「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which reduces time and effort required for design of a mask used for patterning an etching target layer.例文帳に追加

エッチング対象層をパターニングするためのマスクの設計にかかる手間を軽減することができる、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser patterning apparatus for processing a workpiece with high precision, and to provide a black matrix forming method using the same.例文帳に追加

被加工物に対して高精度に加工を行うことができるレーザパターニング装置及びこれを用いたブラックマトリクス形成方法を提供する。 - 特許庁

Upon patterning by use of a charged particle beam, occurrence of drawing abnormality in a resist on the resin layer can be suppressed.例文帳に追加

このため、荷電粒子線を用いてパターニングを行うとき、樹脂層上のレジストに描画異常が発生することを抑制することが出来る。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition having high sensitivity and achieving patterning free from scum, and a semiconductor device, etc., obtained by using the same.例文帳に追加

高感度で、スカムが無くパターニングできるポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置等を提供するものである。 - 特許庁

The system inspecting patterning structures formed on semiconductor wafers using an optical measurement model includes a first manufacturing system measurement processor.例文帳に追加

光計測モデルを用いて半導体ウエハ上に形成されたパターニングされた構造を検査する装置は第１製造システム計測プロセッサを有する。 - 特許庁

The sheet is brought to a close contact with the surface of a semiconductor wafer 13 that has been covered by photoresist 12, and patterning takes place by irradiation it with a light 14.例文帳に追加

これをフォトレジスト１２で覆われた半導体ウェハ１３の表面で密着させ、光１４を照射することによりパターニングを行なう。 - 特許庁

A 3rd patterning process is performed to form a thin-film transistor 1, a scanning line 2, a data line 4, a terminal contact 4, and a pixel electrode 5.例文帳に追加

第３パターン化プロセスが実行されて薄膜トランジスタ１、走査線２、データ線３、ターミナルコンタクト４及び画素電極５が形成される。 - 特許庁

Next, by patterning the metallic film 23 covered with the nitride film 30, an upper electrode 15 to be laminated on the structural body 14 is formed.例文帳に追加

次いで、窒化膜３０で覆われた金属膜２３をパターニングすることで、構造体１４上に積層される上部電極１５を形成する。 - 特許庁

In another way of patterning, the stage 5 is periodically moved to shift the irradiation position and the fine pattern is formed on the surface of the substrate by laser beam machining.例文帳に追加

また、ステージ５の周期的移動により照射位置を変え、レーザ加工により基板表面に微細形状を形成することもできる。 - 特許庁

To manufacture a flexible liquid crystal display panel provided with flexible substrates composed of such an organic material as plastic with excellent patterning precision and at a low cost.例文帳に追加

プラスチック等の有機材料からなるフレキシブル基板を有するフレキシブル液晶表示パネルを、パターン精度良く、且つ低コストで製造する。 - 特許庁

In the method for patterning a semiconductor element, a fine pattern is formed according to a BLR (bi-layer resist) process using the negative resist composition.例文帳に追加

本発明の半導体素子のパターン形成方法では、ネガティブ型レジスト組成物を使用してＢＬＲ工程によって微細パターンを形成する。 - 特許庁

The controller is arranged to drive the optical element so as to at least partly compensate for a magnification resulting from a bending of the patterning device.例文帳に追加

コントローラは、パターニングデバイスの曲げから生じる拡大を少なくとも部分的に補償するように光学素子を駆動するように構成される。 - 特許庁

To provide a touch panel to be used for various pieces of electronic equipment for achieving fine patterning or size reduction and also various operations.例文帳に追加

各種電子機器に用いられるタッチパネルに関し、ファインパターン化や小型化が図れ、多様な操作が可能なものを提供することを目的とする。 - 特許庁

A polarization filter 16 is formed by patterning a polarization material deposited on the protective film 13, to determine the direction of polarizing the incident light.例文帳に追加

偏光フィルタ１６は保護膜１３の上に堆積した偏光材料をパターニングして形成され、入射光の偏光方向を定める。 - 特許庁

A metal layer 2 and a first resist layer 3 are laminated in this order on one surface of a transparent substrate 1, and patterning of the first resist layer 3 is performed.例文帳に追加

透明基板１の一方側表面に金属層２と第１レジスト層３とをその順に積層し、第１レジスト層３をパターニングする。 - 特許庁

The back drum 1 for the rubber pattern buttresses the rubber part 3 by sealing the former to the latter with a patterning surface X fashioned after the tread pattern of the tire.例文帳に追加

タイヤのトレッドパターンを型取りした型取り面Ｘを有するゴム部３に固着されて、ゴム部３を補強するゴム型用裏胴１である。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus and method that enable accurate positional measurement and/or movement of a large work piece during patterning of the work piece.例文帳に追加

パターン形成中に、大きい被加工物の正確な位置測定及び／又は移動を可能にするリソグラフィ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A resist 106 is developed to form the resist pattern, and by using the resist pattern as a mask, an absorbing layer 105 and a buffer film 104 are subjected to patterning.例文帳に追加

レジスト１０６を現像してレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして吸収層１０５と緩衝膜１０４をパターニングする。 - 特許庁

In the first or second resist patterning step conducted at first, insolubilization treatment of resist exhibiting tolerance in the following lithography processing is performed.例文帳に追加

そして、先に行う第１または第２のレジストパターン形成工程では、後のリソグラフィ処理で耐性を有するレジストの不溶化処理が行われる。 - 特許庁

To provide a new method of manufacturing an optical waveguide structure, which eliminates the need of removing a remaining film of a resist layer used for core patterning.例文帳に追加

コアパターニングのために使用したレジスト層残膜を除去する必要がない新しい光導波路構造の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The thick film resistor 12 is manufactured by patterning the resistor paste in a desired shape and vaporizing the powder by sintering the paste.例文帳に追加

この抵抗体ペーストを所望の形状にパターニングし、焼結して上述の粉体を気化させて厚膜抵抗体１２が製造される。 - 特許庁

To provide a material for an organic EL element and its manufacturing method, and the organic EL element using them, in which fine patterning is possible.例文帳に追加

微細なパターニングが可能な有機ＥＬ素子用材料およびその製造方法、ならびにそれらを用いた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

Finally, wiring is respectively formed on both surfaces of the film substrate 21 by patterning the copper foil 31 and 34 and plated layers for forming wiring.例文帳に追加

次に、両銅箔３１、３４および両配線形成用めっき層をパターニングして、フィルム基板２１の両面にそれぞれ配線を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate placing stage wherein pins overlap on a cut scheduled line when supporting a large sized substrate where a plurality of substrates are subjected to multiple patterning.例文帳に追加

複数の基板を多面取りする大型基板を支持する際に、裁断予定線にピンが重なるようにした基板載置ステージを提供する。 - 特許庁

A conductive pad is manufactured in a roll-to-roll environment based on a plastic web in accordance with an improved waffle structure or patterning.例文帳に追加

改善されたワッフル構造あるいはパターニングに従って、プラスチックウェブをベースとするロール・ツー・ロール環境において導電性パッドが製造される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing multilayer circuit board which has a high adhesion of an electric insulation layer and a conductor layer and is superior in patterning formability.例文帳に追加

電気絶縁層と導電体層との密着性が高く、且つパターニング性に優れた多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The SAP is included in a mask layout for efficient self-alignment of various sub-layouts of a target pattern in a multi-patterning lithography process.例文帳に追加

ＳＡＰは、マルチパターニングリソグラフィ工程中のターゲットパターンの様々なサブレイアウトの効率的なセルフアライメントのためにマスクレイアウト内に含まれる。 - 特許庁

In a processing chamber, patterning of a processed film is performed, by etching the uncovered region of the processed film with an etching mask.例文帳に追加

処理室内において、被処理膜のうち、エッチングマスクによって覆われていない領域をエッチングすることにより、被処理膜のパターニングを行なう。 - 特許庁

A resist film 16 is formed on a polysilicon film 15 and subjected to exposure/development thus patterning the resist film 16.例文帳に追加

ポリシリコン膜１５上にレジスト膜１６を形成した後、このレジスト膜１６に対して露光・現像することにより、レジスト膜１６をパターニングする。 - 特許庁

To provide a new compound containing an unsaturated group, exhibiting excellent patterning characteristics even at a low light exposure and giving a color filter having high hardness.例文帳に追加

少ない露光量でもパターニング特性が優れ、硬度の高いカラーフィルタを得ることのできる、新規な不飽和基含有化合物を提供する。 - 特許庁

The method involves providing a mixture of carbon nanotubes that is substantially disaggregated and patterning carbon nanotubes through the use of electrostatic force.例文帳に追加

本方法は実質的に分離したカーボンナノチューブの混合物を用意すること及び静電気力でカーボンナノチューブをパターニングすることを含む。 - 特許庁

A second mask pattern is formed by patterning the photoresist film 5, and a part of the photoresist film 5 is left on the thin film part 3a.例文帳に追加

このフォトレジスト膜５をパターニングすることにより第２マスクパターンを形成するとともに、薄膜部３ａ上にフォトレジスト膜５の一部を残す。 - 特許庁

Since the patterning of the ITO is already carried out, in other words, the positive electrode interconnection 1 is already formed, the corners of the positive electrode interconnection 1 is also polished.例文帳に追加

ＩＴＯは既にパターニングされているので、すなわち陽極配線１が形成されているので、陽極配線１の角部も研磨される。 - 特許庁

Patterning is applied on the fluid channel resin layer 11 in order to partially expose the upper face of the device substrate 1 and a fluid channel forming member 15 to be a nozzle member is formed so as to cover the fluid channel resin layer 11.例文帳に追加

次いで、マスク部材１２をマスクとして、流路樹脂層１１を上面側からドライエッチングして部分的に薄膜化する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which prevents the corrosion of a metal wiring during an ITO (indium tin oxide) wet etching process and conducts in-plane uniform patterning of ITO.例文帳に追加

ＩＴＯウエットエッチング処理時の金属配線腐食を防止し、かつ面内均一なＩＴＯパターニングを行う製造方法を提供する。 - 特許庁

Subsequently, openings 142 and 144 for exposing the printing face side of the screen mesh 134 are formed in the film 146 by patterning the film 146.例文帳に追加

続いて、膜１４６をパターニングしてスクリーンメッシュ１３４の印刷面側を露出させる開口１４２，１４４を膜１４６に形成する。 - 特許庁

Thus, when the body 20 is to be formed, complex processes for patterning or bonding the conductive layers 21, 23, 25, 27 are unnecessary.例文帳に追加

そのため、本体２０を形成する場合、例えば導電層２１、２３、２５、２７のパターニングあるいは接着などの複雑な工程を必要としない。 - 特許庁

The time until start of the second patterning from the end of the flat film forming process is controlled to be constant among the wafers.例文帳に追加

このときの平坦化膜の形成処理の終了から２回目のパターニングの開始までの時間がウェハ間で一定になるように管理される。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of inexpensively forming pixel gaps each of which has a size less than the limit of patterning based on photolithography.例文帳に追加

低コストでフォトリソグラフィによるパターニングの限界以下の寸法の画素間隙を形成することができる液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

The patterning of a first pattern is carried out on a layer composed of a photosensitive member prepared on a processed substrate 1 sandwiching a processed layer 2 and a mask layer.例文帳に追加

被処理基板１上に被加工層２およびマスク層を挟んで設けられた感光性部材からなる層に第１のパターンをパターニングする。 - 特許庁

To provide a nonvolatile memory which can prevent a short circuit between a contact plug and a ferroelectric capacitor on a cell transistor, even in fine patterning.例文帳に追加

微細化しても、セルトランジスタ上のコンタクトブラグと強誘電体キャパシタとの間の短絡を防止できる不揮発性記憶装置を提供する。 - 特許庁

To make it possible to stably manufacture by suppressing patterning failures due to the breakage of an etching protect film.例文帳に追加

エッチング保護膜破壊によるパターニング不良の発生を抑制し、安定生産可能なインクジェット記録ヘッドおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method comprises the step of supplying a cleaning plasma for removing the coating material from the patterning device by means of a plasma etching process.例文帳に追加

この方法は、パターニングデバイスからコーティング材料をプラズマエッチング処理により除去するための洗浄プラズマを供給する工程を含む。 - 特許庁

The patterning method on the semiconductor element may include a two-stage spacer formation step in order to provide ultra-fine line width and interval.例文帳に追加

半導体素子上のパターン形成方法は、微細ライン幅及び間隔を提供するために２段階のスペーサ形成工程を含むことができる。 - 特許庁

A dry etching method is to apply patterning to a stack including the element which does not form the volatile compound, using the conventional reactive-ion etching.例文帳に追加

本発明は、従来の反応性イオンエッチングを用いて、揮発性の化合物を形成しない元素を含むスタックをパターニングする方法に関する。 - 特許庁