattern sewing data) concerning the embroidery pattern of the object to be sewed, which are read from the HD 78, based on the instruction (S29).例文帳に追加

ユーザ側縫製システム２で模様編集の指示を行うことができ（Ｓ１０）、サーバ側コンピュータ６では、その指示に基づいて、ＨＤ７８から読出された縫製対象の刺繍模様の模様データ（模様表示データと模様縫製データ）に編集処理（Ｓ２９）が施される。 - 特許庁

To provide a method and a pattern generating apparatus for writing a pattern on a surface of an object that is independent of any physical deformation that will occur upon writing a pattern.例文帳に追加

パターンを書き込む際に生じるあらゆる物理的変形に無関係に、オブジェクトの表面にパターンを書き込むための方法及びパターン生成装置を提供すること。 - 特許庁

This device is provided with a compression means for forming only the change portion from the previous pattern, while paying attention to a test pattern file used for a semiconductor test every pattern vector, to compress the test pattern file, and a memory means for storing the test pattern file compressed by the compression means.例文帳に追加

また、半導体の試験に使用するテストパターンファイルをパターンベクタ毎に着目し、前のパターンベクタからの変更分のみをファイル化して上記テストパターンファイルの圧縮を行う圧縮手段と、該圧縮手段で圧縮されたテストパターンファイルを記憶する記憶手段とを備える。 - 特許庁

Based on the pattern-matched measured pattern and the DIW pattern, correction factors of the first medical liquid, corresponding respectively to a plurality of measurement values, are calculated (step T14).例文帳に追加

パターンマッチングされた後の計測パターンと、ＤＩＷパターンとに基づいて、複数の計測値にそれぞれ対応する第１薬液の補正係数が演算される（ステップＴ１４）。 - 特許庁

Data indicating a mask pattern and a motion pattern are encoded and are multiplexed into one data, whereby a specific effect pattern followed by the deformation of an image is processed into a library.例文帳に追加

マスクパターンと動きパターンを表すデータを符号化し、一本のデータに多重化することにより、画像の変形を伴う特殊効果パターンのライブラリ化を行う。 - 特許庁

To obtain an ideal light distribution pattern by one lamp unit.例文帳に追加

１個のランプユニットで理想の配光パターンを得ること。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND COMPOUND例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁

COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING COLOR FILTER例文帳に追加

パターンの形成方法およびカラーフィルタの製造方法 - 特許庁

To obtain a hole pattern having a round form by dry-etching a film to be etched using a hole pattern formed of a chemical amplification type resist as a mask in order to form the hole pattern.例文帳に追加

化学増幅型レジストによるホールパターンをマスクとしてドライエッチングを行って被エッチング膜によるホールパターンを形成し、丸型のホールパターン形状を得るようにする。 - 特許庁

Furthermore, the setting for the designated ground tint pattern is changed to the monochrome ground tint pattern, so that the printing may be performed in the monochrome mode using the designated ground tint pattern setting.例文帳に追加

さらに、指定された地紋設定をモノクロの地紋設定に変更し、指定された地紋設定を用いてモノクロモードにて印刷処理を行うこととしてもよい。 - 特許庁

A pattern comparison part 6 decides whether the above digital image data are coincident with the image pattern data of a specific original that is previously registered at a pattern registering part 5.例文帳に追加

パターン比較部６は出力する画像のデジタル画像データがパターン登録部５にあらかじめ登録された特殊原稿の画像のパターンデータと一致するか否を判断する。 - 特許庁

To provide a method for uniforming the amount of exposure regardless of the size of pattern width, forming a pattern having at least two kinds of different pattern widths by one exposure, and precisely and efficiently forming a minute pattern in a pattern formation method utilizing near field light.例文帳に追加

近接場光を利用するパターン形成方法において、露光量がパターン幅の大きさに関係なく均一化され、一回の露光で２種以上の異なるパターン幅を有するパターンを形成することができ、微細なパターンを精度良くかつ効率良く形成できる方法を提供する。 - 特許庁

HOT ROLLING METHOD FOR METAL SHEET WITH UNEVEN PATTERN例文帳に追加

凹凸模様を有する金属板の熱間圧延方法 - 特許庁

The kind and the quantity of the aromatic substance to be applied to the pattern are set based either on pattern sewing data to sew the pattern or the intrinsic data indicating the attributes or characteristics of the pattern to be sewn based on the pattern sewing data (S105 and S115).例文帳に追加

そして、模様を縫製するための模様縫製データ及び、その模様縫製データに基づき縫製される模様の属性又は特徴を示す固有データの少なくともいずれかに基づき、模様に付与する芳香剤の種類とその付与量とを設定する（Ｓ１０５，Ｓ１１５）。 - 特許庁

Thus, the image processing unit disregards the tracing pattern part of the image data as to the image data in which the tracing pattern exists and discriminates color or monochromatic data from the part of the image data other than the tracing pattern.例文帳に追加

これにより，追跡パターンの存在する画像データについては，追跡パターンが無視され，追跡パターン以外の部分によりカラーかモノクロかの判定がなされる。 - 特許庁

PHOTORESIST UNDERCOAT-FORMING MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

フォトレジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a pattern-forming apparatus which enables an inexpensive and highly efficient pattern formation and also the formation of a high aspect ratio pattern or the like.例文帳に追加

パターンの形成を低コスト化、高効率化することができ、またアスペクト比の高いパターン等も形成することのできるパターン形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A conductive pattern 12A is printed in lattice shape on a pattern forming substrate 11, and the conductive paste 12A is burnt to form a conductive pattern 12 (Figs. (1) to (3)).例文帳に追加

パターン形成用基板１１上に導電性パターン１２Ａを格子状に印刷し、該導電性ペースト１２Ａを焼成して導電性パターン１２を形成する（図１（１）〜（３））。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD AND RESIST MATERIAL FOR USE THEREIN例文帳に追加

パターン形成方法並びにこれに用いるレジスト材料 - 特許庁

To provide an automatic forming method of a dummy pattern for forming the dummy pattern further effectively by providing two or more kinds of sizes and arrangements of the dummy pattern to be formed automatically.例文帳に追加

自動発生させるダミーパターンのサイズや、配置を２種類以上もうけることで、より効果的にダミーパターンを発生させるダミーパターンの自動発生方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR COMPILING PATCHWORK PATTERN例文帳に追加

パッチワークの図柄編集方法及び図柄編集装置 - 特許庁

FRAME AND DATA PATTERN STRUCTURE FOR MULTICARRIER SYSTEM例文帳に追加

マルチキャリアシステムのための新たなフレーム及びデータパターン構造 - 特許庁