「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

For patterning the transparent conductive film 2 formed on the transparent base material 1, visibility of pattern shape of the transparent conductive film 2 due to the difference of the refractive indices of the transparent conductive film 2 and the transparent base material 1 can be lowered.例文帳に追加

透明基材１の表面に形成した透明導電膜２をパターニングするにあたって、透明導電膜２と透明基材１の屈折率の差による、透明導電膜２のパターン形状の視認性を低くすることができる。 - 特許庁

To solve such a problem that when a transparent film is exposed, high-definition patterning cannot be performed since resist is exposed as exposure light becomes reflected light which locally varies in intensity owing to presence of electrode wiring, the groove of an exposure stage, etc., as a base.例文帳に追加

透明膜を露光する際に、下地となる電極配線や露光ステージの溝等の存在により露光の光が局所的に強度が変動する反射光となってレジストを露光するため、高精細なパターニングができない。 - 特許庁

In this way, etching of the silicon substrate 21 progresses in a direction parallel to the silicon oxide film 22 from the side surface of each of the through holes 23 and the through holes 23 communicate with each other, thereby patterning the silicon substrate 21 into a desired shape.例文帳に追加

これにより、各貫通孔２３の側面からシリコン酸化膜２２と平行な方向にシリコン基板２１のエッチングが進行し、各貫通孔２３間が連通することにより、シリコン基板２１が所望の形状にパターニングされる。 - 特許庁

To provide a laminate for forming a wiring substrate in which electric resistance is made low, patterning performance and moisture/heat resistance are made superior, to provide a method to form the wiring substrate by etching the laminate and to provide the wiring substrate.例文帳に追加

低抵抗でパターニング性能に優れ、かつ耐湿性・耐熱性の高い配線付き基体形成用の積層体、該積層体をエッチングして配線付き基体を形成する方法および得られた配線付き基板の提供。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁

This is a forming method of a transparent electrode comprising a process to form a transparent conductive film having ZnO added with Mg on a substrate and a process to form patterning of the transparent conductive film using an etching liquid containing HCl.例文帳に追加

基板上にＺｎＯにＭｇが添加された透明導電膜を形成する工程と、ＨＣｌを含むエッチング液を用いて上記透明導電膜をパターンニングする工程とを含む透明電極の形成方法により解決される。 - 特許庁

After a metallic substrate 101 is coated with a resist resin 102, a projected shape mold is formed by patterning this resist resin 102, the periphery of the resist resin 102 is etched, and recess parts 101A are formed on the substrate 101.例文帳に追加

金属製の基板１０１上にレジスト樹脂１０２をコーティングした後、このレジスト樹脂１０２をパターニングすることにより凸部形状の型を形成し、レジスト樹脂１０２の周辺をエッチングし、基板１０１に凹部１０１Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, such as insulation gate type field effect transistor (IGFET) of high integration, in which damage are prevented even in micro-patterning.例文帳に追加

高集積度の絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（ＩＧＦＥＴ）を含む半導体装置の製造方法に関し、微細パターンの加工においても、半導体装置の損傷を防止できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a package, capable of preventing problems such as damage, deformed crack or crack in dividing a frame sheet into individual packages even when the package downsized in accordance with demands of integration is manufactured using the multiple patterning.例文帳に追加

集積化の要望に応じて小型化されたパッケージを多数個取りの製造を行う場合においても、個別に分割する際に破損や、異形割れ、クラックが発生する問題のないパッケージの製造方法を提供することである。 - 特許庁

The master disk 73 for optical disks is manufactured by a process (S21) of forming a chromium film 71 on a glass substrate 70 and processes (S22 to S26) of patterning the chromium film 71 to a prescribed shape corresponding to the track of the optical disk.例文帳に追加

ガラス基板７０上にクロム膜７１を形成する工程（Ｓ２１）と、光ディスクのトラックに対応する所定形状に前記クロム膜７１をパターニングする工程（Ｓ２２〜Ｓ２６）により、光ディスク用の原盤７３を製造である。 - 特許庁

To provide a lithography system in which throughput can be increased through patterning of all feature sizes during exposure and features can be patterned over an entire surface of a substrate substantially at a same time as required.例文帳に追加

各露光中にあらゆるフィーチャサイズのパターニングにわたりスループットを高めることができるようにし、必要に応じて実質的に一度に１つの基板の表面全体にフィーチャをパターニングできるようにしたリソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

From the orientation of the quarter wave plate 13 and the analyzer 14 when light is no longer detected, it is possible to calculate a change in relative phase on the surface of the patterning device MA and also to calculate the width (or thickness) of contamination.例文帳に追加

光が検出されなくなったときの４分の１波長板１３およびアナライザ１４の配向から、パターニングデバイスＭＡの表面での相対位相変化を計算でき、汚染広さ（または厚さ）を計算することができる。 - 特許庁

The communication basic library has a telegram conversion pattern obtained by patterning processes at the caller side terminal with time and the response side terminal with respect to the communication of a telegram, the number of the telegram conversion pattern, and a command identifier.例文帳に追加

通信基本ライブラリは、電文の通信に関する呼出側の端末及び応答側の端末の時間経過に伴う処理をパターン化した電文交換パターン、当該電文交換パターンの番号及びコマンド識別子有している。 - 特許庁

In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.例文帳に追加

パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁

When a user takes a predetermined motion while the camera part of the mobile communication terminal equipment is active, the mobile communication terminal equipment recognizes the motion of the user, and performs a predetermined action according to a motion pattern by patterning the motion.例文帳に追加

移動通信端末機のカメラ部をアクティブにした状態において、ユーザーが所定のモーションを取ると、移動通信端末機は、ユーザーのモーションを認識し、そのモーションをパターン化してモーションパターンに応じる所定の動作を行う。 - 特許庁

This connector 1 has wiring parts 11 composed by transferring a wiring part-use metal thin film formed on a transferring plate through a metal film together with the metal film by means of thermocompression bonding, and electrodes 12, 21 formed by patterning a metal film.例文帳に追加

コネクターは、転写板に金属膜を介して形成された配線部用金属薄層が金属膜と共に熱圧着により転写されて形成された配線部と、金属膜がパターニングされて形成された電極とを有する。 - 特許庁

Phosphorus ions are implanted to a first conductive film formed on the diffusion layer on a substrate, and a damaged layer is formed on the surface part, and then patterning is performed with a resist film formed thereon as a mask, thereby forming a first conductive film 9B.例文帳に追加

基板上の拡散層上に形成した第１導電膜にリンイオンを注入して、その表面部にダメージ層を形成した後、その上に形成したレジスト膜をマスクにしてパターニングして第１導電膜９Ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device and a method for manufac turing the same which enable reduction in a cost and simplification of the process by forming a plurality of patterns on the same substrate and minimizing the number of masks required in the patterning.例文帳に追加

本発明は、複数のパターンを同一基板上に形成し、前記パターン時要求されるマスクの数を最小化してコスト減少及び工程を簡素化するための液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A red colored layer 14R is roughly divided into a color filter portion 14R forming a red color filter and a spacer portion 14RS, and both the portions 14RC and 14RS are formed by patterning the single color layer.例文帳に追加

赤色着色層１４Ｒは赤色のカラーフィルタを成すカラーフィルタ部分１４ＲＣとスペーサ部分１４ＲＳとに大別され、両部分１４ＲＣ，１４ＲＳは単一の着色層をパターニングすることによって形成される。 - 特許庁

The manufacturing process for the semiconductor has applying, after forming a resist pattern on an underlaying layer, the thickening material to the surface of the resist pattern to be thickened, and patterning the underlying layer by etching, the pattern as a mask.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an Ag alloy film for electronic parts which combinedly has low electric resistance, heat resistance, corrosion resistance, and adhesion and patterning properties for a substrate, and to provide a sputtering target for forming the Ag alloy film for electronic parts.例文帳に追加

低い電気抵抗と耐熱性、耐食性、そして基板への密着性およびパタニング性を兼ね備えた電子部品用Ａｇ合金膜とその電子部品用Ａｇ合金膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The thickness of a ruthenium film or an osmium film is enough in the degree of one by ten compared with a case wherein a silicon oxide film is employed as the etching mask of platinum or iridium while the aspect ratio of a patterning mask on platinum becomes a low value in the range of 1-2.例文帳に追加

白金やイリジウムのエッチングマスクにシリコン酸化膜を採用する場合に比べて、ルテニウム膜やオスミウム膜の膜厚はその１０分の１程度で済み、白金上のパターニングマスクのアスペクト比が１〜２程度の低い値となる。 - 特許庁

The shadow mask 100 on which a fluorescent pattern 103 is formed by patterning a fluorescent coating material prepared by incorporating fluorescent agent or luminous agent is produced on the side of a large hole opening mask 16a of the shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの大孔開口マスク１６ａ側の大孔開口マスク１６ａ側に蛍光剤或いは蓄光剤を調合した蛍光体塗料をパターニング処理して蛍光体パターン１０３が形成されたシャドウマスク１００を作製する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a device, having a ferromagnetic tunnel junction element with improved characteristics by properly patterning constituent layers of a multilayered film having a first and a second ferromagnetic layer and a tunnel insulation layer interposed between these ferromagnetic layers.例文帳に追加

第１および第２の強磁性体層ならびにこれらに挟まれたトンネル絶縁層を有する多層膜の構成層を良好にパターニングして、特性の改善された強磁性トンネル接合素子を有する装置を製造する。 - 特許庁

A first α-Si film is formed on the surface of a quartz substrate 11 for patterning, and then a second α-Si film is formed over it, which is crystalized in a thermal process with Ni as a catalyst for form a CGS film 16.例文帳に追加

石英基板１１表面に第１のα−Ｓｉ膜を形成してパターニングした後、その上に第２のα−Ｓｉ膜を形成し、Ｎｉを触媒として熱処理によって結晶化して、ＣＧＳ膜１６を形成する。 - 特許庁

Thus, the incident light reaches a first photoelectric conversion layer without resorting to the second photoelectric conversion layer while a surface area is increased by patterning the second photoelectric conversion layer, resulting in higher conversion efficiency.例文帳に追加

これによって、第１光電変換層においては第２光電変換層を介さずに入射光が到達でき、さらに、第２光電変換層のパターニングにより表面積を増加させることが出来るので、高い変換効率を実現出来る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an image display device using energy of laser beams or the like as a heat source of transcription, capable of easily inspecting precision of patterning after transcribing a phosphor ink film on the inner surface of a panel, before baking.例文帳に追加

レーザビームなどのエネルギビームを転写熱源として用い、蛍光体インク膜をパネルの内面に転写した後であって、焼成する前に、容易にパターニングの精度などの検査が可能な画像表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

After patterning is carried out so that the dielectric film 12 and the oxide film 13 have the same pattern, the oxide film 13 is selectively etched starting from the dielectric film 12 and the oxide film 13 is formed to a pattern whose width is smaller than that of the dielectric film 12.例文帳に追加

絶縁膜１２及び酸化膜１３が同じパターンとなるように、パターニングした後に、酸化膜１３を絶縁膜１２から選択的にエッチングし、酸化膜１３を絶縁膜１２よりも小さな幅のパターンに形成する。 - 特許庁

In the patterning of the double-layer plate, a marking for positioning is formed at the outer-periphery edge of a substrate, a through-hole 19 is drilled, conductor bump 17, 17, and so on are printed onto the wiring pattern of the double-layer plate, and double-layer plates 18 and 28 with bumps are obtained.例文帳に追加

２層板をパターニングする際に、基板外周縁に位置決め用マーキングを形成し、貫通孔１９を穿孔し、２層板の配線パターン上に導体バンプ１７，１７，…を印刷し、バンプ付２層板１８，２８を得る。 - 特許庁

Next, the conductor layers 2, 3, the thin film conductor layer 6 and the conductor layer 7 are processed by patterning, and wiring layers 2a, 7a and lands for grating-like outside connection 3a, 7a are formed to obtain the film carrier 10.例文帳に追加

次に、導体層２、導体層３、薄膜導体層６及び導体層７をパターニング処理し、配線層２ａ及び７ａと格子状の外部接続用ランド３ａ及び７ｂを形成して、本発明のフィルムキャリア１０を得る。 - 特許庁

The force actuator device comprises an actuator for at least partially compensating the information or risk of sliding due to acceleration of the supporting object in the movement direction, and further for exerting a force upon the patterning device via the movable part.例文帳に追加

力アクチュエータデバイスは、移動方向における支持体の加速による滑りの情報または危険性を少なくとも部分的に補償するために、さらに可動部分を介してパターニングデバイス上に力を及ぼすためのアクチュエータを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical element materializing a liquid crystal phase region which applies a desired phase difference in a retardation control layer, with high resolution, and to provide an optical element having high patterning quality obtained by the method.例文帳に追加

位相差制御層において所望の位相差を付与する液晶相領域を高解像度で実現することのできる光学素子を製造する方法、およびこれにより得られる高いパターニング品質の光学素子を提供する - 特許庁

The waffle structure and patterning provide the conventional advantage, such as the high clearness and high throughput of embossing and lifting-off technique, and conquers the conventional restriction that the maximum size is limited in the embossing and lifting-off technique.例文帳に追加

このワッフル構造、パターニングは、エンボス加工およびリフトオフ技法の高鮮明度および高スループットという従来からの利点を提供し、エンボスおよびリフトオフ技法について最大サイズが制限されるという従来からの制約を克服する。 - 特許庁

To provide a display, in which even when pitch between wiring are made small by high definition, the prescribed area of a terminal connected to an IC driver can be secured, patterning of wiring can be performed, and improvement in short margin is aimed at.例文帳に追加

高精細化によって配線間のピッチが小さくなった場合であっても、ＩＣドライバと接続する端子の所定の面積が確保でき、配線のパターニングを可能とし、ショートマージンの向上を図った表示装置の提供。 - 特許庁

To provide an NiCu alloy target material for a Cu electrode protective film which can suppress deterioration in the electrical characteristics caused by electrolytic corrosion and atomic diffusion of a Cu electrode, and can achieve patterning with high precision by wet etching.例文帳に追加

Ｃｕ電極の電解腐食や原子拡散による電気的特性の劣化を抑制することができ、ウェットエッチングにより高精度のパターニングが可能なＣｕ電極保護膜用ＮｉＣｕ合金ターゲット材を提供すること。 - 特許庁

To provide a technology of preparing a mentoring scenario and automatically performing appropriate mentoring to each participant by collecting, classifying and arranging the mentoring of a mentor in a system for patterning the mentorship of e-learning as a scenario and performing automatic mentoring.例文帳に追加

eラーニングの指導をシナリオとしてパターン化し自動指導を行うシステムにおいて、指導者のメンタリングを収集し分類整理することで、メンタリングシナリオを作成し、自動的に個々の受講者に適切なメンタリングを行う技術の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for preventing the deformation of a pattern in an STI region patterning process concerning a nonvolatile semiconductor integrated circuit device with a configuration where a plurality of transistor cells having a common gate are arranged like an array.例文帳に追加

共通ゲートを有する複数のトランジスタセルをアレー状に配置する構成を持つ不揮発性半導体集積回路装置において、ＳＴＩ領域のパターニング工程でのパターンの変形を防ぐ製造方法を提供する。 - 特許庁

A mask blank 10 is produced by forming a thin film 2 for patterning, comprising a material containing at least one of metal and silicon, on a light-transmitting substrate 1 by a sputtering method using a sputtering film-forming device.例文帳に追加

透光性基板１上に金属及びケイ素のうち少なくともいずれかを含有する材料からなるパターン形成用薄膜２をスパッタ成膜装置を用いてスパッタリング法で形成することによりマスクブランク１０を製造する。 - 特許庁

Furthermore, since a plurality of the island-shaped patterns can be formed at the same time of wiring, the relief structure can be formed without especially increasing patterning processes only for forming the relief structure in a manufacturing process.例文帳に追加

さらに、複数の島状のパターンは、配線と同時に形成することができるので製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming an optical waveguide which includes a core having various shapes such as a branch by only a simple step of irradiation with light or the like while eliminating a step of patterning a core by development.例文帳に追加

現像によるコア部のパターニング工程を含まずに、光の照射等の簡易な工程のみによって、分岐状等の種々の形状を有するコア部を含む光導波路を形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Subsequently, a non-magnetic layer 8 and a lower magnetic pole 9 are selectively formed by polishing the entire body by a CMP method until at least the frame pattern 50 is exposed and patterning the precursory non- magnetic layer and the precursory lower magnetic pole layer.例文帳に追加

続いて、ＣＭＰ法によって少なくともフレームパターン５０が露出するまで全体を研磨し、前駆非磁性層および前駆下部磁極層をパターニングすることにより、非磁性層８および下部磁極９を選択的に形成する。 - 特許庁

The anti-falsifying medium obtained by laminating a plurality of layers on the support 11 contains an undercoat layer 13 and at least one optically anisotropic patterning layer 12 containing two or more areas having birefringences different from one another.例文帳に追加

支持体１１上に複数の層を積層してなる偽造防止媒体であって、下塗り層１３と、複屈折性が異なる領域を二つ以上含む少なくとも一層のパターニング光学異方性層１２とを含む偽造防止媒体。 - 特許庁

The method of forming a planar CMOS transistor divides the step of forming the gate layer into a first step of patterning a resist layer with a first portion of the gate layer pattern and then etching the polysilicon with the pattern of the gates.例文帳に追加

プレーナＣＭＯＳトランジスタを形成する方法は、ゲート層を形成する工程を、ゲート層パターンの第一の部分でレジスト層をパターン形成し、次にゲートのパターンで多結晶シリコンをエッチングする第一の工程に分割する。 - 特許庁

A detection system for detecting particle contamination in a lithographic apparatus includes an illumination system that directs a radiation beam onto a section of a surface of a patterning device to generate at least first and second components of patterned radiation.例文帳に追加

リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。 - 特許庁