「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

To eliminate adverse effects on the positional precision of a pattern caused by radiant heat as much as possible with respect to a mask for vapor deposition, and to allow it to cope with high precision patterning.例文帳に追加

蒸着用マスクにおいて、輻射熱によるパターン位置精度に対する悪影響を極力排除することができ、高精度なパターニングに対応することを可能にする。 - 特許庁

To provide a thermosetting or photo-curable resin capable of forming a cured material having a high refractive index, excellent heat resistance and electric characteristics, and also excellent in patterning property.例文帳に追加

屈折率が高く、優れた耐熱性および電気特性を有し、かつパターニング性に優れた硬化物を形成し得る熱硬化性あるいは光硬化性の樹脂を提供することにある。 - 特許庁

To provide a display element and its manufacturing method in which characteristics of a low cost, a high throughput and a wide selection of optical materials are maintained and a patterning precision is improved.例文帳に追加

表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

The uppermost layer of the dielectric multilayered film 10 is divided into first regions 11 of the high refractive index dielectric layer and second regions 12 of the low refractive index dielectric layer by patterning.例文帳に追加

誘電体多層膜１０の最上層を、高屈折率誘電体層の第１領域１１と低屈折率誘電体層の第２領域１２とにパターニングで分割した。 - 特許庁

To quickly perform patterning processing by generating intermediate codes for performing quick color space conversion processing in accordance with the kind and size of picture data inputted from a master device.例文帳に追加

上位装置から入力された画像データの種類や大きさに応じて高速な色空間変換処理を行なえる中間コードを生成し、描画処理を高速に行なう。 - 特許庁

To provide a protective film forming composition suitable for liquid immersion exposure, the composition preventing decrease in the transmittance of an immersion liquid and degradation in a resist profile, and to provide a patterning method using the composition.例文帳に追加

液浸液の透過率が低下せず、レジストプロファイルが劣化しない、液浸露光に好適な保護膜形成組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。 - 特許庁

Because the temperature for depositing an ITO film can be controlled to ≥200°C in the above constitution, the obtained ITO film has favorable resistivity and transmittance and improved patterning characteristics.例文帳に追加

この構成により、ＩＴＯ成膜時の温度を２００℃以上とすることができるため、比抵抗及び透過率の良好なＩＴＯ膜が得られ、ＩＴＯ膜のパターニング特性も向上する。 - 特許庁

To reduce patterning defects in device fabrication caused by sticking of oxidation foreign matter by removing the oxidation foreign matter sticking on the reverse surface of a substrate through a high-temperature oxidation heat treatment.例文帳に追加

高温酸化熱処理で基板裏面に付着した酸化異物を除去し、この付着酸化異物を起因として生じていたデバイス作製時のパターニング不良を低減できる。 - 特許庁

To obtain both an adhesive composition having high adhesion to a substrate and capable of exhibiting good patterning performances without problems such as deposition and a heat-resistant photosensitive resin composition using the adhesive.例文帳に追加

基板との高い接着性を有し、析出等の問題が無く、良好なパターニング性能を発揮する接着剤、それを用いた耐熱性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

When the polysilicon layer 13 is subjected to patterning through the same dry etching process, the impurity-doped region 131 is etched sooner than the non-doped region 132 due to an etching rate difference.例文帳に追加

このようなポリシリコン層１３を同一のドライエッチング工程でパターニングする場合、エッチングレートの違いから不純物のドープされた領域１３１の方が早くエッチングされてしまう。 - 特許庁

Consequently, the semiconductor device is provided which has extremely less breaking of the gate electrode, has improved resist patterning precision in a gate electrode forming process, and has small characteristic variance in a wafer surface.例文帳に追加

ゲート電極の断線が極めて少なく、ゲート電極形成工程におけるレジストパターニング精度が改善された、ウェハ面内の特性ばらつきの少ない半導体装置を実現している。 - 特許庁

After an n-type buried diffused layer 101 is formed in the upper part of a substrate 100, a base opening 110 is formed by patterning an insulating film 108 and an undoped polysilicon layer 109.例文帳に追加

基板１００の上部にＮ型埋め込み拡散層１０１を形成し、絶縁膜１０８およびアンドープポリシリコン層１０９のパターニングを行ないベース開口部１１０を形成する。 - 特許庁

Selective MOVPE growth is conducted, by using a patterning substrate, and an active layer and an optical waveguide layer are formed directly.例文帳に追加

ＩｎＰ上に選択ＭＯＶＰＥ成長用の酸化膜によるマスクパターンを形成し、パターニング基板を用いて選択ＭＯＶＰＥ成長を行い、活性層と光導波路層を直接形成する。 - 特許庁

To finely form a gate opening for introducing impurities for forming unsymmetrical transistors at the time of patterning a gate electrode by preventing the generation of a residual resist in the gate opening.例文帳に追加

ゲート電極パターニング時に非対称トランジスタを形成するための不純物導入用のゲート開口部を微細に形成する際に、ゲート開口部にレジスト残りが生じるのを回避する。 - 特許庁

The manufacturing method is such that a capacitor lower electrode layer 113, a ferroelectric film 114 and a capacitor upper electrode layer 115 are formed in this order, and a dry etching using a photo resist 116 and a patterning follow.例文帳に追加

容量下部電極層１１３、強誘電体膜１１４、および容量上部電極層１１５をこの順で成膜した後、フォトレジスト１１６を用いてドライエッチングし、パターニングする。 - 特許庁

Subsequently, a resin layer 4 is formed by patterning a resist layer applied on the refractive index control film 3 and a resin layer 5 having a curved outer surface is formed by heat treatment of the resin layer 4.例文帳に追加

次いで、屈折率制御膜３上に塗布したレジスト層をパターニングして樹脂層４を形成し、樹脂層４を熱処理して外表面が曲面状の樹脂層５を形成する。 - 特許庁

With this, the transparent electrode 2 with excellent etching workability can be formed while maintaining low resistance characteristics and high heat resistance, and patterning at the time of integration can be easily carried out.例文帳に追加

これにより、低抵抗特性や高耐熱性を維持しつつ、エッチング加工性に優れた透明電極２を形成することができ、これにより、集積化時のパターニングが容易に行なえる。 - 特許庁

Then an interlayer insulating film 3b is formed, and a contact hole 4 to connect the aforementioned signal wiring 2 and the reflection electrode to be formed in the succeeding process is formed by patterning.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜３ｂが形成され、上記信号配線２と後の工程で形成される反射電極との接続のためのコンタクトホール４が、パターニングにより形成される。 - 特許庁

To improve the accuracy of patterning while maintaining characteristics, such as low cost, high throughput and a high degree of freedom of optical materials in a display element and its method of manufacturing.例文帳に追加

表示素子及びその製造方法において、低コスト、高スループット及び光学材料の自由度が高いこと等の特徴を維持しつつ、パターニングの精度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

The substrate processing method comprises a step for providing the substrate, a step for forming the thin film on the substrate, and a step for patterning the thin film in the same device by using a laser.例文帳に追加

その基板処理方法は、基板を与える段階、基板上に薄膜を形成する段階、及び薄膜を同一装置内においてレーザを用いてパターニングする段階を有する。 - 特許庁

To suppress the reduction of characteristics of a grounding layer of a layer to be irradiated with light, and the reduction of characteristics of a functional thin film when carrying out the minute patterning of the functional thin film by the irradiation with the light.例文帳に追加

光を照射して機能性薄膜の微細パターニングを行う場合に、光を照射する層の下地層の特性低下及び機能性薄膜の特性低下を抑制すること。 - 特許庁

Thus, when patterning data related to the execution of the step notice performance beforehand and holding them, the increase of the data capacity is suppressed even when the step notice performance is diversified.例文帳に追加

したがって、段階予告演出の実行に係るデータを予めパターン化して保持する場合、段階予告演出が多様化されてもデータ容量の増加を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a substrate for a display device capable of suppressing the occurrence of damage in a reflective layer in a resist peeling step for patterning the reflective layer, and to provide a liquid crystal display device.例文帳に追加

反射層をパターニングするためのレジスト剥離工程において反射層にダメージが発生するのを抑制することができる表示装置用基板及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical clock recovery device that can effectively provide a solution to provide a short acquisition time Ta more decreasing a transmission time Te of a payload preamble and reduce a patterning effect.例文帳に追加

効果的であり、ペイロードプリアンブルの伝送時間Ｔｅより短くできる短い獲得時間Ｔａを提供する解決策を提供する一方、パターニング効果を低減すること。 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern, which prevents pattern collapse of the mask pattern by omitting an etching process of an antireflection film when forming the mask pattern by a Side Wall Patterning (SWP) method.例文帳に追加

ＳＷＰによりマスクパターンを形成する場合に、反射防止膜のエッチング工程を省略し、マスクパターンのパターン倒れを防止することができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic induction-type power generation element having an electret which is superior in thermal stability of the retained charge and is constituted of a film formed by patterning, and to provide a method of manufacturing the element.例文帳に追加

保持した電荷の熱安定性に優れた、パターニングにより形成された膜から構成されるエレクトレットを具備する静電誘導型発電素子およびその製造方法の提供。 - 特許庁

The liquid crystal display device may include a protrusion on the peripheral area by patterning an organic film on the peripheral area by using a half-tone mask.例文帳に追加

本発明の一実施形態による液晶表示装置は、ハーフトーンマスクを用いて周辺領域の有機膜をパターニングすることにより、周辺領域に突出部を含むことができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a copper coating polyimide film substrate, which does not have a minute depression on a metal layer surface, and to decrease depressions on a metal layer surface and defects at patterning of wiring.例文帳に追加

金属層表面に微小な凹みが無い銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法を提供し、金属層表面の凹みや配線パターニング時に欠陥を減少させる。 - 特許庁

The resulting pattern may be used in a projection lithography apparatus having a programmable patterning means that is adapted to generate three or more intensity levels.例文帳に追加

その結果得られるパターンは、３つ以上の強度レベルを生成するように適合されたプログラム可能なパターン形成手段を備える投影リソグラフィ装置内で使用することができる。 - 特許庁

An electronic element having at least one material among a conductive material, a semiconductor material and an insulating material, a circuit board, an electronic device and an electrooptic device are manufactured by a patterning apparatus 1.例文帳に追加

導電材料、半導体材料、絶縁材料のうちの少なくとも一つの材料を備えた電子素子、回路基板、電子装置、電気光学装置を、パターニング装置１で製造する。 - 特許庁

The patterning opening has a center part 361 and a plurality of wing parts 362 that extend outwardly from the edge of the center part and defines an exposure region with an electrically conductive structure into a solder pad 38.例文帳に追加

パターン化開口は中央部３６１と中央部周縁から外に延伸する複数の翼部３６２を有し、導電構造の露出領域を定義してソルダーパッド３８とする。 - 特許庁

A resist film is formed at a side of bonding surface of the nozzle substrate 1, and patterning is performed to remove the resist film at a portion to become a first nozzle hole 10a or the outer peripheral side surface 14a of the chip.例文帳に追加

ノズル基板１の接着面側にレジスト膜を形成し、第１ノズル孔１０ａ、チップ外周側面１４ａとなる部分のレジスト膜を除去するパターニングを行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL element capable of color-coding, of executing low-cost and large-area patterning, of simply forming organic compound layers, and of increasing the number of layers thereof.例文帳に追加

塗り分けが可能で、低コストで大面積のパターニングが可能であり、簡便に有機化合物層の作成と多層化を行うことができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminate for use in an HDD suspension that excels in such properties as adhesive strength, heat resistance, flatness, and dimensional stability, and allows fine patterning on an electrically conductive layer and a polyimide resin layer.例文帳に追加

接着力、耐熱性、平坦性、寸法安定性等の特性が優れ、導体層やポリイミド系樹脂層の微細なパターニングが可能なＨＤＤサスペンション用積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter substrate which is free of a problem of pattern precision in patterning or a problem of color unevenness or color absence on a surface when a color layer uses, especially, pigment.例文帳に追加

特に顔料を用いたカラー層の場合に、パターニング時にパターン精度に問題が発生しない、あるいは面内の色ムラや色抜けの問題が生じないカラーフィルタ基板を提供すること。 - 特許庁

In an adhesive layer patterning process 203, a part of the adhesive layer formed on the plate corresponding to the opening section is physically removed by an ultrasonic wave in a liquid.例文帳に追加

次に、接着層パターニング工程２０３で、プレート上に形成されている接着層における開口部上に対応した部分を、液中超音波にて物理的に除去する。 - 特許庁

On the board 1 for forming a wiring pattern, a wiring pattern is formed, by patterning a material 30 for forming a wiring which is arranged on an upper surface with opening portions 2 formed.例文帳に追加

開口部２が形成された上面に配置される配線形成用材料３０をパターニングすることで、配線パターンが形成される配線パターン形成用基板１である。 - 特許庁

To provide a patterning method for a multi-layered resist film and a manufacturing method for a semiconductor device that can improve reliability of the semiconductor device and shorten an etching stage.例文帳に追加

半導体装置の信頼性を向上させるとともに、エッチング工程を短縮化することが可能な、多層レジスト膜のパターニング方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The flexible zone includes at least a portion of the flexible membrane 20 and a conductor 22 formed by patterning the conductor membrane at a suitable stage in the manufacturing method.例文帳に追加

可撓性領域は、可撓性薄膜２０の少なくとも一部分と、製造方法の適切な段階で導体薄膜をパターン化することにより形成した導体２２とを有する。 - 特許庁

To finally form a desired dimension of pattern on a wafer in performing patterning a plurality of times with respect to a film to be treated, and to secure uniformity in the pattern dimension in a wafer surface.例文帳に追加

被加工膜に対し複数回のパターニングを行うにあたり、ウェハ上に最終的に所望の寸法のパターンを形成し、またウェハ面内のパターン寸法の均一性を確保する。 - 特許庁

A separate color filter pattern is formed at an upper part of a gate pad electrode to prevent it that the gate pad and the data pad are exposed to the chemicals for patterning the color filter.例文帳に追加

そして、ゲートパッド電極の上部に別途のカラーフィルターパターニングを形成して前記カラーフィルターをパターニングする薬液によってゲートパッド及びデータパッドが露出されるのを防ぐ。 - 特許庁

To conduct drilling and patterning at high speed and with high accuracy without stopping a machining table, by using a pulse output laser, using no dedicated scale, and using a device of simple composition.例文帳に追加

パルス出力レーザを使用して、専用のスケールを用いることなく、簡単な構成で、加工テーブルを停止することなく、穴あけ加工やパターニングを高速且つ高精度で行なえるようにする。 - 特許庁

To provide for forming a fine pattern of a semiconductor device utilizing a double patterning process, which achieves a contact hole pattern of a fine pitch exceeding the resolution limit in a photolithography process.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程での解像限界を超える微細ピッチのコンタクトホールパターンを実現可能な、ダブルパターニング工程を利用する半導体素子の微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The master disk for the optical disks including a glass substrate 70 and a chromium film 71 which is formed on this glass substrate 70 and is subjected to patterning to the prescribed shapes corresponding to the tracks of the optical disk is provided.例文帳に追加

ガラス基板７０と、前記ガラス基板７０上に形成され、光ディスクのトラックに対応する所定形状にパターニングされたクロム膜７１とを含む光ディスク用原盤とする。 - 特許庁

A gas sensor 2 detects a plurality of kinds of gases outside a vehicle, and a computation means 8 controls an outside air switching device 11 by patterning a plurality of output signals from the gas sensor.例文帳に追加

ガスセンサ２は、車両外部の複数種類のガスを検出し、演算手段８は、ガスセンサからの複数の出力信号をパターン化して外気切替装置１１を制御する。 - 特許庁