「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(196ページ目) - Weblio英語例文検索

By a pattern forming step, there are formed, on a dielectric substrate 110, a waveguide pattern 120a having a loopback part 123a, a conductor pattern 312 situated on the outer circumference of the loopback part 123a, and a dummy pattern 130a for connecting the loopback part 123a and the conductor pattern 312.例文帳に追加

パターン形成工程によって、折り返し部１２３ａを有する導波路パターン１２０ａと、折り返し部１２３ａの外周側に位置する導体パターン３１２と、折り返し部１２３ａと導体パターン３１２を接続するダミーパターン１３０ａと、を誘電体基板１１０上に形成する。 - 特許庁

Thereafter, the resist film is removed for forming the ring-shaped pattern.例文帳に追加

その後、環状パターン形成用レジスト膜を除去する。 - 特許庁

When a pattern matching part 9 decides that power supply OFF pattern data received by a receiving buffer 7 from the other computer system coincides with self-power supply OFF pattern data of a pattern storing part 8, it generates a pattern data coincidence signal and gives it to a power supply OFF instruction signal generating part 10.例文帳に追加

パターンマッチング部９は、受信バッファ７が他のコンピュータシステムから受けた電源ＯＦＦパターンデータとパターン記憶部８の自己の電源ＯＦＦパターンデータとが一致すると判断した時には、パターンデータ一致信号を発生して電源ＯＦＦ指示信号発生部１０に与える。 - 特許庁

DOME SHAPE INDIRECT ILLUMINATION APPARATUS AND PATTERN IMAGE PICKUP METHOD例文帳に追加

ドーム型間接照明装置及びパターン撮像方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING CORNER MATERIAL WITH RECESSED AND PROJECTED PATTERN例文帳に追加

凹凸模様付コーナー材の製造方法及び装置 - 特許庁

A photoresist material is developed according to a mask pattern.例文帳に追加

マスク・パターンに従ってフォトレジスト材料が現像される。 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

To provide a trace pattern reading device which can read a pattern from image data even in a case that a trace pattern added different information by changing a density, colors, or a shape, and a trace pattern group which can express multi-value information, are added to an original image as a pattern.例文帳に追加

パターンとして、濃度や色や形状を変えることで異なる情報を付加した追跡パターンや、多値情報を表すことのできる追跡パターン群が、原稿画像に付加された場合であっても、画像データからパターンを読み取ることが可能な追跡パターン読取装置を提供する。 - 特許庁

DIRECT VIEWING TYPE STEREOSCOPIC IMAGE DISPLAY APPARATUS CAPABLE OF REMOVING MOIRE PATTERN例文帳に追加

モアレパターンを除去した直視型立体画像ディスプレイ - 特許庁

To provide a resin composition for forming a fine pattern capable of easily manufacturing a fine pattern having excellent line edge roughness with high mass-productivity, and to provide a method for forming a fine pattern.例文帳に追加

ラインエッジラフネスに優れた微細なパターンを簡便かつ高い量産性で製造できる微細パターン形成用の樹脂組成物と微細パターン形成方法の提供。 - 特許庁

COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN例文帳に追加

化合物、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

The pattern forming method is carried out by using a pattern forming material having at least a photosensitive layer on a supporting body, and includes steps of laminating the photosensitive layer on a substrate to be processed, exposing and developing the photosensitive layer to form a resist pattern, and shaping the resist pattern by a dry process on the resist pattern.例文帳に追加

支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、該感光層を露光し、現像してレジストパターンを形成した後、該レジストパターンに対してドライプロセスによりレジストパターン整形工程が行われるパターン形成方法。 - 特許庁

PREPARATION OF PATTERN DATA, AND PRODUCTION OF SOLID ELEMENT例文帳に追加

パタンデータの作成方法および固体素子の製造方法 - 特許庁

RESPIRATORY PATTERN-AMELIORATING APPARATUS BY INSPIRATION SYNCHRONOUS SCENT STIMULATION例文帳に追加

吸息同期香り刺激による呼吸パターン改善装置 - 特許庁

To provide a pattern forming material having improved optical characteristics, and to provide a pattern forming apparatus and forming method which enable distortion of an image provided on the pattern forming material to be suppressed and a permanent pattern free from defects, such as a wiring pattern to be efficiently formed with high definition.例文帳に追加

光学特性を改善したパターン形成材料を提供し、該パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、欠陥のない配線パターン等の永久パターンを高精細に、効率よく形成可能なパターン形成装置及び形成方法の提供。 - 特許庁

The variation pattern of the whole variable presentation corresponding to a variable display of a special symbol is constituted by a combination of a first variation pattern and a second variation pattern.例文帳に追加

特別図柄の変動表示に対応する変動演出全体の変動パターンは、第１変動パターンと第２変動パターンとの組み合わせを構成要素とする。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

導電パターン形成装置と導電パターン形成方法 - 特許庁

When receiving the variation pattern command and the slip command, the pattern controller 152 performs the slip variation control on the basis of the received variation pattern command and slip command.例文帳に追加

図柄制御装置１５２は、変動パターンコマンドおよびスベリコマンドを受信したときは、受信した変動パターンコマンドおよびスベリコマンドに基づいてスベリ変動制御を行う。 - 特許庁

A radiated beam is supplied by an illuminating source 124, pattern for patternizing the radiated beam is formed by using pattern data with a pattern generator 104.例文帳に追加

照明源１２４によって放射のビームが供給され、パターン発生器１０４によって、放射のビームをパターン化するためのパターンがパターン・データを使用して形成される。 - 特許庁

A measuring optical member 23 comprises a plurality of measuring pattern units 43A, 43B, and 43C having a pattern forming area 44 in which a measuring pattern 46 is formed and non-pattern forming area 45a, 45b, and 45c disposed at positions different from the pattern forming area 44.例文帳に追加

計測用光学部材２３は、計測用パターン４６が形成されるパターン形成領域４４及び該パターン形成領域４４とは異なる位置に配置される非パターン形成領域４５ａ，４５ｂ，４５ｃを有する複数の計測用パターンユニット４３Ａ，４３Ｂ，４３Ｃを備えている。 - 特許庁

To provide an image sensor IC whose pattern noise is small.例文帳に追加

固定パターンノイズの小さいイメージセンサーＩＣの提供。 - 特許庁

In the mask pattern correction system, respective regions according to materials or processes are extracted by a region extracting unit 22a from mask pattern data preliminarily stored in a pattern data storing unit 21, adjacent pattern distances including other materials of the mask pattern are calculated in the extracted regions by a control unit 20.例文帳に追加

予めパターンデータ格納部２１に格納されたマスクパターンデータから、領域抽出部２２ａ、…により材料または加工プロセス別にそれぞれの領域が抽出され、抽出された複数の領域にて、マスクパターンの他材料を含めた隣接パターン距離が制御部２０内で算出される。 - 特許庁

A light source outputs light to the color pattern.例文帳に追加

光源が、前記カラーパターンに対して光を出力する。 - 特許庁

To stably form a resist pattern with high resolution.例文帳に追加

高い解像度で安定的にレジストパターンを形成する。 - 特許庁

After the silicon nitride film 23 is etched by using the resist pattern 24 as a mask so as to form a silicon nitride pattern 25, the Al alloy film 22 is ecthed while using the resist pattern 24 and silicon nitride pattern 25 as a mask, so as to form a wiring layer 26 made of Al alloy, and the resist pattern 24 is removed.例文帳に追加

レジストパターン２４をマスクとして窒化シリコン膜２３をエッチングして窒化シリコンパターン２５を形成した後、レジストパターン２４および窒化シリコンパターン２５をマスクとしてＡｌ合金膜２２をエッチングしてＡｌ合金の配線層２６を形成した後、レジストパターン２４を除去する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PATTERN INSPECTION, AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体 - 特許庁

The transfer pattern formed in the magnetic recording medium 47 is evaluated by a transfer accuracy evaluating apparatus 95, the prescribed magnetic pattern (target pattern) based on the magnetic information is compared with a transfer pattern (result pattern) formed actually in the magnetic recording medium 63, and information of transfer error quantity is obtained.例文帳に追加

磁気記録媒体６７に形成された転写パターンを転写精度評価装置９５で評価し、磁気情報に基づいた所定の磁気パターン（目標パターン）と、実際に磁気記録媒体６３上に形成された転写パターン（結果パターン）とを比較して、転写誤差量の情報を得る。 - 特許庁

SWITCHING PATTERN FOR CIRCUIT CONNECTION ON PRINTED BOARD例文帳に追加

プリント基板における回路接続切換え用パターン形状 - 特許庁

EQUIPMENT AND METHOD FOR FORMING MINUTE PATTERN例文帳に追加

精細パターン形成装置及び精細パターン形成方法 - 特許庁

An opening 31 is provided in the second conductive pattern 9 and the inter-layer insulating film 5 in a position of overlap between the second conductive pattern 9 and the first conductive pattern 3.例文帳に追加

第２導電パターン９と第１導電パターン３とが重なる位置には、第２導電パターン９および層間絶縁膜５に開口部３１が設けられている。 - 特許庁

CHARACTERISTIC EXTRACTION APPARATUS FOR UNEVEN PATTERN AND METHOD THEREOF例文帳に追加

凹凸パターンの特徴抽出装置及びその方法 - 特許庁

Then, a third pattern is formed if it is needed.例文帳に追加

以後に必要に応じて第三のパターンを形成する。 - 特許庁

MAGNETIC RECORDING AND REPRODUCING DEVICE AND METHOD FOR FORMING RECORDING PATTERN例文帳に追加

磁気記録再生装置及び、記録パターン形成方法 - 特許庁

MATERIAL FOR RESIST LOWER LAYER FILM AND METHOD OF FORMING PATTERN例文帳に追加

レジスト下層膜材料ならびにパターン形成方法 - 特許庁

RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING PATTERN DIMENSION例文帳に追加

パターン寸法測定方法、及びパターン寸法測定装置 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感光性フィルム及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN MADE OF ITS BAKED PRODUCT例文帳に追加

感光性組成物、及びその焼成物からなるパターン - 特許庁

To provide a method of forming a three-dimensional micro pattern or a multi-step pattern using a nano imprint process, and to provide a method of manufacturing a mold for forming such a pattern.例文帳に追加

ナノインプリント工程を用いて３次元微細パターンや多段パターンを成形する方法とこのようなパターンを成形するためのモールドの製作方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a pattern inclination (falling) in resist patterns.例文帳に追加

レジストパターンにパターン倒れが発生しないようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by which a pattern can be formed with high definition by homogenizing influences of fluctuation in luminous energy of exposure light due to pattern distortion so as to decrease variance in resolution or density irregularity of a pattern, and a desired pattern having different thicknesses can be formed with high definition.例文帳に追加

パターン歪みによる露光量のばらつきの影響を均し、パターンの解像度のばらつきや濃度のむらを軽減することにより、前記パターンを高精細に形成可能であり、かつ、厚みが異なる所望のパターンを高精細に形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

IMAGE FORMATION METHOD, IMAGE FORMATION DEVICE, AND IMAGE PATTERN例文帳に追加

画像形成方法、画像形成装置および画像パターン - 特許庁

WIRING PATTERN, ELECTRIC ELEMENT, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE例文帳に追加

配線パターン及び電気素子並びに液晶表示装置 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a black resist suitable for a thick film having good pattern dimensional stability, development margin, pattern adhesion and sharpness of pattern edge shape.例文帳に追加

パターン寸法安定性、現像マージン、パターン密着性、パターンのエッジ形状のシャープ性が良好な厚膜に適したブラックレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A circuit board covers the mounted circuit element 5 with the resin mold 7 after mounting the circuit element 5 on a substrate 1, flattens the circuit pattern formation face of the resin mold 7, and forms the circuit pattern 8 such as a wiring pattern and a passive element pattern of an ink jet printing device on the circuit pattern formation face.例文帳に追加

基板１上に回路素子５を実装した後に、実装した回路素子５を樹脂モールド７で覆い、この樹脂モールド７の回路パターン形成面を平坦面として、この回路パターン形成面にインクジェット印刷装置で配線パターン、受動素子パターン等の回路パターン８を形成する。 - 特許庁