「pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(195ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD AND MOLD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

レジストパターン形成方法およびレジストパターン形成用モールド - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR FORMING WOOD GRAIN PATTERN例文帳に追加

木目模様生成方法および木目模様生成システム - 特許庁

To keep amusement in a pattern change itself, i.e., the prediction of the pattern change by having a function for obtaining variations in the pattern change owing to change through the use of a pattern group which is arranged in a matrix shape and also for relieving load and time in correspondence to things other than the pattern change.例文帳に追加

マトリクス状に配列された図柄群を用いて変動することで図柄変動のバリエーションを増やすことができると共に、図柄変動以外の対応に手間取ることを防止する機能を持たせることで、図柄変動の予測という図柄変動自体の趣向性を維持する。 - 特許庁

To carry out pattern exposure accurate to the objective pattern without depending on the characteristics of optical units in a pattern exposure apparatus equipped with a plurality of optical units.例文帳に追加

複数の光学ユニットが備えられているパターン露光装置において、各光学ユニットの特性に関係なく、目標とするパターンに忠実なパターンを露光する。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR PATTERN SHAPE INSPECTION例文帳に追加

パターン形状検査装置及びパターン形状検査方法 - 特許庁

EXPANDED METAL WITH IRREGULAR PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

凹凸模様付きエキスパンデッドメタル及びその製造方法 - 特許庁

LIQUID JET DEVICE AND METHOD FOR FORMING ESTIMATION PATTERN例文帳に追加

液体吐出装置、及び、評価用パターン形成方法 - 特許庁

Dummy patterns 4 are arranged on a membrane film 1 except an exposure region 7, and the pattern rule and pattern density of the dummy patterns 4 is practically made equal to the pattern rule and pattern density of an X-ray absorber pattern 3 which is provided on the membrane film 1 in the exposure region 7.例文帳に追加

露光領域７以外のメンブレン膜１上にダミーパターン４を配置するととも、このダミーパターン４のパターンルール及びパターン密度を露光領域７のメンブレン膜１上に設けたＸ線吸収体パターン３のパターンルール及びパターン密度と実効的に等しくする。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus that efficiently and highly accurately detects a defective pattern included in an image such as an SEM image by using a reference pattern.例文帳に追加

ＳＥＭ画像等の画像中に含まれる欠陥パターンを基準パターンを利用して効率的かつ高精度に検出することを可能にするパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

WIRING PATTERN FOR REDUCING RADIATION NOISE OF PRINTED- CIRCUIT BOARD例文帳に追加

プリント回路基板の放射ノイズ低減用配線パターン - 特許庁

The photomask 21 for negative exposure includes an objective pattern 24 and a dummy pattern 25, wherein the objective pattern 24 comprises openings 22 and light shielding portions 23, and the dummy pattern 25 is disposed in such a way that it comes in contact with at least one side of the objective pattern 24.例文帳に追加

目的とするパターン２４とダミーパターン２５とを含むネガ露光用フォトマスク２１であって、目的とするパターン２４が開口部２２と遮光部２３からなり、該目的とするパターン２４の少なくとも１つの辺に接するようにダミーパターン２５を配置したネガ露光用フォトマスク２１である。 - 特許庁

A variation pattern determination means determines as an ultra-short variation pattern a variation pattern for performing variation display of symbols next when symbols are stop displayed in the preparation symbol.例文帳に追加

変動パターン決定手段は、準備目にて図柄が停止表示された場合、次に図柄を変動表示させるための変動パターンを超短縮変動パターンに決定する。 - 特許庁

Consequently, a pattern having a uniform line width is obtained.例文帳に追加

このため線幅が均一なパターンを得ることができる。 - 特許庁

PATTERN MATCHING GAME MACHINE, AND METHOD AND PROGRAM FOR NOTIFICATION例文帳に追加

図柄合わせ遊技機並びに報知方法及びプログラム - 特許庁

The wiring pattern 47 can be easily connected.例文帳に追加

配線パターン４７は簡単に接続されることができる。 - 特許庁

MEASURING METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING DEPTH OF GROOVE PATTERN例文帳に追加

溝パターンの深さの測定方法および測定装置 - 特許庁

PROGRAM AND METHOD FOR GENERATING WIRING PATTERN例文帳に追加

配線パターン発生用プログラム、配線パターン発生方法 - 特許庁

A sealer layer 3 and a pattern layer 4 or the like can be present.例文帳に追加

シーラー層３、絵柄層４等が更に有っても良い。 - 特許庁

Afterward, the positive photoresis 7 is developed to form a pattern.例文帳に追加

この後、ポジ型フォトレジスト７を現像してパターニングする。 - 特許庁

This pattern is also used for the measurement of increment.例文帳に追加

このパターンは増分の測定のためにも使用される。 - 特許庁

When the elapsed time reaches the target elapsed time value, the variation pattern determination means 115 finishes the reference of the special pattern selection table referred at present and sets the pattern selection table to be referred when determining the variation pattern this time or later, to another pattern selection table.例文帳に追加

変動パターン決定手段１１５は、経過時間が目標経過時間値に到達した場合に、今回以降で変動パターンを決定するときに参照すべきパターン選択テーブルを現在参照中の特殊パターン選択テーブルの参照を終了し他のパターン選択テーブルに設定する。 - 特許庁

During a usual game, depending on the total entered number of game balls memorized, a variation pattern for varyingly displaying the first special pattern and the second special pattern is determined.例文帳に追加

通常遊技中は、記憶されている遊技球の全入球個数に応じて、第１特別図柄と第２特別図柄を変動表示させる変動パターンを決定する。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL ELEMENT, AND THIN-FILM PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

光学素子の製造方法、および薄膜パターン基板 - 特許庁

When an abnormality exists in a variable pattern indicating command and a pattern indicating command outputted from the main CPU, a sub-CPU displays letters of 'error' on a special pattern display 32b after receiving a pattern indicating command and a mark '?' after receiving an all pattern stop command.例文帳に追加

サブＣＰＵは、メインＣＰＵから出力された変動パターン指定コマンドおよび図柄指定コマンドに異常がある場合は、図柄指定コマンドを受信後に特別図柄表示器３２ｂに「エラー」の文字を表示し、全図柄停止コマンドを受信したときに全図柄は「？」を表示する。 - 特許庁

A level value of each sample in the pattern is varied.例文帳に追加

パターン内にあるそれぞれのサンプルのレベル値が変化する。 - 特許庁

When the pattern comparison part 116 determines that the received client attestation pattern roughly matches with the access point attestation pattern, a transmitting and receiving instruction part 120 gives an instruction of transmitting a preliminarily-stored common key to the client 200.例文帳に追加

送信指示部１２０は、認証パターンが略一致すると判定された場合、予め記憶されている共通鍵をクライアント２００に送信するよう指示する。 - 特許庁

The pattern body engaged so as to be freely ascended/descended with a pattern hole opened on the surface of a pattern plate fixed to a carrier plate, is energized to the descending position with an elastic member.例文帳に追加

キャリアプレートに固定された模型定盤の盤面に開口する模型穴に昇降可能に嵌合された模型体は弾機部材により下降位置に付勢される。 - 特許庁

A three-dimensional image processing part causes a series of picture images to be displayed in order according to a pattern of action randomly selected by lottery by a counter of a CPU from four patterns of action stored in a work RAM 23: a running pattern 71; an eating pattern 72; an overlooking pattern 73; and a turnabout pattern 74.例文帳に追加

３次元画像処理部は、ワークＲＡＭ２３に記憶されている、走るパターン７１、食べるパターン７２、見渡すパターン７３、および振り向くパターン７４の４つの動作パターンのうち、ＣＰＵのカウンタによってランダムに抽選された動作パターンに応じて一連の絵柄画像を順に表示させる。 - 特許庁

To more accurately control dimensions of a light-shielding film pattern.例文帳に追加

遮光膜パターンの寸法制御をより正確に行う。 - 特許庁

To provide a coating agent for making a pattern finer that can cope with demands for making a pattern further finer in recent years, and a method for forming a fine pattern using the coating agent.例文帳に追加

近年のパターンの更なる微細化要求に対応しうるパターン微細化用被覆剤及びこれを用いた微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for verifying mask pattern correction and an apparatus for verifying the result of pattern correction, by which the processing efficiency for verifying the result of mask pattern correction can be improved.例文帳に追加

マスクパターン補正結果検証の処理効率向上を図ることが可能なマスクパターン補正検証方法およびマスクパターン補正結果検証装置を提供する。 - 特許庁

At least one part of the 1st patterns 53 and 55 and at least one part of the 2nd pattern 54 are a common pattern, and the common pattern 44 and non-common patterns 45a and 45b different from the common pattern 44 are formed as the 1st patterns 53 and 55 and the 2nd pattern 54 on the mask M.例文帳に追加

第１パターン５３，５５の少なくとも一部と第２パターン５４の少なくとも一部とは共通のパターンであり、マスクＭに、第１パターン５３，５５と第２パターン５４として、共通パターン４４と共通パターン４４とは異なる非共通パターン４５ａ，４５ｂとを形成する。 - 特許庁

A film particle basic pattern 86 in which histogram of random noise is regarded as almost the same as film particle basic pattern information 53 is generated by a basic pattern generator 81.例文帳に追加

基本パターン生成装置８１によって、ランダムノイズのヒストグラムがフィルム粒子基本パターン情報５３とほぼ同一とされたフィルム粒子基本パターン８６が生成される。 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a mask for forming resist pattern which is hardly deformed by heat, a resist pattern which is hardly deformed by heat, and a method of forming the resist pattern.例文帳に追加

熱により変形が生じにくいレジストパターンを形成するためのマスク及び熱により変形が生じにくいレジストパターン並びにレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A moving pattern estimating section 52 stores a moving pattern into a moving pattern table 57 in association with a state estimation success probability, on the basis of the history of the moving state.例文帳に追加

移動パターン推定部５２は、移動状況の履歴に基づいて、移動パターンを状況推定成功確率と対応付けて移動パターンテーブル５７に記憶させる。 - 特許庁

IMAGE RECORDING APPARATUS, METHOD FOR PRODUCING TEST PATTERN, AND PROGRAM例文帳に追加

画像記録装置、検査パターン生成方法及びプログラム - 特許庁

To provide a method for inspecting a pattern highly accurately measuring a positional relationship between upper and lower layers even when a lower-layer pattern cannot be determined from the top of an upper-surface pattern.例文帳に追加

下層パターンを上面パターン上から判別できない場合であっても、上下層の位置関係を高精度に測定可能なパターン検査方法を提供すること。 - 特許庁

PATTERN MANUFACTURING METHOD FOR ELECTRIC INSULATING FILM AND ELECTRONIC DEVICE例文帳に追加

電気絶縁膜のパターン製造方法および電子デバイス - 特許庁

A second pattern P12 provided near the first pattern P11 is arranged to have roughness at least between those each other or in a positional relation to the first pattern P11.例文帳に追加

第１パターンＰ１１近傍に設けられた第２パターンＰ１２は、少なくとも相互間または第１パターンＰ１１との位置関係に疎及び密を有するように配してある。 - 特許庁

In this case, since a previous notice is performed while using the character picture pattern Zm harmonized with the background, the eyes of a player are turned toward the character picture pattern Zm for searching the character picture pattern Zm.例文帳に追加

この場合、背景に溶け込んだキャラクタ図柄Ｚｍを用いて予告を行ったので、遊技者の目がキャラクタ図柄Ｚｍを探そうとしてキャラクタ図柄Ｚｍに向く。 - 特許庁

On a second mask, a main pattern corresponding to a circuit and a sub-pattern receiving the influence of the aberration the same as that of the main pattern at the time of exposure are formed.例文帳に追加

第２のマスクに、回路部に対応の主パターンと、露光時に主パターンが受ける収差と同じ収差の影響を受けるサイズを有する副パターンとが形成されている。 - 特許庁

A metal pattern 15 is arranged on the other surface of the glass substrate 11, and the optical propagation pattern 13 of almost a similar shape as the metal pattern 15 is arranged in the clad layer 12.例文帳に追加

ガラス基板１１の他方の平面上にはメタルパターン１５が設けられ、クラッド層１２内に、このメタルパターン１５と略同形状の光伝搬パターン１３が設けられる。 - 特許庁

EXPOSING, COATING AND DEVELOPING DEVICE, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

露光塗布現像装置およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

MIXED SIGNAL LSI TESTER AND METHOD OF GENERATING TEST PATTERN例文帳に追加

ミックスドシグナルＬＳＩテスタおよびテストパターン生成方法 - 特許庁