「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(50ページ目) - Weblio英語例文検索

These display devices 5 differ in the positioning direction by an integral multiple of 90 degrees, and patterning by exposure is carried out by turning the same photomask by an integral multiple of 90 degrees.例文帳に追加

これらの表示装置は基板上で９０度の整数倍だけ位置取りの方向が異なり、同一のフォトマスクを９０度の整数倍だけ回転させて露光することによりパターニングを行う。 - 特許庁

In a process (a), after forming an insulation film 2 and a diffusion layer 3 on a silicon substrate 1, a gate oxide film is formed on the surface of the diffusion layer 3 to form thereon a gate electrode 4 by its patterning.例文帳に追加

工程（ａ）は、シリコン基板１上に絶縁膜２と拡散層３とを形成し、拡散層３の表面にゲート酸化膜を形成してパターンニングにより前記ゲート電極４を形成する。 - 特許庁

The substrate 14 and the ejection head 33 move relatively in two orthogonal directions to form a pattern, and ejection is controlled such that the thickness of the pattern becomes larger than the surface roughness of the patterning surface.例文帳に追加

基板１４と噴射ヘッド３３は直交する２方向に相対移動してパターンを形成し、パターンの厚さをそのパターンが形成される面の表面粗さ以上の厚さとなるべく噴射制御する。 - 特許庁

To provide a positive resist material having both chemical amplification and non-chemical amplification functions, which has high sensitivity and high resolution in exposure with high-energy radiation, and a patterning process using the same.例文帳に追加

高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有する化学増幅機能と非化学増幅機能の両方を有するポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the step of forming the insulating film 30, the layer 30 is caused to deposit on the area by projecting an ion beam of a gas containing a rare gas as the main component upon the substrate after the patterning step is performed.例文帳に追加

絶縁層３０を成膜する工程では、前記パターニング段階の後の前記基体に向けて希ガスを主成分とするガスのイオンビームを照射しつつ、絶縁層３０を堆積させる。 - 特許庁

In an organic EL element inspection method, ultraviolet rays are condensed for spot irradiation, thus detecting patterning positions and emission colors in each emission layer, in an organic film arranged for each pixel.例文帳に追加

有機ＥＬ素子検査方法において、紫外光を集光してスポット照射することにより、画素ごとに配列された有機膜の各発光層におけるパターニング位置及び発光色を検出する。 - 特許庁

A wiring layer 17 obtained by patterning a conductor layer having a uniform film thickness such as a copper foil into a predetermined wiring pattern is bonded on one main surface of a base film 16 with an adhesive layer 18 disposed therebetween.例文帳に追加

ベースフィルム１６の一方の主面に銅箔等の均一な膜厚の導体層を所定の配線パターンにパターニングして得られる配線層１７が接着剤層１８により貼着されている。 - 特許庁

Continuously, the polycrystalline silicon film used as a control gate 5 is allowed to grow, the control gate 5 is formed by patterning, and a region 6 that becomes drain and source regions is formed for manufacturing a nonvolatile semiconductor memory.例文帳に追加

続けてコントロールゲート５となる多結晶シリコン膜を成長させ、コントロールゲート５を、パターンニングにより形成し、ドレイン、ソース領域となる領域６を形成して不揮発性半導体メモリを製造する。 - 特許庁

To provide a nano gap electrode having a gap width of ≤100nm, ≤50nm in particular, by using technique of patterning precision of a micron order degree without using a wet process of light exposure, electronic beam exposure, etc.例文帳に追加

光露光や電子ビーム露光などのウェットプロセスを用いることなく、ミクロンオーダー程度のパターンニング精度の技術を用いて、１００ｎｍ以下、特に５０ｎｍ以下のギャップ幅のナノギャップ電極を提供する。 - 特許庁

As compared with a case having a scanning stage on each head, processes can be simplified, patterning time can be shortened and the acceleration of pattern formation can be realized.例文帳に追加

これにより、各ヘッド毎に走査ステージを有する場合と比較して、工程を簡略化することができると共に、パタニング間の時間を短縮することができ、パターン形成の高速化を実現することができる。 - 特許庁

Next, the second organic film 105 is etched away using the second resist masks 109 as the masks for patterning the second organic film 105 as well as removing the first and second resist patterns 107, 109.例文帳に追加

第２の有機膜１０５に対して第２のレジストマスク１０９をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜１０５をパターン化すると共に第１及び第２のレジストパターン１０７、１０９を除去する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium in which reactivity between a magnetic layer and reactive plasma or ions during the formation of a magnetic recording pattern is enhanced and the blur of an image in the patterning is hardly generated.例文帳に追加

磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning a transparent conductive film by which an excessive photo lithography step can be eliminated, high productivity be realized, and a high-quality multilayer thin film be also realized.例文帳に追加

余分なフォトリソグラフィー工程を省略し高生産性を実現すると同時に高品質の多層薄膜を実現することができる透明導電膜のパターニング方法を提供することを目的とする - 特許庁

The multiple patterning circuit board 100 is provided with a plurality of through-holes 105 for vacuum-sucking the mask for solder ball alignment in the state of being dispersed to be a uniform density.例文帳に追加

多数個取り配線基板１００には、はんだボール整列用マスクを真空吸着するための複数の貫通孔１０５が均等な密度となるように分散させた状態で設けられている。 - 特許庁

Furthermore, after the adhering layer 14A, the reflecting layer 14B and the barrier layer 14C are all formed, the first electrode 14 is formed by patterning one by one from the barrier layer 14C side.例文帳に追加

第１電極１４は、平坦化層１３の上に、密着層１４Ａ，反射層１４Ｂおよびバリア層１４Ｃをすべて形成したのちに、バリア層１４Ｃ側から順にパターニングすることにより形成される。 - 特許庁

Thereafter, adhesion of a barrier 66 of a pressure room, patterning of the PZT piezoelectric membrane 63, forming of an individual electrode 67 and adhesion of a nozzle plate 68, are performed to prepare a liquid pressure cylinder 60 (Fig.5 (G)-(I)).例文帳に追加

その後、圧力室隔壁６６の接着、ＰＺＴ圧電膜６３のパターン化、個別電極６７の形成、及びノズルプレート６８の接着を行って液圧シリンダ６０を作製する（図５（Ｇ）〜（Ｉ））。 - 特許庁

That is, the electrode strips 19 and the dielectric strips 21a are multi-layered in the direction parallel to the substrate surface, thereby facilitating the multi-layering in the ceramic capacitor by a known patterning technology.例文帳に追加

すなわち、電極片１９と誘電体片２１ａとは基板面に対して平行な方向に沿って多層化されているため、公知のパターニング技術によって容易にセラミックコンデンサの多層化が実現される。 - 特許庁

To obtain an electroconductive resin composition capable of patterning a fine shape and forming an electroconductive resin film having heat resistance, solvent resistance and mechanical strengths, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

微細な形状にパターニングすることができ、耐熱性、耐溶剤性、及び機械的強度を有する導電性樹脂膜を形成しうる導電性樹脂組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a fine pattern of a semiconductor device capable of forming a fine pattern having a line thickness of 60 nm or less by preventing the deformation when patterning a hard mask.例文帳に追加

ハードマスクをパターニングする際の変形を防止することにより、線幅が６０ｎｍ以下の微細パターンを形成することができる半導体素子の微細パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

An upper layer light shielding Al film 9a formed by patterning an Al film being used in the upper layer Al film 9b for the pat of a TEG is provided on the source-drain regions 5a and 5b of the monitor transistor.例文帳に追加

ＴＥＧのパット用上層Ａｌ膜９ｂに用いられるＡｌ膜をパターニングして形成された遮光用上層Ａｌ膜９ａを、モニタ用トランジスタのソース／ドレイン領域５ａ、５ｂ上に設ける。 - 特許庁

In the substrate where patterning is performed using this mask, a movable region of the carrier consisting of the protruded section in the active layer expanded to the outside from the channel region (i.e., a leakage region) is contracted.例文帳に追加

このマスクを用いてパターニングされた基板では、チャンネル領域から外に拡がる活性層の上記の突出部分から成るキャリアの移動可能領域（すなわち漏れ領域）が縮小する。 - 特許庁

When the conductive film 36 or the ferroelectric film 32 is subjected to patterning through lithography, exposure incident light is never reflected in various directions, so that a desired pattern can be formed as designed.例文帳に追加

フォトリソグラフィーにより導電膜３６や強誘電体膜３２をパターニングする際に、露光入射光が色々な方向に反射することなく、設計通りの所望のパターンを形成することができる。 - 特許庁

A wiring 350 consists of a reflection conductive film 352 having grains larger than that of the reflection film 302 and a transparent conductive film 354 formed by patterning the same layer as the segment electrode 314.例文帳に追加

一方、配線３５０は、反射膜３０２よりも結晶粒子が大きい反射性導電膜３５２とセグメント電極３１４と同一層をパターニングした透明導電膜３５４との積層膜からなる。 - 特許庁

The method also comprises the steps of patterning the crystalline silicon film, forming an insular silicon region, forming a gate insulating film on the insular silicon region, and forming a gate electrode on the gate insulating film.例文帳に追加

そして前記結晶性シリコン膜をパターニングし、島状シリコン領域を形成し、前記島状シリコン領域上にゲート絶縁膜を形成し、前記ゲート絶縁膜上にゲート電極を形成する。 - 特許庁

A bottom and/or a top of a plurality of lateral conductors 1a to 1q ajacent in a winding direction of one side or both sides of coil are connected by conductors 36 and 37 formed by patterning.例文帳に追加

片側または両側のコイル巻心方向に隣接する複数本の側面導体１ａ〜１ｑの下端または／および上端をパターニングにより形成された導体３６、３７により接続する。 - 特許庁

A semiconductor fine patterning technique is used for a ceramic or organic substrate to meander or U-shape line patterns of an unbalanced-side transmission line 50ubl and balanced-side transmission lines 50bl-a, 50bl-b.例文帳に追加

セラミックや有機基板等に半導体微細パターニング技術を用いて、不平衡側伝送線路５０ublと平衡側伝送線路５０bl-a，５０bl-bの線路パターンをメアンダ形状やコの字形状等とする。 - 特許庁

To provide a thin film transistor fabricated by a patterning method having a capability of forming a semiconductor channel layer of a submicron order, and a manufacturing method having mass productivity adaptable to a large area.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの半導体チャネル層形成能力をもつパターニング方法により作製された薄膜トランジスタの提供、および大面積化に対応でき量産性のある製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display and the display wherein patterning can be made on a large-area substrate with a simple process, and improve light-emitting characteristics of the light-emitting layer.例文帳に追加

簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。 - 特許庁

This SMC containing an unsaturated polyester resin, a reinforcing fiber, a cross-linking agent and a curing agent is provided by containing a banded reinforcing fibers by a banding agent, for patterning.例文帳に追加

不飽和ポリエステル樹脂と補強繊維、並びに架橋性剤と硬化剤を含有するシートモールディングコンパウンド（ＳＭＣ）において、結束剤により結束された補強繊維を含有させて柄付けされているものとする。 - 特許庁

When a patterned thin film is formed using a photoresist method; one surface of the thin film 200 before the patterning is treated by a treating solution 300 containing lactate, and then a photoresist mask is formed.例文帳に追加

フォトレジスト法を用いてパターン化された薄膜を形成するに当たり、パターン化前の薄膜２００の一面を、乳酸エステルを含有する処理液３００で処理し、その後に、フォトレジストマスクを形成する。 - 特許庁

In this way, the step for patterning the gate 7c of the peripheral transistor 50 and a step for forming the contact hole 12 in the select gate transistor 40 can be performed concurrently, and the manufacturing operation can be simplified.例文帳に追加

これにより、周辺トランジスタ５０のゲート７ｃをパターニングする工程と、セレクトゲートトランジスタ４０におけるコンタクトホール１２を形成する工程とを兼用でき、製造工程の簡略化が図れる。 - 特許庁

The functional liquid-drawing-in protrusion Ip is formed together with the insulation membrane I by patterning a silica membrane without installing an exclusive layer, a composing material for that layer, or a manufacturing process.例文帳に追加

機能液引込み突起Ｉｐは、専用のレイヤ及びそのレイヤの構成材料、製造工程を設けることなく二酸化ケイ素膜をパターニングすることによって絶縁膜Ｉと共に形成される。 - 特許庁

A sacrificial film is formed on a floating gate film formed on a semiconductor substrate and patterning is performed thereon, so that a sacrificial film pattern is formed which has an opening exposing a part of the floating gate film.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたフローティングゲート膜上に犠牲膜を形成しパターニングして前記フローティングゲート膜の一部を露出させる開口部を有する犠牲膜パターンを形成する。 - 特許庁

A patterning device for the mask etc., used for a photolithographic apparatus includes a blank layer, a layer of patterned opaque materials existing on the surface of the blank layer and a pellicle of perfluoropolyether (PFPE) liquid covering the surface.例文帳に追加

フォトリソグラフィ装置に使用するマスクなどのパターニング・デバイスは、素材層と、素材層の表面上にあるパターン状不透明材料の層と、表面を覆う過フルオロポリエーテル（ＰＦＰＥ）液のペリクルとを含む。 - 特許庁

The method also comprises the steps of forming a second polysilicon film 154A to become a second transfer electrode 156 on the film 154, and forming a second transfer electrode 156 by patterning the film 156A.例文帳に追加

そして、この層間絶縁膜１５４の上に第２転送電極１５６となる第２ポリシリコン膜１５６Ａを成膜し、これをパターニングすることにより、第２転送電極１５６を形成する。 - 特許庁

Next, an ITO film in an amorphous state at normal temperatures is stacked on the gate insulating film and a data line and a drain electrode are formed by patterning in a wet etching process that utilizes a photosensitive film pattern.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜上に常温で非晶質状態のＩＴＯ膜を積層して感光膜パターンを利用した湿式エッチング工程でパターニングして、データ線及びドレイン電極を形成する。 - 特許庁

To execute good patterning at an overall etching face by suppressing a surface roughness of the overall etching face and generation of micropyramids in a method for manufacturing ink jet heads of an electrostatic driving form.例文帳に追加

静電駆動方式インクジェットヘッドの製造方法において、全面エッチング面の表面粗さ及びマイクロピラミッドの発生を抑えることにより、全面エッチング面での良好なパターニングを行う。 - 特許庁

To provide a resist coating device capable of coating resist so as to be able to make reliable patterning among existing patterns without alignment shift even in a base having very minute level differences.例文帳に追加

非常に微細な段差を有する下地においても、アライメントのずれが起こらず、かつ、確実に既存パターンの間にパターニングすることが可能なようにレジストを塗布できるレジスト塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provide lamination equipment for improving a lamination property and patterning in a laser thermal transfer process by improving a method for fixing a donor substrate and a substrate inside a thermal transfer device.例文帳に追加

熱転写装置内においてドナー基板と基板の固定方法を改善することによって、ラミネーション特性及びレーザ熱転写工程のパターニングを改善させることができるラミネーション装備を提供する。 - 特許庁

To pattern a transparent conductive thin film laminated product comprising a transparent, high-refraction factor thin film layer and a transparent metal thin film layer by a fine patterning dry etching method.例文帳に追加

透明高屈折率薄膜層と透明金属薄膜層からなる透明導電性薄膜積層体を反応ガスを用いたドライエッチング手法により、微細なパターニドライエッチング法を用いてパターニングする。 - 特許庁

To prevent wrinkles from being formed on the rear surface of a part becoming a product later at the time of press molding for patterning the surface of a green sheet formed into a hollow state by the extrusion of a cement material.例文帳に追加

セメント材料の押出により中空状に形成されたグリーンシートの表面に模様付けをするプレス成形時に、後に製品となる部分の裏面にしわが発生するのを防止する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing power semiconductor device, with which reduction of the number of steps for patterning both sides of a semiconductor substrate can be realized and cost reduction is realized.例文帳に追加

半導体基板両面のパターニングを行なう際の工程数を削減し、コストダウンを図ることが可能となるパワー半導体装置の製造方法及びパワー半導体装置の製造装置を提供すること。 - 特許庁

A lithographic apparatus for use in the process may comprise an exposure tool having a single illuminator and a single patterning device that is imaged through a single exposure slit onto a scanning substrate.例文帳に追加

このプロセスで使用するためのリソグラフィ装置は、単一のイルミネータと、単一の露光スリットを介して、スキャンする基板上に結像される単一のパターニングデバイスとを有する露光ツールを備えることができる。 - 特許庁

The adhesion spacers consist of a photosensitive resist material which can exhibit adhesion force at the interface between the adhesion spacers and the liquid crystal display substrates and can be used for patterning of photolithography.例文帳に追加

前記接着スペーサは、前記液晶表示基板との界面にて接着力を発揮することが可能であって、フォトリソグラフィのパターニングに使用することの可能な感光性レジスト材料より成る。 - 特許庁

It becomes possible to make the magnetic field from a recording head converge on protruding parts of soft magnetism by performing patterning while synchronizing the soft magnetism backing layer of a perpendicularly two layered recording medium with the period of recording bits.例文帳に追加

垂直二層記録媒体の軟磁性裏打層を記録ビットの周期に同期させてパターニングすることにより、記録ヘッドからの磁場を軟磁性の凸部に収束させることが可能になる。 - 特許庁