「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

The spot grid is attained by using a patterning device 204 which turns the patterned beam on a micro lens array 240 in which a spot is formed by Fourier transform of the beam patterned in the substrate.例文帳に追加

これは、基板でパターン形成されたビームのフーリエ変換されたスポットを形成するマイクロレンズ・アレイ２４０上に、パターン形成されたビームを向けるパターン形成デバイス２０４を使用することによって達成される。 - 特許庁

To suppress sufficiently the bleedout of an impurity of a cyclic dimethylsiloxane oligomer from the thin protection layer which is obtained by film-forming a photosensitive siloxane polyimide resin composition on a printed wiring board and by patterning and curing.例文帳に追加

感光性シロキサンポリイミド樹脂組成物をプリント配線板上に成膜し、パターニングし、硬化させて得た薄い保護層から、不純物である環状ジメチルシロキサンオリゴマーがブリードアウトすることを十分に抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for fabricating a flat panel display element which reduce the process time and minimize pattern defects by executing a patterning process by a method of not executing a photolithographic process.例文帳に追加

本発明の目的は、フォト工程を行わない方法で、パターニング工程を実行し、工程時間を減らしてパターン不良を最小化するようにした平板表示素子の製造方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

Thus, in the case of patterning a conductive layer by the photolithography, a step of adjusting the tilt angle of the board 1 with respect to the exposure light source is not required so as to prevent cost increase attended with increase in man-hours.例文帳に追加

したがって、フォトリソグラフィにより導電層をパターン化する際に、露光用の光源に対して基板１の傾斜角を調整する工程が不要となり、工数の増加にともなうコストアップが防止できる。 - 特許庁

In a method of forming a dielectric, the first and second layers are formed on a glass substrate, the second layer is developed after receiving light for patterning, and the first and second layers are baked collectively.例文帳に追加

さらに、第１の層と第２の層とをガラス基板上に設け、第２の層を光照射後現像してパターニングした後、第１の層と第２の層を一括して焼成する誘電体の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active matrix array which has a structure eliminating in self-matching way an effect caused by parasitic capacitance between adjacent signal lines caused by a deviation of patterning in manufacturing, and eliminates difference in brightness.例文帳に追加

製造上のパターニングのズレに起因する隣接した信号線間の寄生容量によって生じる効果を自己整合的に解消する構造を有して輝度差を解消するアクティブマトリクスアレイを提供する。 - 特許庁

In a reticle contraction correction model for describing contraction amounts of two reticles used in a double patterning method, parameters relating to contraction (reticle contraction correction parameters (a time constant and a saturation value)) are optimized.例文帳に追加

ダブルパターニング法において使用される２つのレチクルのそれぞれの伸縮量を記述するレチクル伸縮補正モデルについて、伸縮に係るパラメータ（レチクル伸縮補正パラメータ（時定数と飽和値））を最適化する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing the lower electrode of a thin film solar cell, which is capable of easily making a metal thin film into the lower electrode by patterning and hardly deteriorating the insulating properties of the lower electrode even if the insulating layer is formed on a board.例文帳に追加

金属薄膜のパターニングを容易に行うことができ、基板上に絶縁層が形成されていても絶縁性が損なわれることがない薄膜太陽電池用下部電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

The fist material film 107 and the second material film 109 are subjected to patterning linearly so that each one end is fixed to a substrate 3, and the other end is disposed on the recessed part 3a through the sacrificial layer 105, thereby forming a driving electrode 7.例文帳に追加

一端が基板３に固定され他端が犠牲層１０５を介して凹部３ａ上に配置される帯状に第１材料膜１０７と第２材料膜１０９とをパターニングして駆動電極７を形成する。 - 特許庁

To provide a novel steering wheel and its manufacture, which has approximately the same wooden feel with excellent touch and excellent external appearance as natural wood by patterning a curly grain pattern such as a straight grain pattern and a cross grain pattern.例文帳に追加

触感上はもとより、外観上においても柾目模様や板目模様などの木目模様が施され、天然木とほぼ同等の木質感を具えた新規なステアリングホイール並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

A stage for discharging a resist from a slit and applying the resist to the flat panel display in such a manner that the dry film thickness of the resist attains 2.5 to 5 μm in order to form the color filter or patterning is included in a stage for manufacturing the flat panel display.例文帳に追加

フラットパネルディスプレイを製造する工程に、カラーフィルタやパターニングを形成するためのレジストの乾燥膜厚が２．５μｍ〜５μｍとなるように、前記レジストをスリットから吐出させて塗布する工程を含ませる。 - 特許庁

To easily and reliably obtain a focalizing position, that is, the best focus position by a single exposure with high accuracy, to enable high-accuracy focus measurement in a very short time, and to rapidly perform high-reliability patterning.例文帳に追加

容易且つ確実に１回の露光で合焦位置、即ちベストフォーカス位置を精度良く求めることができ、極めて短時間で高精度の焦点計測を可能として、信頼性の高いパターニングを迅速に行う。 - 特許庁

After removal of the second resist pattern, a second light transflective film 17 is formed throughout the surface of the substrate, and third patterning is performed by etching at least the second light transflective film 17 with a third resist pattern formed on the film 17 as a mask.例文帳に追加

第２レジストパターンを除去後、基板全面に第２半透光膜１７を形成し、その上に形成した第３レジストパターンをマスクとして少なくとも第２半透光膜をエッチングして第３のパターニングを行う。 - 特許庁

During the process of patterning a thin film resistor 28 in an SOG film 26 formed on a silicon substrate 20 as a base interlayer insulating film and a second TEOS film 27, moisture is left in the SOG film 26.例文帳に追加

シリコン基板２０上に下地層である層間絶縁膜として成膜したＳＯＧ膜２６および２ｎｄＴＥＯＳ膜２７に薄膜抵抗体２８をパターニングする過程で、水分がＳＯＧ膜２６中に残留する。 - 特許庁

Fine rugged patterns are formed on the preliminary rolls and an offset is provided to the vertical joint positions of the emboss roll patterns, enabling patterning of vertical walls formally impossible heretofore to mold a metallic exterior material having a high-grade feel.例文帳に追加

また予備ロールに細かい凹凸模様を設け，エンボスロールの模様の縦目地部にオフセットを設けることで従来不可能であった縦壁の模様付けが可能となり高級感のある金属製外装材が成型できる。 - 特許庁

After providing a conductive layer over the whole surface of a transparent base material 11 comprising a polyester film, etc., by forming a photosensitive layer on the conductive layer, such a series of patterning treatments as pattern exposure and development are so performed as to form a resist pattern.例文帳に追加

ポリエステルフィルム等からなる透明基材１１の全面に導電層を設け、導電層上に感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、レジストパターンを形成する。 - 特許庁

The method for cleaning a transparent permanent film includes a step of supplying an acidic aqueous solution to a photosensitive resist film after being exposed and developed in a patterning step of the photosensitive resist.例文帳に追加

感光性レジストのパターニング工程において、露光及び現像処理した感光性レジスト膜に対して、酸性水溶液を供給して洗浄処理を行う工程を有する、透明永久膜の洗浄処理方法。 - 特許庁

The patterning method comprises a step for forming a barrier 30 on a substrate P, a step for forming a conductive layer 80 in a patterning region 30a surrounded by the barrier 30, a step for arranging plating nuclei 26 on the conductive layer 80, and a step for forming an anti-diffusion layer 82 on the conductive layer 80 by electroless plating method using the plating nuclei 26 as a catalyst.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、基板Ｐ上に隔壁３０を形成する隔壁形成工程と、隔壁３０に囲まれたパターン形成領域３０ａに導電層８０を形成する導電層形成工程と、導電層８０上にめっき核２６を配置するめっき核配置工程と、導電層８０上に、無電解めっき法によりめっき核２６を触媒として拡散防止層８２を形成する拡散防止層形成工程と、を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing semiconductor devices related to the present invention has processes of: forming a conductive membrane on a semiconductor substrate; forming a sacrificial membrane on the conductive membrane; patterning the sacrificial membrane; forming a side wall on the side of the patterned sacrificial membrane; removing the patterned sacrificial membrane; and patterning the conductive membrane by using the side wall as a mask and form wiring.例文帳に追加

半導体基板上に導電性膜を形成する工程と、前記導電性膜上に犠牲膜を形成する工程と、前記犠牲膜をパターニングする工程と、パターニングされた前記犠牲膜の側面に、サイドウォールを形成する工程と、パターニングされた前記犠牲膜を除去する工程と、前記サイドウォールをマスクとして用いて前記導電性膜をパターニングして、配線を形成する工程とを有する方法により、半導体装置を製造する。 - 特許庁

In this display panel, after the patterning of a tantalum film which is formed on a dielectric substrate 1 is processed and the electrode wiring 2 of the first layer being the lowermost layer of input lead wirings 21 is formed, an SiNx film is formed as a gate insulating film 3.例文帳に追加

絶縁性基板１上に成膜したタンタル薄膜をパターニング処理して、入力リード配線２１の最下層である第１層の電極配線２を形成した後、ゲート絶縁膜３としてＳｉＮｘ膜を形成する。 - 特許庁

In the patterning process of the thin film transistor 44, holographic exposure and a tracking focus system is employed, design rule of 1.0 μm or less is employed, and only a polysilicon layer 41 and a first metal layer 42 are employed as the interconnect lines of the element chip 45.例文帳に追加

薄膜トランジスタ４４のパターニング工程で、ホログラフィック露光や追尾フォーカスシステムを用い、１．０μｍ以下の設計ルールを用い、素子チップ４５の配線として、多結晶シリコン層４１と第１の金属層４２のみを用いる。 - 特許庁

The lithography system drives two programmable patterning means 11 and 12, using a control signal from a computer 10, in order to pattern two different beams 13 and 14 being projected to two substrates 19 and 20.例文帳に追加

このリソグラフィ装置は、二つの基板１９、２０上に投影するための二つの別々の投影ビーム１３、１４をパターン化するためにコンピュータ１０からの制御信号を使って二つのプログラム可能パターニング手段１１、１２を駆動する。 - 特許庁

To provide a method for removing a resist for sufficiently suppressing damage of an insulating film consisting of a low dielectric constant material when removing a residual resist from a base substance to be treated after patterning in an etching process.例文帳に追加

エッチング工程においてパターニング後の被処理基体から残留レジストを除去するに際し、低誘電率材料からなる絶縁膜のダメージを十分に抑制することが可能なレジストの除去方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern verifying method, used in a double patterning method in which after a first pattern is formed in a film to be processed, a second pattern is formed in the film to be process, verifying a pattern in consideration of a superposition error.例文帳に追加

被加工膜に第１のパターンを形成してから被加工膜に第２のパターンを形成するダブルパターニング法に用いられ、重ね合わせ誤差を考慮してパターンを検証することができるパターン検証方法を提供する。 - 特許庁

The data manipulation device generates a control signal comprising spot exposure intensities to be generated by the patterning device, based on a direct algebraic least-squares fit of the spot exposure intensities to the frequency-clipped target dose pattern.例文帳に追加

データ操作装置は、周波数クリッピング目標線量パターンへのスポット露光強度の直接代数的最小二乗当てはめに基づいて、パターン形成装置により生成されるスポット露光強度を含む制御信号を発生する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 3, a contact part 2, an counter- silicon diffused conductive layer 4, and a lower electrode layer 5 of Ru film are formed on a silicon substrate 1, and a hard mask layer 7 of SiO2, that is subjected to patterning, is formed on it using a photoresist 8.例文帳に追加

シリコン基板１上に、層間絶縁膜３、コンタクト部２、対シリコン拡散導電層４、Ｒｕ膜の下部電極層５を形成し、この上に、フォトレジスト８を用いてパターンニングしたＳｉＯ_2 のハードマスク層７を形成する。 - 特許庁

A pattern of an organic light emitting layer 4a is formed on a transcription substrate 12 by making a belt-shaped shadow mask 13 running synchronously with the transcription substrate 12 tightly contacting with the belt-shaped transcription substrate 12 running through a patterning part 22.例文帳に追加

パターニング部２２にて走行する帯状の転写基板１２に、この転写基板１２と同期して走行する帯状のシャドウマスク１３を密着させ、転写基板１２上に有機発光層４ａのパターンを形成する。 - 特許庁

A material film constituting a TFT is laminated and formed on an insulating film substrate, and then a resist mask, having a plurality of regions whose thickness of the film is different to one another, is formed at the uppermost layer of the material film by conducting patterning.例文帳に追加

ＴＦＴを構成する材料膜を絶縁膜基板上に積層して成膜してから、膜厚が互いに異なる複数の領域を有するレジストマスクを上記材料膜の最上層にパターニングして形成する。 - 特許庁

By doing so, since the tapered inclination spreading from the bottom part 18 toward the upper part 19 is make to decrease at the etching part 16 of the metal layer 12, fine pitch patterning can be easily realized.例文帳に追加

このようにしてパターンを形成すれば、金属層１２のエッチング部分１６における、底部１８から上部１９に向かって広がるテーパ状の傾斜を小さくして、ファインピッチでのパターン化を容易に実現することができる。 - 特許庁

The plurality of the holes 6a are arrayed on a substantially straight line along the tape width, and are disposed downward under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at the copper wiring pattern layer forming time from the copper layer 1 or are disposed in the lower vicinity region.例文帳に追加

穴６ａは、テープ幅に沿った略直線上に複数配列し、銅層１からの銅配線パターン層形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁

This matter has such a merit that the thickness of the second conductor layer is kept the same as before formation of the via hole even after formation of the via hole 17a, and a fine wiring layer in high density can be made during patterning of the second conductor layer.例文帳に追加

このことは、バイアホール１７ａ形成後も第２導体層の厚みはバイアホール形成前の厚みが維持され、第２導体層をパターニング処理する際、微細な高密度の配線層を形成できるという利点を有する。 - 特許庁

The transparent conductive film 1 includes the conductive surface 5 on the upper surface of the transparent conductive layer 4 and the insulated surface 6 on the upper surface of the insulating color difference adjusting layer 3 that are formed by patterning the transparent conductive layer 4.例文帳に追加

透明導電性フィルム１は、透明導電層４をパターニングすることにより形成されている透明導電層４の上面の導電面５と絶縁色差調整層３の上面の絶縁面６と、を具備している。 - 特許庁

To provide a photopolymerizable composition which is cured with high sensitivity by light exposure, has excellent in-film curability and adhesion to a support, has a good pattern shape and can form a patterning cured film with less residues after development.例文帳に追加

露光に対し光感度で硬化し、優れた膜内部硬化性および支持体との密着性に優れ、パターン形状が良好であり、且つ、現像後に残渣が少ないパターニング硬化膜を形成可能な光重合性組成物を提供する。 - 特許庁

A first mask 31 is then arranged while aligned with the glass substrate 21 so that alignment marks 33 and 34 match the cut 22, and lithographic patterning is carried out on the front surface 21a of the glass substrate 21 according to a first mask pattern 32.例文帳に追加

次に、アライメントマーク３３，３４が切り欠き２２に合致するように第１マスク３１をガラス基板２１に位置合わせして配置し、ガラス基板２１のオモテ面２１ａに第１マスクパターン３２に応じたリソグラフィパターンをパターニングする。 - 特許庁

A plate-like member 3 is stuck on a support base board 1 via an adhesive layer 2, and plural cross-sectional pattern members 31, 32 and 33 are collectively formed by performing patterning up to penetrating through the plate-like member 3 by using a photolithography method.例文帳に追加

支持基板１上に接着層２を介して板状部材３を貼り付け、フォトリソグラフィー法を用いて板状部材３を貫通するまでパターニングして複数の断面パターン部材３１，３２，３３を一括して形成する。 - 特許庁

To provide an electron emission element which, while maintaining such an effect as lowering of a threshold voltage due to a patterning of a carbon group material and an electric field strength, has a high mechanical strength and stability, and provide its manufacturing method.例文帳に追加

炭素系材料をパターニングすることによる闘電圧の低下や電界強度の増加といった効果を維持しつつ、機械的強度が高い、安定した電子放出素子及びその製法を提供することを解決課題とする。 - 特許庁

With this method, first, the patterning device MA, a detector 43, and a projection system 42 are arranged so that images of the features are projected by the projection system on the detector 43 when the polarization sensitive features 44 are lighted.例文帳に追加

この方法では、先ず、偏光感応フィーチャ４４の照明に際して、このフィーチャの像がディテクタ４３上の投影システムによって投影されるように、パターニングデバイスＭＡ、ディテクタ４３および投影システム４２が設けられる。 - 特許庁

At least one of the first and second support structures is comprised of a planar base, a movable stage for supporting the patterning means or the substrate that can be moved over said planar base, and an actuator for providing said movement of the stage.例文帳に追加

第１及び第２支持構造の少なくとも一方が、平面ベースと、パターン化手段又は基板を支持し、平面ベースの上を移動することができる移動可能なステージと、ステージの動きを与えるアクチュエータとを備える。 - 特許庁

To provide a laser processing device and a processing method of thin-film solar battery, capable of processing a patterning line for defining unit cells on a thin-film solar battery of large area at a high speed and high accuracy, and having an advantage of miniaturizing the device.例文帳に追加

大面積の薄膜太陽電池に単位セルを画成するパターニングラインを高速かつ高精度で加工できるとともに、装置を小型化するうえでも有利な薄膜太陽電池のレーザ加工装置および加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor IC device capable of increasing a total memory capacity and in addition a higher speed operation without accompanying a fine patterning technology which requires a large amount of cost for a capital investment and has a definite limitation naturally.例文帳に追加

設備投資などに膨大な費用がかかり、おのずと一定の限界がある微細化技術を伴うことなしに、トータルの記憶容量を増大させ、さらに、より高速動作が可能な半導体集積装置を提供する。 - 特許庁

The reticle for metal patterning includes an IC pattern ensemble region and a TEG pattern region patterned next to each other, interposing a light non-transmitting solid region (region A), and has a scribe line in the region A.例文帳に追加

ＩＣパターン集合領域とTEGパターン領域が光非透過ベタ領域（領域Ａ）をはさんで並んでパターニングされている金属膜パターニング用レチクルにおいて、前記領域Ａにスクライブラインを有する金属パターニング用レチクルとした。 - 特許庁

The method also includes measuring the accuracy of at least one property of the at least one location of the pattern on the substrate that has been determined as being prone to patterning errors, and adjusting the lithographic process according to the measuring.例文帳に追加

方法は、パターニングの誤差が発生しやすいとして決定された基板上のパターンの少なくとも１つの位置の少なくとも１つの特性の精度を測定し、測定に従ってリソグラフィプロセスを調整することも含む。 - 特許庁

To solve problems that gas is generated due to electric erosion reaction by developer and peeling of film is generated at a contact part in an organic insulation film patterning process for forming relief structure of a reflection film in an array process of a liquid crystal display.例文帳に追加

液晶表示装置のアレー工程において、反射膜の凹凸形状を形成するための有機絶縁膜パターニング工程で、現像液による電喰反応からガスが発生し、コンタクト部で膜はがれが発生する問題が生じる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in depth of focus and dependency on density distribution, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a patterning method using this composition.例文帳に追加

フォーカス余裕度及び疎密依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The first to third color layers 10 to 12 are formed by patterning using a photoreceptor, have high photosensitivity and sufficiently give rise to a crosslinking reaction and therefore have the high adhesion property to the insulating films 9 consisting of silicon nitride.例文帳に追加

第１乃至第３の色層１０乃至１２は、フォトレジストを使用したパターニングにより形成されるものであり、感光性が高く架橋反応が十分に起こるので、シリコン窒化物からなる絶縁膜９との密着性が高い。 - 特許庁