patterningを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3921件
To provide a conveyance method of a film with a pattern, enabling high-definition patterning and highly-accurate lamination at a delivery destination after conveying to the delivery destination, etc.例文帳に追加
納入先等に搬送後、納入先にて高精細なパターニング加工や高精度な貼合が可能なパターン付フィルムの搬送方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for nano-patterning by incorporating one or more block copolymers and one or more nano-imprinting steps in a fabrication process.例文帳に追加
1つ以上のブロック共重合体および1つ以上のナノインプリントステップを製造プロセスに組込むことによってナノパターン化するための方法を提供する。 - 特許庁
The lithography apparatus comprises: an illumination system IL for providing a projection beam of radiation PB; and a support structure MT for supporting a patterning means MA.例文帳に追加
放射の投影ビームPBを提供するための照明装置ILと、パターン形成手段MAを支持するための支持構造体MTとを有する。 - 特許庁
To provide an etching method and an etching process device which obtain a patterning shape which is more uniform and does not have variations due to locations on a substrate.例文帳に追加
基板上の場所によってばらつきのないより均一な膜のパターニング形状を得るエッチング方法およびエッチング処理装置、を提供する。 - 特許庁
The lithographic apparatus has an illumination system that supplies a projection beam of radiation, which is patterned using a patterning system.例文帳に追加
リソグラフィ装置は、放射線の投影ビームを供給する照明システムを有し、この投影ビームには、パターン形成システムを使用してパターンが形成される。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for an optical waveguide by which no white cloud occurs during the patterning of a core layer and an optical waveguide having small optical loss is manufactured as a result.例文帳に追加
コア層のパターニングの際に白濁が生じず、光損失の少ない光導波路を得ることのできる光導波路の製法を提供する。 - 特許庁
By patterning the second film, a first pattern 41a with openings 41 or recessed parts 41c arranged therein, and a second pattern 31a elongated in one direction are formed.例文帳に追加
第2の膜をパターニングすることにより、内部に開口(41c)または凹部(41d)が配置された第1のパターン(41a)と、一方向に長い第2のパターン(31a)とを形成する。 - 特許庁
To easily control a III-V compound semiconductor laser in a lateral mode, improve the aspect ration of a laser beam, and reduce damages by the growth and patterning of an AlN layer.例文帳に追加
III-V化合物半導体レーザの横モード制御を容易にし、ビーム形状の縦横比を改善し、さらに、AlN 層の成長やパターニングによるダメージを減らす。 - 特許庁
A first pattern is formed by forming a first film on a first region on a processed film formed on a substrate and conducting patterning on the first film.例文帳に追加
基板上に形成された被加工膜上の第1の領域に第1の膜を形成してパターニングすることにより第1のパターンを形成する。 - 特許庁
To prepare test tubes for a plurality of patients on one rack, by patterning preparation of the test tubes on the rack relative to each patient or the like.例文帳に追加
ラックへの試験管の準備を患者ごとなどにパターン化して一つのラックに複数患者分を準備できるようにすることを目的とする。 - 特許庁
Patterning is performed in a photo resist layer 59 formed on a color filter array 58 to remove a photo resist on boundaries from first to third colored layers 41, 54 and 57.例文帳に追加
カラーフィルタアレイ58上に形成したフォトレジスト層59にパターニングして第1〜第3の着色層41,54,46の境界上のフォトレジストを取り除く。 - 特許庁
To provide a beam shaping method which offers high energy efficiency in the electrode patterning process of a tin oxide film by a laser beam shaped into a rectangular cross section.例文帳に追加
断面矩形に整形したレーザービームによる酸化錫膜の電極パターン加工において、エネルギ利用効率の高いビーム整形方法を提供する。 - 特許庁
After that, the soluble pattern resin layer is dissolved to perform the patterning so as to correlate the piezoelectric body 4 with the pressurizing chamber 1, and then the liquid jet head is produced.例文帳に追加
その後に、溶解可能なパターン樹脂層を溶出し、圧電体4を圧力室1に対応するようにパターニングして、液体噴射ヘッドを作製する。 - 特許庁
To provide a system and method for patterning a master disk with the required feature size that does not rely on conventional photolithography or electron-beam lithography.例文帳に追加
従来のフォトリソグラフィあるいは電子線リソグラフィに依存しない、所要のフィーチャー・サイズのマスタ・ディスクをパターン化するためシステム及び方法が必要とされている。 - 特許庁
Then a gate G is formed by patterning the laminated film of the gate oxide film, polysilicon film, and first wiring layer, and an insulating coating film is formed by thermal oxidation.例文帳に追加
次に、ゲート酸化膜、ポリシリコン膜、第1配線層の積層膜をパターンニングしてゲートGを形成し、熱酸化により絶縁被膜を形成する。 - 特許庁
By patterning the emitter material layer 30, emitter constituting patterns 32 each having an electron emission end 31 at a tip are formed on parts riding on the slope 21 of the sacrifice layer hill 20.例文帳に追加
エミッタ材層30のパターニングにより、犠牲層丘20の斜面21に乗っている部分に、先端に電子放出端31を有するエミッタ構成用パタン32を形成する。 - 特許庁
A gray tone masking and photoresist peeling-off steps are utilized to perform patterning and, thereby, the TFT LCD pixel unit can be formed with three photolithography masks.例文帳に追加
グレートーンマスキングとフォトレジストの剥離工程によりパターニングすることで、三枚のフォトリソグラフィマスクでこのTFT−LCD画素ユニットを形成することができる。 - 特許庁
Incoherent light exiting from the focusing apparatus 5-1 can be used as it is as the illumination light of an illuminator for performing minute patterning.例文帳に追加
集束器5−1から出射する非可干渉性光は、微細なパターニングを行う照明器の照明光としてそのままに用いることができる。 - 特許庁
A mask (not shown) is provided on an amorphous silicon film 101, and an applying window 102 for applying catalyst element is formed by patterning the mask.例文帳に追加
非晶質珪素膜101上に図示しないマスクを設け、マスクをパターニングして触媒元素を添加するための添加ウィンドウ102を形成する。 - 特許庁
After forming an interlayer insulating film by covering a gate insulating film and gate electrodes, at least one of the gate electrodes is exposed by patterning the interlayer insulating film.例文帳に追加
ゲイト絶縁膜およびゲイト電極を覆って層間絶縁膜を成膜後、層間絶縁膜をパターニングし、少なくとも1つのゲイト電極を露呈する。 - 特許庁
This suppresses partial trailing or production of an undercut part due to the dense or sparse state of the pattern and realizes high accuracy resist patterning without depending on the density of the pattern.例文帳に追加
パターンの疎密による部分的なパターンの裾引きやアンダーカットの発生を抑制し、パターンの疎密にかかわらず精度の高いレジストのパターニングが可能になる。 - 特許庁
A plurality of electrostatic clamping devices 6 are further provided to apply a clamping force to the substantially the same portion of the patterning device 2 as the vacuum device 4.例文帳に追加
さらに複数の静電型クランピング装置6を備えており、真空装置4としてパターニングデバイス4の実質的に同じ部分にクランプ力を働かせる。 - 特許庁
To provide a probe card that can deal with fine patterning of a semiconductor integrated circuit and an anisotropic conductive film manufacturing method used for the same.例文帳に追加
半導体集積回路の微細化に対応することができる、プローブカード及びそれに用いられる異方性導電シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The step for doping the fin is carried out by depositing a blocking mask material at least on the top surface of the fin after patterning the gate stack.例文帳に追加
フィンのドーピング工程は、ゲートスタックのパターニング工程後に、少なくともフィンの上面にブロッキングマスク材料を堆積する工程により行われる。 - 特許庁
PATTERNING PRECISION MEASURING METHOD, METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM TRANSISTOR, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTROOPTICAL DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
パターニング精度測定方法、パターンの形成方法、薄膜トランジスタの製造方法、半導体装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器 - 特許庁
After that, an anode substrate 1 is completed by patterning anode conductors 8 on the smooth surface of the thin glass 7 by making them correspond to the positions of the color filters (4).例文帳に追加
その後、薄板ガラス7の平滑な面の上にカラーフィルター4の位置に対応させて陽極導体8をパターニングして陽極基板1が完成する。 - 特許庁
A light shielding pattern 130 is formed by forming a light shielding film of chromium (Cr) etc., on a blank 101 and patterning the light shielding film 130 to a prescribed shape.例文帳に追加
ブランクス101上にクロム(Cr)等の遮光膜を形成し、この遮光膜を所定形状にパターニングして遮光パターン130を形成する。 - 特許庁
The vacuum suction of a GaAs substrate 1 to a vacuum chuck 5 is performed, and a positive resist 4 is exposed through a mask 7a from an exposing light source 6a to perform patterning.例文帳に追加
GaAs基板1を真空チャック5に真空吸着し、露光光源6aからマスク7aを通してポジ型レジスト4を感光させ、パターニングを行う。 - 特許庁
The spacer 16 is formed by patterning a SiO2 film deposited on the sealing board 15 and formed integrally with the sealing board 15.例文帳に追加
このスペーサ16は、封止用基板15に堆積させたSiO_2膜をパターン形成したものであり、封止用基板15に一体的に形成されている。 - 特許庁
With this constitution, a time for emitting the laser beam to the portion to be removed by patterning after the semiconductor film is crystallized can be omitted.例文帳に追加
上記構成により、半導体膜を結晶化させた後パターニングにより除去される部分にレーザー光を照射する時間を省くことができる。 - 特許庁
The optical interference type color display has a color filter substrate, a patterning supporting layer, a plurality of 1st electrodes, a plurality of optical films and a plurality of 2nd electrodes.例文帳に追加
光干渉型カラーディスプレイは、カラー濾過基板、パターン化支持層、複数の第一電極、複数の光学的フィルムおよび複数の第二電極を有する。 - 特許庁
Subsequently, a development process is performed for the acid compensating layer and the photo resist layer, and patterning of the acid compensating layer and the photo resist layer is performed.例文帳に追加
続いて、前記酸補償層及び前記フォトレジスト層に対して現像工程を行い、前記酸補償層及び前記フォトレジスト層をパターニングする。 - 特許庁
With this configuration, resist is easily placed on the edge parts of the electrode film when patterning the electrode films 41, 51 on the surface of the quarts chip.例文帳に追加
このような構成にすることで、水晶片の表面に電極膜41,51をパターニングするときに縁部においても電極膜上にレジストが載りやすい。 - 特許庁
And an Au film 3 of superior corrosion resistance and low resistance is formed on the Ni film 12 of a patterning-formed wiring by an electroless plating.例文帳に追加
そして、そのパターニング形成された配線形状のNi膜12上に、無電解メッキ法により優れた耐食性で低抵抗なAu膜3を形成する。 - 特許庁
A conductive material is applied thereon to pattern a pixel electrode 13a, and a single photomask is used for forming the contact holes and patterning the pixel electrode.例文帳に追加
その上に導電材料を塗布することで画素電極13aをパターニングし、コンタクトホール加工と画素電極パターニングとを1枚のフォトマスクで行う。 - 特許庁
Then, after a cobalt disilicide film 105 is formed on the polysilicon film 102 by heat treating, patterning is performed, and gate electrode parts 112a, 112b are formed.例文帳に追加
その後、熱処理によって、ポリシリコン膜102上にコバルトジシリサイド膜105を形成した後、パターニングしてゲート電極部112a、112bを形成する。 - 特許庁
A polysilicon film pattern 120b having a split-shape is formed by patterning the polysilicon film and exposing a predetermined region of the dielectric film pattern 110a.例文帳に追加
ポリシリコン膜をパターニングして誘電膜パターン110aの所定領域を露出させ、スプリットされた形状を有するポリシリコン膜パターン120bを形成する。 - 特許庁
The first electrode 25r of the unit element Ur includes a first layer 261 formed by patterning of a conductive film L1 and overlapping with the light reflecting layer 21.例文帳に追加
単位素子Urの第1電極25rは、導電膜L1のパターニングによって形成されて光反射層21と重なり合う第1層261を含む。 - 特許庁
In the mask, two or more patterning carbon nanotube layers that have two or more voids on the epitaxial growth surface of the substrate are formed.例文帳に追加
本発明のマスクにおいては、前記基板のエピタキシャル成長面上に複数の空隙を有する複数のパターン化カーボンナノチューブ層が形成される。 - 特許庁
ONIUM SALT COMPOUND, POLYMER COMPOUND COMPRISING THE SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION COMPRISING THE POLYMER COMPOUND, AND METHOD FOR PATTERNING USING THE COMPOSITION例文帳に追加
オニウム塩化合物、それを含む高分子化合物、前記高分子化合物を含む化学増幅型レジスト組成物、および前記組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
After the photoresist layer 2 is removed, openings 8 are formed by forming a second photoresist layer 6 on the surface of the substrate 22 and patterning the layer 6.例文帳に追加
つづいて第1のフォトレジスト層2を除去した後、基板の表面に第2のフォトレジスト層6を形成しパターン化して開口部8を形成する。 - 特許庁
Moreover, the inductors 20X, 20Y can also be configured by patterning the wiring between the electrodes X, Y and the switching group 12, for example in a zigzag form.例文帳に追加
また、インダクタ20X,20Yは、電極X,Yとスイッチング素子群12との間の配線を例えばジグザグにパターニングすることによっても構成可能である。 - 特許庁
So that, since the position of the step can be optically detected at patterning the three-layer film, the position of the first wiring 11 can be detected.例文帳に追加
よって、当該3層膜のパターンニングの際、段差の位置を光学的に検出できるため、結果として第1の配線11の位置を検出することができる。 - 特許庁
To provide a patterning substrate having a conductive pattern comprising a conductive polymer, which can be simply manufactured with high precision and good productivity.例文帳に追加
導電性ポリマーからなる導体パタ−ンを有するパターニング基板であって、高精度で、簡便に、生産性よく製造することができるパターニング基板を提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic chuck system and method that minimize effects of manufacturing and operational deformations in a chuck, a patterning device, and/or a substrate.例文帳に追加
チャック、パターニングデバイスおよび/または基板における製造の影響および操作上の変形を最小限にする静電チャックシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
To provide a negative photosensitive siloxane resin composition which can be subjected to patterning and enables a cured film excellent in wet heat resistance to be formed.例文帳に追加
パターン加工が可能であり、耐湿熱性に優れた硬化膜を形成することができるネガ型感光性シロキサン樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To control a patterning geometry by neutralizing excess acid on the boundary face between a resist and a base film by applying a basic substrate treating agent on the resist base film.例文帳に追加
レジスト下地膜に塩基性の基板処理剤を塗布することにより、レジストと下地膜の界面の余剰酸を中和してパターニング形状を制御する。 - 特許庁
Next, a diffraction structure having an eight step stair structure is manufactured by repeating patterning and etching processes in the region A2 in the same way.例文帳に追加
続いて、領域A2について同様にパターニング及びエッチングの工程を繰り返すことにより、8段の階段構造を有する回折構造を作製する。 - 特許庁
To provide a coating structure for vehicle having an antenna pattern exhibiting enhance gain, and to provide a vehicle mounted antenna and an antenna patterning method for vehicle.例文帳に追加
利得が向上されたアンテナパターンを有する車両用塗膜構造、車載アンテナ及び車両用アンテナパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
The guide holes 4 are formed of a thick film material 3 which has photosensitivity or electronic beam hardenability and can be hardened selectively by patterning by photolithography.例文帳に追加
ガイド穴4は、光感光性あるいは電子ビーム硬化性を持ちホトリソグラフィでパターニングすることで選択的に硬化が可能な厚膜材料3で形成してある。 - 特許庁
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