「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

The clamp is constructed so that the temperature control unit is isolated from the support by a flexible connector to assure that the vibration, contraction and expansion of the temperature control unit do not affect the patterning device and/or the substrate.例文帳に追加

クランプは、温度制御部分の振動、収縮及び膨張がパターニングデバイス及び／又は基板に影響しないように、可撓性コネクタで支持部分から温度制御部分を機械的に隔離するように構築される。 - 特許庁

An auxiliary capacitor CSC is composed of an active layer 42 of a TFT, a silicon thin film 43 as a common layer, an auxiliary capacitance line formed by patterning a 1st metallic layer 46 laminated across a gate insulating film 44.例文帳に追加

ＴＦＴの能動層４２と共通層であるシリコン薄膜４３とゲート絶縁膜４４を介して積層された第１金属層４６をパターン化した補助容量ラインとにより補助容量ＣＳＣを構成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a color filter using a negative type photosensitive composition containing colorants for the color filter, the method for manufacturing the color filter realizing satisfactory patterning and having high hardenability resulting in reduced change in film thickness and dispersion.例文帳に追加

カラーフィルター用の着色剤を含有するネガ型感光組成物を用いた、パターニングが良好で、かつ高い硬化性により膜厚変化や分光変化を低減したカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for patterning a transparent electrically conductive tin oxide film by which a high definition transparent electrically conductive tin oxide film can easily be formed in a state free of pinholes and microcracks without requiring a great capital investment.例文帳に追加

大きな設備投資を必要とせず、容易に高精細の透明導電性酸化スズ膜をピンホールやマイクロクラッが生じない状態で形成できる透明導電性酸化スズ膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁

This liquid crystal display device is provided with many columnar spacer projections 11 which are uniform in projection sizes and distributions by coating application of a resin and patterning on a single and smooth dye accepting layer 12 formed on a transparent insulating substrate 10.例文帳に追加

透明絶縁基板１０上に形成された単一の平滑な染料受容層１２の上に、樹脂の塗布及びパターニングによって、突出寸法及び分布の均一な多数の柱状スペーサ突起１１を設ける。 - 特許庁

This double patterning system provides a means for forming a hard mask feature with a feature interval less than a minimum interval with which the hard mask can be printed according to a single exposure, by of a single hard mask etching process.例文帳に追加

この二重パターニングシステムは、単一露光に基づいてハードマスクにプリント可能な最小間隔よりも小さいフィーチャ間隔で、１回のハードマスクエッチング工程においてハードマスクフィーチャを形成する手段を提供する。 - 特許庁

To reduce subtrenches at the time of fine patterning by applying a sine wave bias subjected to amplitude modulation by a saw-tooth wave to a sample setting electrode.例文帳に追加

処理試料設置電極にバイアスを印加をするドライエッチング方法及び装置において、微細パターン形成時に発生するサブトレンチを低減もしくは無くする改良されたドライエッチング方法及びドライエッチング装置を実現すること。 - 特許庁

To provide an image display device manufactured by multiple patterning which can prevent infiltration of moisture, oxygen, etc. into a thin-film transistor (TFT) layer from a cut surface, and to provide a manufacturing method of the image display device.例文帳に追加

多面取りで製造される画像表示装置の切断面からの水分や酸素等のＴＦＴ層への侵入を防止することが可能な画像表示装置及びその製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a resin which is suitable for applications such as a color filter, a black matrix or a spacer and excellent in dispersion stability of an inorganic substance, and provides a flexible and tough cured film, and with which superior patterning properties are obtained, and to provide a resin composition.例文帳に追加

カラーフィルター、ブラックマトリクス、スペーサー等の用途に適し、無機物の分散安定性に優れ、硬化膜が柔軟かつ強靭であり、優れたパターニング特性が得られる樹脂及び樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Since the polarization filter 16 is formed by patterning the polarization material deposited on the protective film 13, the alignment accuracy is improved because a unification can be conducted without a conventional junction process.例文帳に追加

また、偏光フィルタ１６が保護膜１３の上に堆積された偏光材料をパターニングして形成されることから従来のような接合プロセスを行わずに一体化できることによりアライメント精度が向上する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromechanical conversion element that carries out selective patterning by simplified steps, and to provide an electromechanical conversion element manufactured by the manufacturing method, a droplet discharging head, and a droplet discharging apparatus.例文帳に追加

簡素化した工程で選択的にパターン化可能な電気機械変換素子の製造方法と、その製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁

To provide a development processing method capable of accurately controlling a line width of a second resist pattern in a second development processing of double patterning by LLE and accurately controlling a line width of a first resist pattern as well.例文帳に追加

ＬＬＥによるダブルパターニングの２回目の現像処理において、２回目のレジストパターンの線幅を精度良く制御でき、１回目のレジストパターンの線幅も精度良く制御できる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical semiconductor device and a method of manufacturing the optical semiconductor device making it possible to precisely carry out a patterning in a manufacturing process of the optical semiconductor device having a light emitting device portion and a functional portion.例文帳に追加

発光素子部と機能部とを有してなる光半導体素子の製造工程において、精密にパターニングすることを可能にする光半導体素子の製造方法および光半導体素子の提供を目的とする。 - 特許庁

After patterning the resist 32 of an etching mask by applying a resist 30 around a substrate 10, the thickness of the substrate 10 is reduced by etching the rear surface 10b of the substrate 10 except the outer peripheral section of the surface 10b.例文帳に追加

基板１０の周囲にレジスト３０を塗布してエッチング用マスクのレジスト３２をパターニングし、基板１０の裏面１０ｂであって、裏面１０ｂの外周部以外の部分をエッチングして基板１０の厚みを減ずる。 - 特許庁

To provide a method of growing and patterning nanowire stably at high temperature using a new material that can overcome a problem of instability of conventional lift off material at high temperature.例文帳に追加

従来のリフトオフ材料が持っている高温での不安定性の問題を克服することができる新規材料を利用して、高温で安定してナノワイヤを成長及びパターニングすることができる方法を提供する。 - 特許庁

First and second halftone phase shifting masks 10, 20 having light transmitting parts 12, 22 for holes corresponding to the above holes of the respective groups are used to expose one resist film twice for patterning.例文帳に追加

そして、各組に属するホールと対応するホール用透光部１２及び２２を有する第１及び第２のハーフトーン型位相シフトマスク１０及び２０を用いて同一のレジスト膜に対してパターン露光を２回行なう。 - 特許庁

To provide an etching solution for electrically conductive polymers having excellent etching power to the polymers and provide a patterning method to use the etching solution for conductive polymers.例文帳に追加

導電性高分子に対し優れたエッチング処理能力を有する導電性高分子用エッチング液を提供すること、さらには前記導電性高分子用エッチング液を用いたパターニング方法を提供すること。 - 特許庁

A pixel electrode 4 is constructed by patterning a belt shaped specified part 4a so as to be positioned in the vicinity of an intersection 13 of a data bus line 1 and an auxiliary capacitor bus line 6 where short-circuitting/disconnection defects are anticipated.例文帳に追加

画素電極４は、短絡・断線の欠陥発生が想定されるデータバスライン１と補助容量バスライン６との交差部位１３の近傍に位置するように、帯状の特定部位４ａがパターニングされてなる。 - 特許庁

The patterning system comprises arrays of at least two components which are structured to be illuminated by a corresponding part of the beams and are individually controllable, with each array forming patterns in the corresponding part of the beams.例文帳に追加

パターン形成システムは、ビームの当該の部分によって照明されるように構成された少なくとも２つの個別に制御可能な要素のアレイを備え、各アレイが、ビームの当該の部分にパターン形成する。 - 特許庁

A substrate can be exposed in the process windows by using a patterning means having a pattern corrected in accordance with the determined optical proximity correction rules and by using the radiation source having the intensity distribution of the radiation source.例文帳に追加

前記決定した光学的近接補正規則に従って修正したパターンを有するパターニング手段と前記線源強度分布の線源を使って前記プロセスウインドウ内で基板を露出することもできる。 - 特許庁

To provide a method for patterning, which is adaptable to problems associated with productivity and quality in arranging protrusions for controlling an alignment direction and columnar or rib shaped spacers defining liquid crystal layer thickness in a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶ディスプレイにおける、配向方向制御用突起や液晶層厚さを規定する柱状またはリブ状のスペーサを配設する際の生産性や品質の問題に対応できるパターンニング方法を提供する。 - 特許庁

The masking layer can be obtained by conducting a conditioning process for more than five hours under a processing condition of the temperature being 30°C or more and the relative humidity being 90% or more after having pasted the dry film resist as a patterning mask.例文帳に追加

このようなマスク層は、ドライフィルムレジストをパターニングマスクとして貼りつけた後、温度が３０℃以上、相対湿度が９０％以上の処理条件で５時間以上コンディショニング処理を行なうことで得られる。 - 特許庁

On an interlayer insulating film 109 serving as a patterning layer, a predetermined range is removed to have an etching region for exposing at least a part of the upper clad layer 106 or a second conductive semiconductor region 108.例文帳に追加

パターニング層としての層間絶縁膜１０９は、その所定範囲を除去して上部クラッド層１０６又は第２導電型半導体領域１０８の少なくとも一部を露出させるエッチング領域を有する。 - 特許庁

After removing the silicon oxide film 9, a low resistance portion 15 constituting a resistance element 17 and a gate electrode 19 are formed from the low-resistance poly silicon film 11 by patterning the poly silicon films 7a, 7b, 11 (f).例文帳に追加

シリコン酸化膜９を除去した後、ポリシリコン膜７ａ，７ｂ，１１をパターニングして、低抵抗ポリシリコン膜１１から、抵抗素子１７を構成する低抵抗部１５と、ゲート電極１９を形成する（ｆ）。 - 特許庁

A process of manufacture of an organic EL display device simultaneously performs patterning of a cathode 4 and transferring of a light emitting layer 5 by a transferring method using a laser beam, simplifies the process and improves display performance.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置の製造方法において、レーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性能の向上を実現した。 - 特許庁

Since the alignment marks can be easily identified in contact with a resin for patterning in an imprint process, the alignment between the template and the substrate for imprint can be easily achieved and an imprint process for a large area is enabled.例文帳に追加

これにより、インプリント工程時にパターン用レジンとのコンタクト識別が容易であるので、テンプレートとインプリント用基板との間の整列を容易に合わせることができ、大面積のインプリント工程が可能である。 - 特許庁

To perform patterning by wet etching with a high aspect ratio even on a thick metal plate in a process for producing a circuit board, a process for producing a power module substrate, the circuit board, and the power module substrate.例文帳に追加

回路基板の製造方法及びパワーモジュール用基板の製造方法並びに回路基板及びパワーモジュール用基板において、厚い金属板でも高アスペクト比でウェットエッチングによりパターン形成を行うこと。 - 特許庁

The manufacturing method for BiCMOS forms a gate in a CMOS region by patterning a conductive layer for the gate while forming a conductive layer pattern that defines an aperture for opening an active region in a bipolar transistor region.例文帳に追加

ゲート用導電層をパターニングしてＣＭＯＳ領域にゲートを形成すると同時にバイポーラトランジスタ領域の活性領域をオープンする開口部を定義する導電層パターンを形成するＢｉＣＭＯＳ製造方法。 - 特許庁

A columnar spacer 31 and a shading pattern SP are formed by applying a black resin on the whole surface of the substrate, patterning, and treating at a high temperature to melt and hardening while shrinking the volume.例文帳に追加

柱状スペーサ３１及び遮光パターンＳＰは、基板全面に塗布された黒色樹脂をパターニングし、高温処理することによって黒色樹脂をメルトさせ、体積収縮しながら硬化させることによって形成される。 - 特許庁

The aluminum layer 11 is covered with a Ti film 12 and a TiO_2 film 13 formed by oxidizing the surface of the Ti film 12 as an anti-reflection layer to improve the precision of the wiring patterning made by using a photography technology.例文帳に追加

アルミニウム層１１上には、フォトリソグラフィ技術を用いる配線パターニング精度向上のため反射防止層として、Ｔｉ膜１２及びその表面を酸化して得られたＴｉＯ_2膜１３が被覆されている。 - 特許庁

A plurality of material films constituting TFTs are formed by stacking on an insulating-film coated substrate, and subsequently a resist mask having a plurality of regions of mutually different film thicknesses is formed by patterning on the uppermost layer of the material films.例文帳に追加

ＴＦＴを構成する材料膜を絶縁膜基板上に積層して成膜してから、膜厚が互いに異なる複数の領域を有するレジストマスクを上記材料膜の最上層にパターニングして形成する。 - 特許庁

To surely remove a polymer and particles adhering to a back surface without peeling off patterning applied to a surface, and to surely remove particles adhering to the respective surfaces by pressing force adapted to the respective surfaces.例文帳に追加

表面に施されたパターニングを剥がすことなく、裏面に付着したポリマーやパーティクルを確実に除去したり、それぞれの面に応じた押圧力でそれぞれの面に付着したパーティクルを確実に除去したりすること。 - 特許庁

A reducing agent 54 is discharged for patterning by the ink jet method in a groove between partitions 50a and 50b of a glass substrate 50 formed by sandblasting method, that is, a desired region where an electrode is formed (Fig.d).例文帳に追加

サンドブラスト法等により形成されたガラス基板５０の隔壁５０ａ，５０ａ間の溝内、すなわち電極を形成すべき所望の領域に、インクジェット法で還元剤５４を吐出してパターニングする（図１（ｄ））。 - 特許庁

To provide a new pattern forming method that can reduce the number of steps in a double patterning method, and to provide a material for forming a metal oxide film suitably used for the pattern forming method, and a use method of the material.例文帳に追加

ダブルパターニング法における工程数を低減できる新規なパターン形成方法、該パターン形成方法に好適に用いられる金属酸化物膜形成用材料およびその使用方法を提供する。 - 特許庁

To provide a highly reliable wiring board whose opening shape is proper in patterning of solder resist of the wiring board having a plurality of conductor circuits in a resin insulating layer, and to provide a manufacturing method of the wiring board for improving productivity by a reel-to-reel method.例文帳に追加

樹脂絶縁層に複数の導体回路を有する配線基板のソルダーレジストのパターニングにおいて、開口形状が良好であり、かつ信頼性の高い配線基板を提供するところにある。 - 特許庁

To enable a conventional vessel, which does not have vacuum adaptation to be used for a conveying vessel conveyed by accommodating a patterning means (mask or the like), which should be replaced in lithographic projection equipment, used in vacuum environment so that it is not contaminated with particles.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置で交換すべき、真空環境で使うパターニング手段（マスク等）を入れて粒子汚染されないように運ぶ搬送容器に従来の真空適合性のない容器を使えるようにすること。 - 特許庁

To provide a method and material for patterning of a polymerizable, amorphous matrix with electrically active material such as a light emitting material disposed therein; and to provide an element formed using the same.例文帳に追加

重合性非晶質母材を前記母材に配置された発光材料など、電気活性材料でパターン化するための材料および方法、並びに前記材料および方法を用いて形成された素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a cylindrical aggregate obtained by patterning an oriented carbon nanotube (CNT) and to provide a method for manufacturing a field emission type cold cathode using the aggregate and capable of emitting an electron uniformly at a low voltage.例文帳に追加

配向性カーボンナノチューブ（CNT）のパターン化された柱形状集合体の製造法及びこれを用いた低電圧で均一な電子放出可能な電界放出型冷陰極の製造法を提供する。 - 特許庁

Since the gate insulating film and the semiconductor film are simultaneously machined into an element shape after the heating process, the expansion and contraction of a glass substrate does not exert influence on the alignment deviation in patterning.例文帳に追加

加熱処理後にゲート絶縁膜と半導体膜を同時に素子形状に加工するため、加熱時のガラス基板の膨張、収縮がパターニングのアライメントずれに影響を及ぼさないことを特徴としている。 - 特許庁

To provide a method of preventing resist poisoning and the damage of a low-k dielectric insulating material or at least a method of minimizing the damages in a patterning approach of dual damascene structure using the via first of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体素子のビアファーストを用いたデュアル・ダマシン構造のパターニングの方法において、レジスト汚染と低ｋ誘電体絶縁材料の損傷を避けるか、少なくとも最小にする方法を提供する。 - 特許庁

The printed circuit board 1 has a ground insulating layer 10, a circuit pattern 21 formed by patterning a conductor layer 20 laminated on the ground insulating layer 10, and a coating insulating layer 30 covering the circuit pattern 21.例文帳に追加

プリント配線板１は、下地絶縁層１０と、下地絶縁層１０に積層された導体層２０をパターニングして形成された回路パターン２１と、回路パターン２１を被覆する被覆絶縁層３０とを有する。 - 特許庁

To provide a polymerizable fluoromonomer and a fluoropolymer for a resist suitable for use in microfabrication by immersion exposure or by a double patterning process based on immersion exposure, a resist material and a method of pattern formation using the same.例文帳に追加

液浸露光や、液浸のダブルパターンニングプロセスで行われる微細加工に適するレジスト用の含フッ素重合性単量体および含フッ素重合体、それらを使ったレジスト材料及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The oscillator filter comprises: a silicon substrate 40; an oscillator 41, which is provided by patterning a polycrystalline silicon layer which is deposited on the oscillator 41, in a rectangular pattern; an input terminal electrode 42; and an output terminal electrode 43.例文帳に追加

振動子フィルタは、シリコン基板４０と、この上に堆積された多結晶シリコン層を矩形パターンに形成して得られた振動子４１と入力端子電極４２及び出力端子電極４３とを有する。 - 特許庁

To provide a new method and an instrument used therefor, performing comparatively easily a processing for patterning a physiologically active substance or a functional organic material such as a protein on a substrate, while keeping activity thereof.例文帳に追加

タンパク質等の生理活性物質又は機能性有機材料を、それらの活性を保持したまま基板上にパターニングできる処理操作が比較的容易である新規な方法及びそれに用いる器具を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromechanical conversion element capable of performing selective patterning in a simplified process, the electromechanical conversion element manufactured by the method, and a droplet discharging head and a droplet discharging device.例文帳に追加

本発明は、簡素化した工程で選択的にパターン化可能な電気機械変換素子の製造方法、該製造方法により製造した電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁