「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain an etching shape without a side-wall deposition film as a reattached etching film to a sidewall of a resist, without disturbing minute patterning in a non-reactive sputtering etching step.例文帳に追加

反応性を用いないスパッタエッチングにおいて、微細化を妨げることなく被エッチング膜のレジスト側壁への再付着による側壁析出膜のないエッチング形状を得る。 - 特許庁

To provide a transfer print patterning method capable of simply and accurately forming a print pattern such as a thin-film electrical circuit and the like on a large area substrate.例文帳に追加

大面積の基板上に高精度で薄膜電気回路等の印刷パターンを簡便に形成することができる転写式印刷パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The breaking points 4 are formed by circularly cutting the copper foil of a part of the conductor 3 in patterning in a state of equally reducing a cross section of the conductor 3.例文帳に追加

遮断点４は、導電体３の一部の銅箔がパターンニングの際に円形状に抜かれ、導電体３の断面が等しく縮小されて形成されている。 - 特許庁

To improve defective short circuit problem due to the manufacturing step for patterning a reflective substance layer by unit cells, utilizing a laser to enhance the optical conversion efficiency of a thin-film solar cell.例文帳に追加

レーザを利用して単位セル別に反射物質層をパターニングする工程による短絡不良問題を改善し、薄膜太陽電池の光変換効率を向上させる。 - 特許庁

The first electrode 22 is formed, by selecting one or more layers among the conductive films 22A, 22B, and 22C constituting the connective conduction part for patterning.例文帳に追加

第１電極２２は、接続導電部を構成する導電膜２２Ａ、２２Ｂ、２２Ｃのうちの単層又は２層以上が選択されパターニングされて形成されている。 - 特許庁

In the inkjet recording process, dots are formed by ink droplets for which the volume of one ink droplet impacted onto the recording surface 72 is equal to or more than 45pl, and patterning is performed.例文帳に追加

インクジェット記録工程では、記録面７２に着弾する一滴のインク滴の体積が４５ｐｌ以上のインク滴によって、ドットが形成されて模様付けされる。 - 特許庁

OPTICAL FILM, LIGHT REFLECTING FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL, METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING OPTICAL FILM, METHOD FOR PRODUCING PATTERNING ROLLER, AND METHOD AND APPARATUS FOR STICKING OPTICAL FILM THEREFOR例文帳に追加

光学フィルム、光反射フィルム、液晶表示パネル、光学フィルム製造方法および装置、型ローラ製造方法、ならびに光学フィルム貼付方法および装置 - 特許庁

To provide a device and method for manufacturing display plate, permitting to carry out patterning of a thin film with efficiency and high accuracy without using a photo etching process.例文帳に追加

本発明は、写真エッチング工程を使用せずに効率的でかつ、高精度に薄膜をパターニングできる表示板の製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

When patterning is performed in order to form the movable member and the base thereof on the substrate, a structure is formed simultaneously on the channel wall and at the position of the substrate beneath the liquid chamber frame.例文帳に追加

基板へ可動部材および可動部材台座を形成する際のパターニング時に流路壁および液室枠下の基板位置に構造物を同時に形成する。 - 特許庁

To provide a light-emitting semiconductor device by which light- emitting efficiency can be improved and the occurrence of discrepancies can be reduced when a patterning layer is formed.例文帳に追加

発光効率の向上及びパターニング層の形成における不具合発生率の低減を達成できる発光半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition apparatus for carrying out patterning while suppressing unevenness in the resist film thickness in an edge region of a substrate, and to provide a deposition method.例文帳に追加

基板周縁部領域におけるレジスト膜厚の不均一を抑制して、良好なパターニングを行うことができる成膜装置、及び、その成膜方法を提供する。 - 特許庁

A metallic layer 1 is formed on one surface of a hard insulating layer 2, an adhesive layer 4 and a protection film 5 are stacked on the other surface thereof, and conductor wiring 3 is formed by patterning of the metallic film 1.例文帳に追加

硬質絶縁層２の一面に金属膜１を、他面に接着剤層４、保護フィルム５を積層し、金属膜１のパターニングにて導体配線３を形成する。 - 特許庁

To provide a resist treatment method that, in a multi-patterning method, can very finely and highly accurately form a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation.例文帳に追加

マルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of liquid crystal display panel with which the productivity can be improved by excluding reattachment of an optical film in a manufacturing step according to a multiple patterning.例文帳に追加

多面取りによる製造工程において光学フィルムの貼り直しを排除して、生産性が向上する液晶表示パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The rotational speed control circuit 53 is composed by electric wiring itself, where polycrystalline silicon is used in the cooling substrate 31 for patterning, thus cooling a chip by the blast of at least 1,000 microfans, and hence markedly enhancing the cooling performance of the MCCs and LSIs.例文帳に追加

回転速度制御回路５３は冷却基板３１に多結晶シリコンが使用されてパターニングされた電気配線自体によって構成されている。 - 特許庁

In the manufacture of such a semiconductor device, a window is formed in the column of the protective material by patterning the window with a photoetching method, using a mask material and removing the protective material by etching.例文帳に追加

すなわち、保護材料の柱部分の窓をあける時に、マスク材料を用いて、窓を写真食刻法でパターニングし、保護材料をエッチング除去して行う。 - 特許庁

The mask for conductive film patterning is a mask for forming pattern on a substrate, and the corners of the mask are rounded to 0.01-0.1 mm R.例文帳に追加

基板にパターンを形成するためのマスクであって、該マスクの角の部分にＲ＝０．０１〜０．１ｍｍの円味をもたせたことを特徴とする導電膜パターン化用マスク。 - 特許庁

To provide a precursor composition for resists having excellent liquid film-formation ability and pattern formation ability suitable for photo-nanoinprint and a method for micro-patterning using the composition.例文帳に追加

光ナノインプリントに適した液膜形成能、およびパターン形成能のすぐれたレジスト前駆体組成物ならびにこれを用いた微細なパターンの形成法を提供する。 - 特許庁

DRAM crown cells are foamed by forming sidewall filaments 240 on such forming walls, after partly patterning etching of a polysilicon layer 230.例文帳に追加

ＤＲＡＭクラウン・セルが、ポリシリコン層（２３０）の部分的なパターンぎめエッチの後、こうして形成された壁の上に側壁フィラメント（２４０）を形成することによって形成される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having an anti-reflection layer which can obtain high adhesion to a conductive member and excellent anti- reflection ability when patterning the conductor.例文帳に追加

導電部材との高い密着性及び導電部材パターニング時の優れた反射防止能力が得られる反射防止層を有する半導体装置を提供提供する。 - 特許庁

The surface of the exposed section of a crystal 1 is removed by an etching in a trace quantity by an etchant after a patterning using a photolithographic technique after the formation of a resist film.例文帳に追加

レジスト膜形成後のフォトリソグラフィ技術等を利用したパターンニングを行った後に、エッチャントによって結晶１の露出部分の表面を微量にエッチング除去する。 - 特許庁

Having multiple magnifications in the object plane allows for patterning of both large and small features on an image plane, which can include the substrate therein.例文帳に追加

物体平面において複数の倍率をもつことから、基板に含まれる大きいフィーチャも小さいフィーチャもともに１つの像平面上にパターニングすることができる。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device with improved display quality in which patterning failure in the pixel electrode formed in the outermost peripheral pixel part of the display region can be eliminated.例文帳に追加

表示領域最外周画素部に設けられた画素電極のパターニング不良を無くし、表示品位の向上した液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a high-speed patterning method using electron beam lithography that reduces time for forming a total pattern including a ultra-fine circuit pattern with a high dimensional accuracy.例文帳に追加

高寸法精度で超微細な回路パターンを含んだトータルパターンの形成時間を短縮させる電子線描画を利用したパターンの高速加工方法を提供する。 - 特許庁

As a result, there is no need to conduct masking which avoids the exposed region of the high heavily-doped layer 30a, when patterning in a device forming process is performed.例文帳に追加

この結果、デバイス作製工程のパターン付けをする際は、この従来の高濃度不純物層３０ａの露出した領域を避けてマスキングする必要がない。 - 特許庁

In a semiconductor substrate wherein a stopper layer and a sacrifice layer are laminated, the surface of the sacrifice layer is oxidized to overlap a resist to the oxidized surface of the sacrifice layer, and patterning is performed.例文帳に追加

ストッパ層と犠牲層を積層した半導体基板において、犠牲層表面を酸化させてレジストを酸化した犠牲層表面までオーバーラップさせてパターニングを行う。 - 特許庁

The lithographic apparatus further includes a vibration measuring device configured to measure a relative vibration between the patterning device and the substrate during exposure onto the target portion.例文帳に追加

リソグラフィ装置はさらに、目標部分の露光の間にパターニングデバイスと基板との間の相対的振動を測定するよう構成された振動測定装置を備える。 - 特許庁

Thereby, etching speed of the ZnO-based transparent electrode can be made slow and improvement in controllability at the time of patterning can be achieved.例文帳に追加

本発明によれば、ＺｎＯ系透明電極のエッチング速度を遅くすることが可能になり、それによりパターニングの際の制御性の向上が図れるという効果がある。 - 特許庁

The forgery preventing medium includes a patterning optically anisotropic layer formed by discharging an ink composition containing a liquid crystal compound to an alignment layer by an inkjet method.例文帳に追加

液晶化合物を含有するインク組成物をインクジェット法により配向層上に吐出して形成したパターニング光学異方性層を有する偽造防止媒体。 - 特許庁

The porous conductive materials are connected on the metal support body and are adopted selective patterning in the pore to form the cell element part and the solid oxide fuel cell is obtained.例文帳に追加

金属支持体上に多孔質導電材を接合し、細孔内に選択的にパターニングして電池要素部を形成し、固体酸化物形燃料電池を得る。 - 特許庁

To provide a method and device for appropriately evaluating the deviation and overlapped region between first and second patterns formed by double patterning.例文帳に追加

本発明の目的は、ダブルパターニングによって形成される第１パターンと第２パターン間のずれ、重なり領域の評価を適正に行い得る方法，装置の提供にある。 - 特許庁

To provide a chemically amplified resist material capable of suppressing pattern defects of a chemically amplified resist film caused by base species from outside, and to provide a patterning method using the same.例文帳に追加

外部からの塩基種に起因する化学増幅レジスト膜のパターン欠陥を抑制できる化学増幅レジスト材料と、それを用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a highly practicable patterning process capable of forming a further finer pattern simply and efficiently and applicable to semiconductor manufacturing.例文帳に追加

より微細なパターンを簡便かつ効率的に形成可能であり、半導体の製造プロセスに適用することのできる、実用性の高いパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

At this time, more accurate patterning can be performed, because the end section 17T of a first thin film pattern 17 protected by the soluble layer 2 does not cause mold damage.例文帳に追加

この際、可溶層２によって保護される第１の薄膜パターン１７の端部１７Ｔが型くずれを生じないので、より正確なパターニングをおこなうことができる。 - 特許庁

When patterning the zinc oxide-based transparent conductive film by etching, the zinc oxide-based transparent conductive film is treated with water before the etching process.例文帳に追加

酸化亜鉛系透明導電膜をエッチングによりパターニングするに際し、エッチング工程より前に酸化亜鉛系透明導電膜を水で処理することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of dipping pen nano-lithography (DPN), a substrate processed by patterning by DPN, a kit for carrying out DPN, and an AFM chip coated by hydrophobic compound.例文帳に追加

「つけペン」ナノリソグラフィ（ＤＰＮ）の方法、ＤＰＮによってパターニングされた基板、ＤＰＮを行うためのキット及び疎水性化合物で被覆されたＡＦＭチップを提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR TRANSMISSION IMAGE DETECTION FOR USE IN LITHOGRAPHIC PROJECTION APPARATUS AND METHOD FOR DETERMINING THIRD ORDER DISTORTION OF PATTERNING DEVICE AND/OR PROJECTION SYSTEM OF SUCH A LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加

リソグラフィ投影装置で使用する透過像検出デバイス及びこのようなリソグラフィ装置のパターニングデバイス及び／又は投影システムの３次歪みを割り出す方法 - 特許庁

The mask holding system includes a support device and a holding device, wherein the holding device releasably couples a mask, e.g. a patterning device such as a reticle having a pattern, to the support device.例文帳に追加

マスク保持システムは、サポートデバイスおよび保持デバイスを含み、保持デバイスはマスク、例えば、パターンを有するレチクルなどのパターニングデバイスをサポートデバイスに取外し可能に結合する。 - 特許庁

In the patterning method for plating, the surface of a substrate is etched, irradiated with plasma using a pattern mask together, and then subjected to catalyst treatment and electroless plating.例文帳に追加

基材表面をエッチングした後、パターンマスクを併用して該基材表面にプラズマ照射し、次いで、キャタリスト処理を行った後、無電解めっきを行うめっきのパターニング方法。 - 特許庁

An STI element isolation layer 2 is formed on a semiconductor substrate 1, a gate oxide film 3 and a conductive film 4 are formed (a), the resulting laminate is subjected to a patterning process to form a gate electrode 5.例文帳に追加

半導体基板１上にＳＴＩ素子分離２を形成し、ゲート酸化膜３と導電膜４とを形成し（ａ）、これらをパターニングしてゲート電極５を形成する。 - 特許庁

To form a minute pattern without replacement of exposure equipment without the need of a flattening step between the cell region and the peripheral circuit region for a patterning step.例文帳に追加

パターニング工程のためにセル領域及び周辺回路領域間の平坦化工程を省略することができ、露光装備の交替なしに微細パターンを形成する。 - 特許庁

Thus, the rectilinear propagation property of the electron beam is not impaired, and the plotting accuracy for patterning the magneto-resistance effect film 42 by the electron beam lithography is improved.例文帳に追加

これにより、電子ビームの直進性が損なわれなくなり、電子ビームリソグラフィによって磁気抵抗効果膜４２をパターニングするための描画精度を向上させることができる。 - 特許庁

The patterning device MA provides a pattern in a cross section of a radiation beam to form a patterned radiation beam and comprises polarization sensitive features 44.例文帳に追加

パターニングデバイスＭＡは、放射ビームの断面内にパターンを与えることができてパターニングされた放射ビームを形成し、また、偏光感応フィーチャ４４を備えている。 - 特許庁

The TEOS oxide film 5 is processed to an intermediate pattern 5a of the first width D1 by patterning based on resist and a core material pattern 5b of the second width D2 is formed by slimming processing thereto.例文帳に追加

レジストによるパターニングでＴＥＯＳ酸化膜５を第１幅Ｄ１の中間パターン５ａに加工し、スリミング処理をして第２幅Ｄ２の芯材パターン５ｂを形成する。 - 特許庁

In either case, self-aligned double patterning processing may then be performed to produce product-like alignment marks with high contrast and wafer quality (WQ).例文帳に追加

いずれの場合も、その後、自己整合ダブルパターニングプロセスを実行して、高いコントラスト及びウェーハ品質（ＷＱ）を有する製品様アライメントマークを生成することができる。 - 特許庁