「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a donor substrate for transfer allowing for a high precision fine patterning and a method of manufacturing a device such as an organic EL element using the donor substrate.例文帳に追加

高精度な微細パターニングが可能である転写用ドナー基板、および、かかるドナー基板を用いて有機ＥＬ素子などのデバイスを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).例文帳に追加

形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To make a player surely recognize the changeover of a special pattern under the display state that complicated pattern variation patterning advances and the changeover time of the special pattern becomes hard to recognize.例文帳に追加

複雑化する図柄変動パターン化が進み、特別図柄の切換時期がわかりずらくなる表示状態の下で、確実に遊技者に特別図柄の切換を認識させる。 - 特許庁

The abnormal growth of the HSG-Si is prevented, pinch-off with an upper electrode is prevented, and the leakage current is suppressed by conducting the patterning after treatment to form the HSG-Si.例文帳に追加

ＨＳＧ−Ｓｉ化の処理後にパターニングすることにより、ＨＳＧ−Ｓｉの異常成長を防止でき、上部電極とのピンチオフを防止し、リーク電流を抑制できる。 - 特許庁

To provide a fine structure patterning method capable of preparing a uniform pattern into large area by easily solidifying various kinds and properties of substance fluids.例文帳に追加

簡便に、様々な種類、性質の物質流体を固化させることで均質なパターンを大面積に作製することのできる新しい微細構造パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To reduce damage during patterning of a magneto-resistance effect sensor film, and failures caused by current leakage between upper and lower shields in a magneto-resistance effect type head of a CPP structure.例文帳に追加

CPP構造の磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、磁気抵抗効果センサ膜のパターニングの際のダメージや、上下のシールド間の電流のリークなどによる不良を低減する。 - 特許庁

Then, the conductive paste 12 is applied to a modified region 20 of the substrate surface 10a where the surface treatment is applied along the pattern forming elements 14 of the patterning member 16.例文帳に追加

次に、基板表面１０ａの表面処理を施した改質領域２０に、パターニング部材１６のパターン形成要素１４に沿って、導電性ペースト１２を付与する。 - 特許庁

To provide a producing method of multi-layer circuit board for improving close contact strength between wiring and insulating resin film while preventing a patterning fault accompanied by advancement in microfabrication.例文帳に追加

微細化に伴うパターニング不良を回避しながら、配線と絶縁樹脂膜との間の密着強度を高めることができる多層回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optoelectronic device with which the number of patterning processes can be suppressed and the reduction of electric power consumption is made possible, a driving method for the optoelectronic device, and electronic equipment.例文帳に追加

パターニングの工程数を抑制するとともに、低消費電力化を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の駆動方法及び電子機器を提供する。 - 特許庁

At this time, the basic curing catalyst penetrates into the photocured film and the film is doped, whereby excellent heat curability is ensured in addition to excellent development patterning property.例文帳に追加

この際、上記塩基性硬化触媒が光硬化した塗膜に浸透し、ドーピングされることにより、現像パターニング性に加えて熱硬化性にも優れたものとなる。 - 特許庁

Thereafter, a second gate 23 is formed to ride on the first gate 12 by patterning the polysilicon film deposited to cover the first gate 12.例文帳に追加

次いで、第１ゲート１２を覆うように堆積したポリシリコン膜をパターニングすることによって第１ゲート１２上に一部が乗り上げるように第２ゲート２３を形成する。 - 特許庁

The method for patterning comprises the step of ejecting a chemical species or its precursor through at least one nozzle onto a base to provide a plurality of films formed of the above chemical species.例文帳に追加

本発明は少なくとも１つのノズルから化学種又はその前駆体を吐出して前記化学種からなる複数の膜を配置するパターニング方法を提供する。 - 特許庁

A patterning of the upper layer resist 5 is carried out, and the interlayer 4 is etched in a treatment chamber 11 by using the upper layer resist 5 as a mask and by using a gas containing fluorine.例文帳に追加

上層レジスト５がパターニングされ、その上層レジスト５をマスクとして、フッ素を含むガスを用いて処理チャンバー１１内で中間層４がエッチングされる。 - 特許庁

After defining a distance between the contact holes adjacent to each other on the polysilicon resistance layer 4 as the lengths L1 and L2 of resistance elements, the patterning dimension of the polysilicon resistance layer 4 is set.例文帳に追加

ポリシリコン抵抗層４上で隣り合うコンタクトホール間を抵抗素子の長さＬ１，Ｌ２と定義した上でポリシリコン抵抗層４のパターニング寸法を設定する。 - 特許庁

To obtain an adhesive having high adhesion to a substrate and capable of exhibiting good patterning performances without causing problems such as deposition and a photosensitive resin composition using the adhesive.例文帳に追加

基板との高い接着性を有し、析出等の問題が無く、良好なパターニング性能を発揮する接着剤、それを用いた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a drawing apparatus for reducing dimensional errors even in the case of performing pattern formation for patterning a part leaving a resist, and to provide a drawing method using the apparatus.例文帳に追加

レジストを残す部分をパターンとするパターン形成を行なう場合でも寸法誤差を低減させる描画装置と、その装置を用いた描画方法を提供。 - 特許庁

Such protective walls 52, 54 are formed by increasing the thickness of the Al wiring in a necessary part and the bonding pad by lift off after normal Al wiring patterning.例文帳に追加

このような保護壁５２，５４は、通常のＡｌ配線パターニングの後、リフトオフにより必要な部分のＡｌ配線およびボンディングパッドのＡｌ厚を増やすことにより形成される。 - 特許庁

When the spacer member 8 is formed of poly-Si, it is not tapered reversely and etching residue is not generated at the time of patterning the control gate 7.例文帳に追加

このように、スペーサ部材８をｐｏｌｙ−Ｓｉで形成すれば逆テーパ形状が発生せず、コントロールゲート７をパターニングする際にエッチング残りが発生しない。 - 特許庁

In first patterning to form the scanning lines 11 and gate electrodes 13, the scanning lines 11 are previously provided with slits 12 in the intersection parts 7 with the signal lines 6.例文帳に追加

走査線１１及びゲート電極１３を作成する第１のパターニングにおいて、走査線１１には信号線６との交差部７にスリット１２を設けておく。 - 特許庁

In the panel, a substrate layer is applied with an acrylic sol composition to be subjected to patterning and hot molding, and then applied with a synthetic resin coating material to form a coating film.例文帳に追加

基材層にアクリルゾル組成物を塗布、パターン付けして加熱成型し、次いでアクリル系樹脂エマルジョンを含有する合成樹脂塗材を塗布して塗膜を形成したパネル。 - 特許庁

To provide a technique for sharpening the edge of a boundary section when patterning two adjacent regions on a substrate by switching strength.例文帳に追加

基板上の隣接する２つの領域について、強度を切り換えてパターンニングする際に、境界部分のエッジを鋭利にするための技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

Therefore, at least one redundant via of the redundant vias 5 can be formed with reduced influence of alignment deviation even when the alignment deviation occurs in the wiring 4 and the vias 5 in photoresist patterning.例文帳に追加

従って、フォトレジストパターニング時に配線４とビア５に目ズレが発生した場合でも、少なくとも冗長ビア５の一つは目ズレの影響が少なく形成できる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing an organic EL element which can easily carry out patterning of an organic function layer as well as obtaining uniformity in the film thickness.例文帳に追加

有機機能層を簡易にパターン形成できると共に、その膜厚の均一性を実現できる有機ＥＬ素子の製造方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Further, by patterning the guide groove 5 and the optical waveguide 6 with the same process, the core adjusting between the optical fiber F and the optical waveguide 6 becomes easy, and is performed precisely.例文帳に追加

また、ガイド溝と光導波路とを同じ工程でパターニングすることで光ファイバと光導波路との調芯を容易に、かつ精度良く行うことができる。 - 特許庁

A lower layer 12, an intermediate layer 13, and an upper-layer resist 14 are formed in sequence on an underlayer material 11; and an upper resist pattern 14a is formed by patterning the upper-layer resist 14.例文帳に追加

下地材１１の上に下層１２、中間層１３、および上層レジスト１４を順次に設け、上層レジストをパターニングして、上層レジストパターン１４ａを形成する。 - 特許庁

After a patterning is made by coating a silver paste to become display electrodes 13, 14 on a substrate 11, a glass paste to become a dielectric layer 15 is coated and a firing is made at the same time.例文帳に追加

基板１１上に表示電極１３，１４となる銀ペーストをパターニングして塗布した後、誘電体層１５となるガラスペーストを塗布し、同時に焼成する。 - 特許庁

Then, after patterning the conductive layer 8, a TiO_2 film 8a is formed on a surface of the conductive layer 8, and the conductive layer 8 is formed into a passive state to XeF_2 gas.例文帳に追加

続いて、導電層８をパターンニングした後、導電層８の表面にＴｉＯ_２膜８ａを形成し、導電層８をＸｅＦ_２ガスに対して不動態化させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for preventing an etching damage to the other region while patterning precision and high speed are maintained, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

パターニング精度、高速性を維持しつつ他の領域へのエッチングダメージを防止する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供を提供する。 - 特許庁

To prevent high frequency characteristics from deteriorating by decreasing the gap between a device and a substrate and to increase the degree of freedom in the surface mounting density and patterning of a surface layer through a multilayer structure.例文帳に追加

デバイスと基板間のギャップを少なくし高周波特性の劣化を防ぐと共に、多層構造により表層の実装密度及びパターン製作の自由度を上げる。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste capable of carrying out a fine patterning and exhibiting conductivity in a comparatively lower temperature cure, and to provide a method of manufacturing a conductive pattern.例文帳に追加

微細なパターンニングが可能で、比較的低温のキュアで導電性を発現することができる感光性導電ペーストおよび導電パターンの製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a patterning method for an aluminum shape having a pattern with a sense of natural texture or a three-dimensional and geometric pattern, and an aluminum shape obtained thereby.例文帳に追加

自然の風合い感のある模様や立体感のある幾何学的模様を備えたアルミニウム形材の模様付け方法と、それにより得られたアルミニウム形材を提供する。 - 特許庁

To provide removal plate cleaning method and device for a removal plate, inexpensively patterning a plurality of substrates highly accurately by using a reverse relief printing plate printing method.例文帳に追加

反転凸版印刷法を用いて安価に複数枚の高精細なパターニングを可能とする、除去版の除去版洗浄方法及び除去版洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To perform patterning of a conductive layer, formed of a light-reflective conductive material, with high quality in a method of manufacturing an electrooptical device such as a liquid crystal display device.例文帳に追加

液晶表示装置等の電気光学装置の製造方法において、光反射性を有する導電性材料から形成された導電層を高品位にパターニングする。 - 特許庁

To provide a method for forming a masking coating on a metal surface by an inkjet method, that is, means for heightening the patterning precision of the masking coating and making the surface smooth.例文帳に追加

インクジェット方式で金属表面にマスキング皮膜を形成する方法であって、マスキング皮膜のパターニング精度を高め、かつ表面を平滑にする手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a nano-carbon material composite substrate capable of favorably patterning and growing a nano-carbon material on a substrate.例文帳に追加

本発明は、基板にナノ炭素材料を好適にパターニングして成長させること出来るナノ炭素材料複合基板製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method with which it becomes possible to precisely and simply inspect the quality of a process for patterning a photosensitive resin film using a semiconductor lithography technique.例文帳に追加

半導体リソグラフィ技術を用いて感光性樹脂膜をパターニングする工程の良否を正確且つ簡易に検査することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element in which patterning of a silicon oxide film by photolithographic technique is possible without requiring hydrophobic treatment.例文帳に追加

本発明は、疎水化処理を要することなく、フォトリソグラフィー技術による酸化シリコン膜のパターニングが可能な半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which ensures small line edge roughness, high sensitivity, high throughput and small substrate dependence of a pattern, and to provide a patterning process using the negative resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Utilizing a difference of etching characteristics in patterning due to a germanium concentration profile, a bottom gate length can be made shorter than a top gate length which is limited by photolithography.例文帳に追加

ゲルマニウム濃度プロファイルによるパターニング時のエッチング特性差を用いることにより、フォトリソグラフィにより限定されたトップゲート長よりボトムゲート長を短くできる。 - 特許庁

To prevent the loss caused by the crack and air bubbles generated in core patterning by dry etching in a method for manufacturing an optical wiring layers having cores and clads.例文帳に追加

コアとクラッドを有する光配線層の製造方法において、ドライエッチングでコアパターン時に生ずる亀裂及び気泡により発生する損失を防止することを目的とする。 - 特許庁

It is desirable to manufacture the template 1 made of resin by carrying out a patterning on a front surface of a PE sheet 1a laminated on a PMMA sheet 1b by a thermal cycling nano imprint method.例文帳に追加

樹脂製テンプレート１は、ＰＭＭＡシート１ｂ上にラミネートされたＰＥシート１ａの表面に熱サイクルナノインプリント法でパターニングすることにより作製するとよい。 - 特許庁

The method further comprises steps of forming the protective oxide film in this state by a thermal oxidation treating step, thereafter patterning the amorphous silicon film, and forming the gate electrode on the element region.例文帳に追加

さらにこの状態で保護酸化膜を熱酸化処理工程により形成し、その後で前記アモルファスシリコン膜をパターニングして前記素子領域にゲート電極を形成する。 - 特許庁

Polarization is used for patterning the second structural part on the second layer, and the polarization has the same polarization direction as the first orientation direction.例文帳に追加

上記第２層上に上記第２構造部をパターニングするために偏光が使用され、上記偏光は、上記第１配向方向と同じ偏光方向を有している。 - 特許庁

To provide a method for patterning thin film by which the degree of freedom of etchant selection can be improved and a thin film can be etched evenly over a large area.例文帳に追加

本発明では、エッチングにおける液の選定の自由度が高く、大面積にわたり均一にエッチングできる薄膜のパターン形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a high sensitivity; low smear sensor capable of forming, in a self alignment manner, a reflection prevention film forming an island-shaped reflection prevention film on a photodiode; and forming a reflection prevention film on the photodiode without securing overlapping accuracy due to patterning of the reflection prevention film beyond necessity.例文帳に追加

反射防止膜のパターニングによる重ね合わせ精度を必要以上に確保することなく、フォトダイオード上に島状の反射防止膜を形成する。 - 特許庁