「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

By patterning the beam of projection radiation so that one region receives more radiation than the other region, the radiation sensor DS is given polarization selectivity.例文帳に追加

一方の領域がもう一方の領域より多く放射を受けるように、投射放射ビームをパターン化することによって、放射センサＤＳは偏光選択性が与えられる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element of which patterning of an organic El layer is easy and influence of a photo-catalyst is small.例文帳に追加

本発明は、有機ＥＬ層のパターニングが容易であり、かつ、光触媒の影響の少ないＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The method further includes forming of a resist pattern 8 on a hard mask 6, patterning of the hard mask 6 and the low permittivity film 4 with the resist pattern 8 as a mask, and forming of an opening 10.例文帳に追加

ハードマスク６上にレジストパターン８を形成し、このレジストパターン８をマスクとしてハードマスク６と低誘電率膜４をパターニングし、開口１０を形成する。 - 特許庁

To provide a substrate for optical waveguides which can perform high resolution core patterning, and to provide a manufacturing method of an optical waveguide using the substrate for an optical waveguide.例文帳に追加

高解像度のコアパターニングを行うことができる光導波路用基材、及びその光導波路用基材を用いた光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition capable of forming a resist film having a refractive index of ≥1.72 at a wavelength of 193 nm and capable of patterning.例文帳に追加

波長１９３ｎｍにおける屈折率が１．７２以上であり、かつ、パターンニング可能なレジスト膜を形成することが可能な感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The bank B is formed, by forming a thin film B0 of a bank-forming material on the substrate P, subjecting the surface to liquid repellent treatment, and then patterning the thin film.例文帳に追加

バンクＢは、基板Ｐ上にバンクの形成材料からなる薄膜Ｂ０を形成し、その表面に撥液処理を施した後、パターニングすることにより形成する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the biopolymer analytical chip 1, the solid imaging device 3 is formed at first by patterning double gate transitors 20, 20 on the transparent substrate 17.例文帳に追加

生体高分子分析チップ１を製造するには、まず透明基板１７上にダブルゲートトランジスタ２０，２０，…をパターニングすることによって、固体撮像デバイス３を形成する。 - 特許庁

Then, an upper aluminum thin film 4 is formed on the protective mask 3, and then a patterning mask 5 is formed on the surface of the upper aluminum thin film 4.例文帳に追加

次に、保護用マスク３の上層側に対してアルミニウム膜からなる上層側薄膜４を形成した後、上層側薄膜４の表面にパターニング用マスク５を形成する。 - 特許庁

A contractible material is used as a base of a photoresist master disk, a photoresist layer is formed thereon and patterning is executed to a shape corresponding to a signal, pit by using the LBR.例文帳に追加

フォトレジスト原盤のベースとして収縮可能な材料を用い、この上にフォトレジスト層を形成しＬＢＲを用いて信号ピットに対応する形状にパターニングする。 - 特許庁

To remove a resist mask together with its hardened superficial film, without damaging the organic base film after the organic film patterning, in the formation of an organic film pattern.例文帳に追加

有機膜パターンの形成において、有機膜のパターニング後に、下地の有機膜を損なうことなく、レジスト表面硬化膜を含むレジストマスクの除去を可能にする。 - 特許庁

The reticle for metal patterning has a scribe line, in a non-transmitting solid region (B) adjacent to the counter side of the side of the TEG pattern region adjacent to the region A.例文帳に追加

また、前記領域Ａと接しているTEGパターン領域の辺の対辺と接している光非透過ベタ領域（領域B）にスクライブラインを有する金属パターニング用レチクルとした。 - 特許庁

To obtain the subject resin having good water resistance and developability and having an excellent patterning property by adding specific structural unit each having a quaternized aromatic nitrogen-containing heterocyclic ring.例文帳に追加

耐水性、現像性が良好で、優れたパターニング性を有する感光性樹脂及び感光性樹脂組成物並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the patterning roll forms a transfer surface by using a flat, design pattern mold having the same design as an external wall and fabricating reverse molds in a plurality of times.例文帳に追加

外壁と同一意匠の平面状の意匠原型を用いて、反転型を複数回取ることで、転写面を形成する模様付けロールの製造方法である。 - 特許庁

ORGANIC THIN FILM PATTERNING SUBSTRATE AND ITS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC ELECTRIC FIELD LIGHT-EMITTING ELEMENT AND ITS MANUFACTURING METHOD, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, AND ORGANIC EL ILLUMINATION例文帳に追加

有機薄膜パターニング用基板およびその製造方法、有機電界発光素子およびその製造方法、並びに有機ＥＬ表示装置および有機ＥＬ照明 - 特許庁

Energy may be applied to the patterning device (for example, by thermal input or mechanical actuators) to modify a distribution of the local positional deviations and improve correction.例文帳に追加

パターニングデバイスにエネルギーを印加して（例えば、熱の投入又は機械的なアクチュエータによって）局所的位置偏差の分布を修正して補正を改善することができる。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION CONTAINING HYDROXY GROUP-SUBSTITUTED BASE POLYMER AND SILICON-CONTAINING CROSSLINKING AGENT HAVING EPOXY RING AND METHOD OF PATTERNING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

ヒドロキシ基で置換されたベースポリマーとエポキシリングを含むシリコン含有架橋剤を含むネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

To provide a transparent electrode film in which laser patterning is performed on a transparent conductive film without deteriorating the visibility of the transparent electrode film, and transparent touch panel.例文帳に追加

透明電極フィルムの視認性を損なうことなく、透明導電膜がレーザーパターニングされている透明電極フィルムおよびタッチパネルを提供することを目的とする。 - 特許庁

To accurately transfer a (electrode) patterning printed on a photomask to a piezoelectric substrate wafer when an electrode pattern of a surface acoustic wave element is formed.例文帳に追加

弾性表面波素子の電極パターン形成において、フォトマスクに印刷されている（電極）パターンニングを正確に圧電基板ウエハー上に転写することを目的とする。 - 特許庁

To increase the production yield by enhancing the patterning accuracy of electrodes, and to reduce an electrode loss by increasing the thickness of electrodes in an optical modulator.例文帳に追加

光変調器において、電極のパターニング精度を向上させて歩留りを向上させるのと共に、電極を厚くして電極損失を減少させることである。 - 特許庁

The patterning device includes first and second patterns having respective first and second optical proximity corrections corresponding to the first and second polarization directions.例文帳に追加

パターニング用デバイスは、第１および第２の偏光方向に対応する第１および第２の光近接効果補正をそれぞれ有する第１および第２のパターンを含む。 - 特許庁

To provide: a polymer for a resist suitable for dry exposure, immersion exposure, and double patterning; a resist material including the same; and a pattern formation method using the resist material.例文帳に追加

ドライ露光、液浸露光、ダブルパターンニングに適するレジスト用重合体、それを含むレジスト材料、ならびにそのレジスト材料を用いるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition showing excellent developability in patterning a calcined product thereof and showing excellent adhesiveness to a substrate and excellent interlayer adhesiveness after calcined.例文帳に追加

焼成物パターン形成において、現像性に優れ、焼成後の基板への密着性及び層間の密着性に優れた感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The lithography projection apparatus comprises a lighting system 40 designed to adjust radiation beams and a supporting member designed to support a patterning device MA.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システム４０およびパターニングデバイスＭＡを支持するように構成された支持体を有する。 - 特許庁

The method includes a stage S100 where, on and after the patterning of copper foil, the front face 40 and side face 50 of each copper foil mesh 80 are subjected to coating treatment with an electrically conductive substance 60.例文帳に追加

銅箔のパターン化以後、銅箔メッシュ８０の前面４０及び側面５０を導電性物質６０によってコーテイング処理する段階Ｓ１００を含む。 - 特許庁

To provide an ink composition for reverse printing which allows for printing with uniform thickness and high definition patterning, and to provide a printing method and a manufacturing method of a display device.例文帳に追加

均一な膜厚かつ高精細なパターニングで印刷を行うことができる反転印刷用インキ組成物，印刷方法および表示装置の製造方法を提供する - 特許庁

To prevent a previously formed resist pattern from being dissolved in a solvent of a resist material applied thereon without complicating a processing step in double patterning.例文帳に追加

ダブルパターンニングにおいて、処理工程を煩雑化させることなく、先に形成されたレジストパターンがその上に塗布されたレジスト材料の溶剤に溶けることを防止する。 - 特許庁

An interlayer insulating layer 60 is formed and a 2nd patterning process is performed to define a source/drain contact hole 66, a data line contact hole 68, and a terminal contact hole 65.例文帳に追加

層間絶縁層６０が形成され、第２パターン化プロセスが実行されてソース／ドレインコンタクトホール６６、データ線コンタクトホール６８、及びターミナルコンタクトホール６５が画定される。 - 特許庁

After a gate electrode forming film and a gate electrode cover film are formed on a semiconductor substrate, the gate electrode is formed by etching the gate electrode forming film by anisotropic etching and by using a gate electrode cover formed by patterning the gate electrode cover film as a mask.例文帳に追加

さらに、ゲート電極の細小化にともなってＬＤＤ構造のサイドウォール厚みを可変とした半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The first charge transfer electrode 35 is formed by patterning the first and second conductive layers 32 and 34 laminated in such a manner that the oxygen diffusing functional film 33 is sandwiched between the layers.例文帳に追加

酸素拡散性機能膜３３を挟んで積層された第１および第２導電体層３２，３４をパターニングして第１電荷転送電極３５を形成する。 - 特許庁

As shown in figure (f), a patterning mask 7 consisting of SiO2 is formed on a region, facing a recessed part 3 on the surface of a metal wiring film 6 by a photolithographic technique.例文帳に追加

図１(f) に示すように、金属配線膜６の表面の凹部３と対向する領域に、フォトリソグラフィ技術によって、ＳｉＯ_2からなるパターニング用マスク７を形成する。 - 特許庁

The first development tank 12 is provided with a drug solution atomization nozzle 36, the patterning tank 13 is provided with a drug solution atomization nozzle 37 and the residual dross removal tank 14 is provided with a drug solution atomization nozzle 38.例文帳に追加

第１現像槽１２は薬液噴射ノズル３６を、パターニング槽１３は薬液噴射ノズル３７を、残渣除去槽１４は薬液噴射ノズル３８を備える。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of enhancing the opening ratio of pixels due to the improving of patterning property without deteriorating electric characteristics of active switching elements and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

スイッチング能動素子の電気特性を低下させず、パタニング性向上による開口率のアップができる液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

After the patterning of the DCL layer 602, the negative type feature of the DLC layer is filled with a deposited metal and remained DCL layer is removed, then a second mask 1002 is produced.例文帳に追加

ＤＬＣ層６０２のパターニング後、ＤＬＣ層のネガ型特徴を堆積金属で充填し、残ったＤＬＣ層を除去した後、第二マスク１００２が生成される。 - 特許庁

To provide a display device provided by efficiently executing precise pixel patterning; and to provide a manufacturing method of the display device and a manufacturing device of the display device.例文帳に追加

高精細な画素パターニングを効率よく行うことによって得られる表示装置及び表示装置の製造方法並びに表示装置の製造装置を提供すること。 - 特許庁

A bottom side of the metal lead frame is subjected to patterning only after a front side including chips (140) and wires (160) is hermetically sealed, and chip pads and wire bond contacts (113) are insulated.例文帳に追加

チップ（１４０）とワイヤ（１６０）とを含む表側が気密封止されて初めて、金属リードフレームの底側はパターニングされて、チップパッドおよびワイヤボンド接点（１１３）を絶縁する。 - 特許庁

Since the magnetic force of the mask 10 does not work on the patterning-opening region 31 of the mask 30, a light-emitting unevenness can be prevented from occurring on the light-emitting layer by the magnetic force.例文帳に追加

マスク３０のパターニング開口領域３１にはマスク１０の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a screen mask for vapor deposition, capable of meeting the recent demand for high definition patterning and contributing to cost reduction, a vapor deposition method, and a method for manufacturing an organic EL(electroluminescent) device.例文帳に追加

高精細なパターニングに対応可能で、コスト低減に寄与することができる蒸着用スクリーンマスク、蒸着方法及び有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To speed up the quality test of the magnetic body patterning and stabilize the servo operation when a magnetic recording medium is loaded in a magnetic recorder.例文帳に追加

磁性体のパターニングの品質検査を高速化するとともに、磁気記録媒体を磁気記録装置に搭載した際のサーボ動作を安定化させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film by a CVD method which makes a large-scale evacuation device or a neutralization device unnecessary and which does not required a patterning process after forming a thin film.例文帳に追加

大掛かりな真空排気装置や無害化処理装置が不要であり、薄膜形成後のパターニング工程が不要な、ＣＶＤ法による薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter which hardly has peripheral gap unevenness at a low cost without patterning a transparent conductive film and a protection layer by making the contact strength of a seal part large.例文帳に追加

シール部の密着強度を強くすることにより、透明導電膜や保護層をパターニングすることなく、周辺ギャップムラが発生しにくいカラーフィルターを安価に提供する。 - 特許庁

The method of producing the container with the grip is carried out by patterning an outer peripheral surface of the main body 1, and integrally connecting the grip 2 to the main body 1 by double molding.例文帳に追加

また、この把手付き容器の製造方法は、外周面に模様を付した本体１に、二重成形により、把手２を一体に取り付けることとしている。 - 特許庁

To provide a patterning method of high production efficiency in high precision of an organic semiconductor layer or a thin film such as a conductive film, and to provide an organic TFT of high performance of high mobility and a method of manufacturing the organic TFT of high production efficiency in high precision.例文帳に追加

本発明の目的は、有機半導体層、または導電膜等薄膜の高精度で生産効率の高いパターニング方法を提供することにある。 - 特許庁

The effect of the cleaning action in the cleaning device is effectively increased by rotating the cleaning probe while the wafer is cleaned, and the occurrence of wafer patterning damages is suppressed to the minimum.例文帳に追加

ウェーハが洗浄される間に洗浄プローブを回転させることにより装置の洗浄作用を効果的に増加させ、ウェーハパターンダメージの発生は最小にする。 - 特許庁

To provide a multiple patterning wiring board excellent in partitivity which reduces the generation possibility of cracks, burrs and the like at the time of dividing a substrate into each wiring board region.例文帳に追加

基板を各配線基板領域に分割する際に、クラックやバリ等が発生する可能性を低減させ、分割性に優れた多数個取り配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a thick film capable of patterning in a great film thickness and to provide a a multicolor light emitting device using the manufacturing method and a screen printing plate using the device.例文帳に追加

高膜厚でパターニングできる厚膜の製造方法を提供し、前記製造方法を利用した多色発光装置とこれに用いるスクリーン印刷版を提供する。 - 特許庁