「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a formation method for patterning a positive photosensitive resin film so that the positive photosensitive resin film does not remain in openings.例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂膜が開口部に残留しないようにポジ型感光性樹脂膜をパターニングさせるための形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a single side lamination wiring board exhibiting excellent patterning precision with a high yield.例文帳に追加

パターン形成精度に優れた片面積層配線基板を高い歩留まりで製造することができる片面積層配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask for patterning an organic electroluminescence display device which can satisfactorily form a desired shape pattern, and its usage.例文帳に追加

目的とする形状のパターンを良好に形成することができる有機エレクトロルミネッセンス表示装置のパターニング用マスクおよびその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nanowire arrangement substrate simple and excellent in patterning property by improving joining force of a nanowire to a substrate.例文帳に追加

基板に対するナノワイヤの結合力を向上させることができ、簡便でパターンニング性に優れたナノワイヤ配列基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type photosensitive composition, which can form a silicon-containing thick resist film, superior in dry etching resistance in which a crack is hardly generated when the patterning is performed.例文帳に追加

ドライエッチング耐性に優れ、パターンニングの際にクラックが入りにくいケイ素含有レジスト厚膜を形成し得るネガ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

Due to the nondoped polisilicon film, a selective oxide film 7 formed upon selective oxidation after gate electrode patterning can be made thin with a small bird's beak.例文帳に追加

ノンドープポリシリコンとすることで、ゲート電極パターニング後の選択酸化時に形成される選択酸化膜を薄く、バーズビークを小さくすることができる。 - 特許庁

The patterning device forms the thin film in a predetermined shape constituting a portion of a thin film solar cell by removing a portion of the thin film with the tool 30.例文帳に追加

パターニング装置は、薄膜の一部をツール３０によって除去することにより、薄膜太陽電池の一部をなす所定形状の薄膜を形成する。 - 特許庁

To obtain a method and a device for manufacturing a photovoltaic device, performing fine laser patterning on an etching resistant film by means of a laser beam having a large focused spot size.例文帳に追加

集光スポットサイズの大きいレーザビームで耐エッチング膜に微細なレーザパターニングを行う光起電力装置の製造方法及び製造装置を得ること。 - 特許庁

To provide a patterning device efficiently forming a thin film of high formation precision, and to provide a thin film-removing tool suitably used for the device.例文帳に追加

高い形成精度の薄膜を効率良く形成することのできるパターニング装置、および同装置に用いて好適な薄膜除去工具を提供する。 - 特許庁

To provide a laser patterning apparatus, wherein time loss during movement of a substrate is reduced to improve TAT (Turn Around Time) and defective machining due to focus deviation is reduced.例文帳に追加

レーザパターニング装置において、基板移動中の時間ロスを低減してＴＡＴを向上させるとともに、フォーカスずれによる加工不良を低減する。 - 特許庁

A patterning device includes a pair of supporting parts 1 disposed at a predetermined interval, a guide bar 2, a processing head 3, a roller stage 4 and a conveying mechanism 5.例文帳に追加

このパターニング装置は、所定の間隔をあけて配置された１対の支持部１と、ガイドバー２と、加工ヘッド３と、ローラステージ４と、搬送機構５と、を備えている。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board favorably producing a wiring board with a cut-off part and a notch for alignment formed in a corner part.例文帳に追加

角部に切取り部や位置合わせを行なうための切欠きを有する配線基板を良好に作製できる多数個取り配線基板を提供する。 - 特許庁

To enable a dye-sensitized solar cell of not bad design to be freely equipped with a collecting electrode, and to be equipped with fine patterning industrially and inexpensively.例文帳に追加

意匠性を備えた色素増感太陽電池が、集電用電極を自由に設けられ、工業的に安価で、微細なパターニングを備えるようにする。 - 特許庁

Patterning the interfaces is controlled to direct more light into the ambient without requiring multiple reflection in the device in order to extract the light.例文帳に追加

界面のパターン形成は、光の抽出のために素子内部における多重反射をしないで、より多くの光を外部に送り込めるように制御される。 - 特許庁

A method for patterning a wafer using a phase shifting photolithography that can produce a critical symmetrical 2-dimensional structure such as a magnetic write pole of a magnetic write head.例文帳に追加

磁気書き込みヘッドの書き込み磁極等の重要な対称２次元構造を生産できる、位相シフト光リソグラフィを使用するウェハのパターニング方法。 - 特許庁

To carry out a partial deposition of a desired material at a desired position on a substrate at a high precision so as to repair patterning in an organic EL element or the like.例文帳に追加

有機ＥＬ素子などにおけるパターニングの修正のために、基板上の所望の位置に、所望の材料を高精度に局所成膜すること。 - 特許庁

The resulting coating materials can be designed for patterning with a selected radiation, such as ultraviolet light, x-ray radiation or electron beam radiation.例文帳に追加

得られるコーティング材は、紫外線、Ｘ線放射線又は電子ビーム放射線のような選択された放射線によるパターニング用に設計され得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone mask for utilizing single photoresist in patterning of a light shielding layer and a semi-light transmitting layer without requiring ashing treatment.例文帳に追加

アッシング処理を要することなく単一のフォトレジストを遮光層及び半透光層のパターニングに利用するハーフトーンマスクの製造方法を提供すること - 特許庁

To form an electrode pattern for an organic device in any given shape with high accuracy, without being tied to various hurdles in an electrode patterning process.例文帳に追加

電極パターニング工程に伴う種々の制約に捕われることなく、自由な形状にかつ高精度に有機デバイスの電極パターンを形成する。 - 特許庁

The moving electrode wiring pattern 142 and a wiring pattern provided on the moving portion are formed by patterning a conductive films simultaneously deposited.例文帳に追加

可動電極用配線パターン１４２と可動部に設けられた配線パターンとは、同時に成膜された導電膜をパターニングすることにより形成される。 - 特許庁

To provide a method and a device of manufacturing plate display elements carrying out patterning processes by a method of not using photo processes.例文帳に追加

本発明の目的はフォト工程を使わない方法でパターニング工程を遂行する平板表示素子の製造方法及び装置を提供するのにある。 - 特許庁

With such an arrangement, a mask can be made by patterning a large master mask at a stretch using a reduction projection aligner while fixing a pellicle during exposure.例文帳に追加

この構成によれば、露光中、ペリクル取り付けた状態で、大型マスターマスクを縮小投影光学系によって一度にパターン露光してマスクを作成できる。 - 特許庁

To provide a flexible wiring board for both side connection in which connection reliability can be enhanced with respect to a circuit board, while dealing with fin pitch patterning.例文帳に追加

ファインピッチ化に対応するとともに回路基板に対する接続信頼性を向上しうる両面接続用フレキシブル配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a highly heat-resistant copper clad laminated sheet, which uses an extremely thin copper foil, having no flaw or wrinkles and suitably used for fine patterning.例文帳に追加

傷・シワなどがなく、ファインパターン化に好適に用いられる極薄銅箔を用いた高耐熱性の銅張積層板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AS WELL AS ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM AND PATTERNING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法 - 特許庁

To prevent incomplete resist patterning due to unnecessary temperature rise of an arm for carrying a glass substrate coated with resist to a prebake unit.例文帳に追加

レジストが塗布されたガラス基板をプリベークユニットに搬送するための基板搬送アームの不要な温度上昇に起因するレジストパターニング不良を防止する。 - 特許庁

An intensity adjustment device is positioned in a radiation system, and comprises multiple members for casting penumbrae in the radiation beam illuminating the patterning device.例文帳に追加

強度調整デバイスは、放射システム内に配置され、且つ、パターニング・デバイスを照射している放射ビームに半影を投げかけるための複数の部材を備えている。 - 特許庁

To provide a lithographic device using a programmable patterning means where an effective NA is big in a substrate plane and a manufacturing method of the device.例文帳に追加

基板平面における有効ＮＡの大きいプログラム可能パターニング手段を使用したリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

An etching agent for use in the patterning step is one which dissolves the conductive layer and does not dissolve the guard metal layer 39, and an etching rate is about 1 to 5 μm/min.例文帳に追加

パターンニング工程で用いるエッチング液は、導体層を溶解しガード金属層３９を溶解しないものであって、エッチングレートが約１〜５μｍ／分である。 - 特許庁

To obtain a process for producing electric wiring in which patterning is carried out efficiently by minimizing adverse effect of etching on a substrate.例文帳に追加

エッチング処理時に基板への悪影響を極力小さくして、効率的にパターン形成を行うことができる電気配線の製造方法を得ることにある。 - 特許庁

A first resist layer 21 is formed on the conductor layer 11 of an insulating base material 1, a series of patterning processing is performed to form a first opening part 31.例文帳に追加

絶縁基材１の導体層１１上に第１レジスト層２１を形成し、一連のパターニング処理を行って第１開口部３１を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element capable of simultaneously improving patterning performance and a light emitting characteristic in the EL element using a photocatalyst.例文帳に追加

光触媒を用いたＥＬ素子であって、パターニング性の向上と発光特性の向上を同時に実現できるＥＬ素子の製造方法の提供。 - 特許庁

Information on the structural body uses an information which an alignment system for conducting the patterning step or its upper system holds to the present.例文帳に追加

上記構造体に関する情報は上記パターニング工程を実施する露光システム又はその上位システムが現在までに保持している情報を使用する。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illuminator configured to condition a beam of radiation and a support configured to hold a patterning device.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを調整するように構成された照明装置、およびパターニングデバイスを保持するように構成された支持体を含む。 - 特許庁

The apparatus further includes a sensor configured and arranged to intercept a portion of the beam and to measure a transmission of the beam through at least a portion of the patterning device.例文帳に追加

装置はさらに、ビームの一部を中断し、パターニングデバイスの少なくとも一部を通るビームの透過を測定するように構成され、配置されたセンサを含む。 - 特許庁

As a second electrode layer is formed on a flat face and an individual electrode 136 is formed by dividing and removing (patterning) it by etching or the like, an operation is easy.例文帳に追加

第二電極層を平坦な面に形成し、エッチングなどで分割除去し（パターニングし）、個別電極１３６とするので、作業が容易である。 - 特許庁

Consequently, since the registry 5 is not charged and no charge-up phenomenon is generated, patterning accuracy of the register 5 is enhanced and the phase shift mask with high accuracy is obtained.例文帳に追加

よって、レジスト５が帯電せず、チャージアップ現象が発生しないため、レジスト５のパターニング精度が向上し、高精度の位相シフトマスクが得られる。 - 特許庁

To reduce a high speed TFV due to a patterning factor without impairing pitch noise reducing effect and degree of freedom in design by means of pitch variation.例文帳に追加

ピッチバリエーション法等によるピッチノイズの低減効果や設計の自由度などを損ねることなく、パターン要因による高速ＴＦＶを低減できる。 - 特許庁

The masking layer is removed and the conductive nitride layer is subjected to a patterning process to form a first gate electrode 23 having a first work function value.例文帳に追加

マスキング層（２０）を除去し、導電性窒化物層（２４）にパターニングを行い、第１仕事関数値を有する第１ゲート電極（２３）を形成する。 - 特許庁

A wiring material is formed over the entire surface of the substrate thus obtained, and wiring 19 connected with the thin film resistor 14 is formed by patterning by dry etching.例文帳に追加

そして、全面に配線材料を成膜してドライエッチングによりパターニングすることにより薄膜抵抗体１４と接続した配線１９を形成する。 - 特許庁

A pad oxide film 112 and a silicon nitride film 113 are deposited on a semiconductor substrate 111 and then subjected to a patterning process to make a trench 115 therein.例文帳に追加

半導体基板１１１上にパッド酸化膜１１２及びシリコン窒化膜１１３を堆積し、パターニングを行って溝（トレンチ）１１５を形成する。 - 特許庁

Patterning of a plurality of transistors 7, 8 and 9 is performed on a substrate 2 by applying a vapor phase growth method, lithography method and etching method or the like.例文帳に追加

基板２に対して気相成長法、フォトリソグラフィー法、エッチング法等を施すことによって複数のトランジスタ７，８，９を基板２上にパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for accurately patterning microcapsules on a substrate without complicating processes in a method for manufacturing an electrophoretic display device.例文帳に追加

電気泳動表示装置の製造方法において、工程の複雑化を招くことなくマイクロカプセルを基板上に正確にパターニングするための方法を提供すること。 - 特許庁

This prevents bit line patterning failure in the core/peripheral circuit region, and can apply SPT (Spacer Pattern Technology) when forming a bit line is formed.例文帳に追加

これを介し、本発明ではコア/周辺回路領域におけるビットラインパターニングの不良を防止し、ビットライン形成時にSPT(Spacer Pattern Technology)を適用することができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic TFT element in which the substantial patterning of organic semiconductor channels can be performed very conveniently and which is stabilized in performance.例文帳に追加

非常に簡便で実質的な有機半導体チャネルのパターニングが可能で、性能が安定な有機ＴＦＴ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁