「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a technology of preparing a mentoring scenario and automatically performing appropriate mentoring to each participant by collecting, classifying and arranging the mentoring of a mentor in a system for patterning the mentorship of e-learning as a scenario and performing automatic mentoring.例文帳に追加

eラーニングの指導をシナリオとしてパターン化し自動指導を行うシステムにおいて、指導者のメンタリングを収集し分類整理することで、メンタリングシナリオを作成し、自動的に個々の受講者に適切なメンタリングを行う技術の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for preventing the deformation of a pattern in an STI region patterning process concerning a nonvolatile semiconductor integrated circuit device with a configuration where a plurality of transistor cells having a common gate are arranged like an array.例文帳に追加

共通ゲートを有する複数のトランジスタセルをアレー状に配置する構成を持つ不揮発性半導体集積回路装置において、ＳＴＩ領域のパターニング工程でのパターンの変形を防ぐ製造方法を提供する。 - 特許庁

A mask blank 10 is produced by forming a thin film 2 for patterning, comprising a material containing at least one of metal and silicon, on a light-transmitting substrate 1 by a sputtering method using a sputtering film-forming device.例文帳に追加

透光性基板１上に金属及びケイ素のうち少なくともいずれかを含有する材料からなるパターン形成用薄膜２をスパッタ成膜装置を用いてスパッタリング法で形成することによりマスクブランク１０を製造する。 - 特許庁

This connector 1 has wiring parts 11 composed by transferring a wiring part-use metal thin film formed on a transferring plate through a metal film together with the metal film by means of thermocompression bonding, and electrodes 12, 21 formed by patterning a metal film.例文帳に追加

コネクターは、転写板に金属膜を介して形成された配線部用金属薄層が金属膜と共に熱圧着により転写されて形成された配線部と、金属膜がパターニングされて形成された電極とを有する。 - 特許庁

Phosphorus ions are implanted to a first conductive film formed on the diffusion layer on a substrate, and a damaged layer is formed on the surface part, and then patterning is performed with a resist film formed thereon as a mask, thereby forming a first conductive film 9B.例文帳に追加

基板上の拡散層上に形成した第１導電膜にリンイオンを注入して、その表面部にダメージ層を形成した後、その上に形成したレジスト膜をマスクにしてパターニングして第１導電膜９Ｂを形成する。 - 特許庁

The manufacturing process for the semiconductor has applying, after forming a resist pattern on an underlaying layer, the thickening material to the surface of the resist pattern to be thickened, and patterning the underlying layer by etching, the pattern as a mask.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンをマスクとしてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide an Ag alloy film for electronic parts which combinedly has low electric resistance, heat resistance, corrosion resistance, and adhesion and patterning properties for a substrate, and to provide a sputtering target for forming the Ag alloy film for electronic parts.例文帳に追加

低い電気抵抗と耐熱性、耐食性、そして基板への密着性およびパタニング性を兼ね備えた電子部品用Ａｇ合金膜とその電子部品用Ａｇ合金膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

The master disk 73 for optical disks is manufactured by a process (S21) of forming a chromium film 71 on a glass substrate 70 and processes (S22 to S26) of patterning the chromium film 71 to a prescribed shape corresponding to the track of the optical disk.例文帳に追加

ガラス基板７０上にクロム膜７１を形成する工程（Ｓ２１）と、光ディスクのトラックに対応する所定形状に前記クロム膜７１をパターニングする工程（Ｓ２２〜Ｓ２６）により、光ディスク用の原盤７３を製造である。 - 特許庁

The communication basic library has a telegram conversion pattern obtained by patterning processes at the caller side terminal with time and the response side terminal with respect to the communication of a telegram, the number of the telegram conversion pattern, and a command identifier.例文帳に追加

通信基本ライブラリは、電文の通信に関する呼出側の端末及び応答側の端末の時間経過に伴う処理をパターン化した電文交換パターン、当該電文交換パターンの番号及びコマンド識別子有している。 - 特許庁

In a device manufacturing method and a lithographic apparatus in which a pattern is transferred from a patterning device onto a substrate, a measurement target is provided on the substrate in a process, enabling execution of a substrate measurement by using radiation of a first wavelength.例文帳に追加

パターンがパターニングデバイスから基板上に転写されるデバイス製造方法およびリソグラフィ装置では、計測ターゲットが第１波長の放射を使用して基板計測の実行を可能にする工程で基板上に提供される。 - 特許庁

When a user takes a predetermined motion while the camera part of the mobile communication terminal equipment is active, the mobile communication terminal equipment recognizes the motion of the user, and performs a predetermined action according to a motion pattern by patterning the motion.例文帳に追加

移動通信端末機のカメラ部をアクティブにした状態において、ユーザーが所定のモーションを取ると、移動通信端末機は、ユーザーのモーションを認識し、そのモーションをパターン化してモーションパターンに応じる所定の動作を行う。 - 特許庁

The thickness of a ruthenium film or an osmium film is enough in the degree of one by ten compared with a case wherein a silicon oxide film is employed as the etching mask of platinum or iridium while the aspect ratio of a patterning mask on platinum becomes a low value in the range of 1-2.例文帳に追加

白金やイリジウムのエッチングマスクにシリコン酸化膜を採用する場合に比べて、ルテニウム膜やオスミウム膜の膜厚はその１０分の１程度で済み、白金上のパターニングマスクのアスペクト比が１〜２程度の低い値となる。 - 特許庁

The anti-falsifying medium obtained by laminating a plurality of layers on the support 11 contains an undercoat layer 13 and at least one optically anisotropic patterning layer 12 containing two or more areas having birefringences different from one another.例文帳に追加

支持体１１上に複数の層を積層してなる偽造防止媒体であって、下塗り層１３と、複屈折性が異なる領域を二つ以上含む少なくとも一層のパターニング光学異方性層１２とを含む偽造防止媒体。 - 特許庁

Furthermore, since a plurality of the island-shaped patterns can be formed at the same time of wiring, the relief structure can be formed without especially increasing patterning processes only for forming the relief structure in a manufacturing process.例文帳に追加

さらに、複数の島状のパターンは、配線と同時に形成することができるので製造プロセス中において、凹凸構造を形成するためだけのパターニング工程を特に増やすことなく、凹凸構造を形成することができる。 - 特許庁

The force actuator device comprises an actuator for at least partially compensating the information or risk of sliding due to acceleration of the supporting object in the movement direction, and further for exerting a force upon the patterning device via the movable part.例文帳に追加

力アクチュエータデバイスは、移動方向における支持体の加速による滑りの情報または危険性を少なくとも部分的に補償するために、さらに可動部分を介してパターニングデバイス上に力を及ぼすためのアクチュエータを含む。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical element materializing a liquid crystal phase region which applies a desired phase difference in a retardation control layer, with high resolution, and to provide an optical element having high patterning quality obtained by the method.例文帳に追加

位相差制御層において所望の位相差を付与する液晶相領域を高解像度で実現することのできる光学素子を製造する方法、およびこれにより得られる高いパターニング品質の光学素子を提供する - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, such as insulation gate type field effect transistor (IGFET) of high integration, in which damage are prevented even in micro-patterning.例文帳に追加

高集積度の絶縁ゲート型電界効果トランジスタ（ＩＧＦＥＴ）を含む半導体装置の製造方法に関し、微細パターンの加工においても、半導体装置の損傷を防止できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a package, capable of preventing problems such as damage, deformed crack or crack in dividing a frame sheet into individual packages even when the package downsized in accordance with demands of integration is manufactured using the multiple patterning.例文帳に追加

集積化の要望に応じて小型化されたパッケージを多数個取りの製造を行う場合においても、個別に分割する際に破損や、異形割れ、クラックが発生する問題のないパッケージの製造方法を提供することである。 - 特許庁

This is a forming method of a transparent electrode comprising a process to form a transparent conductive film having ZnO added with Mg on a substrate and a process to form patterning of the transparent conductive film using an etching liquid containing HCl.例文帳に追加

基板上にＺｎＯにＭｇが添加された透明導電膜を形成する工程と、ＨＣｌを含むエッチング液を用いて上記透明導電膜をパターンニングする工程とを含む透明電極の形成方法により解決される。 - 特許庁

After a metallic substrate 101 is coated with a resist resin 102, a projected shape mold is formed by patterning this resist resin 102, the periphery of the resist resin 102 is etched, and recess parts 101A are formed on the substrate 101.例文帳に追加

金属製の基板１０１上にレジスト樹脂１０２をコーティングした後、このレジスト樹脂１０２をパターニングすることにより凸部形状の型を形成し、レジスト樹脂１０２の周辺をエッチングし、基板１０１に凹部１０１Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device and a method for manufac turing the same which enable reduction in a cost and simplification of the process by forming a plurality of patterns on the same substrate and minimizing the number of masks required in the patterning.例文帳に追加

本発明は、複数のパターンを同一基板上に形成し、前記パターン時要求されるマスクの数を最小化してコスト減少及び工程を簡素化するための液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A red colored layer 14R is roughly divided into a color filter portion 14R forming a red color filter and a spacer portion 14RS, and both the portions 14RC and 14RS are formed by patterning the single color layer.例文帳に追加

赤色着色層１４Ｒは赤色のカラーフィルタを成すカラーフィルタ部分１４ＲＣとスペーサ部分１４ＲＳとに大別され、両部分１４ＲＣ，１４ＲＳは単一の着色層をパターニングすることによって形成される。 - 特許庁

To provide a lithography system in which throughput can be increased through patterning of all feature sizes during exposure and features can be patterned over an entire surface of a substrate substantially at a same time as required.例文帳に追加

各露光中にあらゆるフィーチャサイズのパターニングにわたりスループットを高めることができるようにし、必要に応じて実質的に一度に１つの基板の表面全体にフィーチャをパターニングできるようにしたリソグラフィシステムを提供する。 - 特許庁

From the orientation of the quarter wave plate 13 and the analyzer 14 when light is no longer detected, it is possible to calculate a change in relative phase on the surface of the patterning device MA and also to calculate the width (or thickness) of contamination.例文帳に追加

光が検出されなくなったときの４分の１波長板１３およびアナライザ１４の配向から、パターニングデバイスＭＡの表面での相対位相変化を計算でき、汚染広さ（または厚さ）を計算することができる。 - 特許庁

The waffle structure and patterning provide the conventional advantage, such as the high clearness and high throughput of embossing and lifting-off technique, and conquers the conventional restriction that the maximum size is limited in the embossing and lifting-off technique.例文帳に追加

このワッフル構造、パターニングは、エンボス加工およびリフトオフ技法の高鮮明度および高スループットという従来からの利点を提供し、エンボスおよびリフトオフ技法について最大サイズが制限されるという従来からの制約を克服する。 - 特許庁

A lithographic apparatus includes: an illumination system configured to adjust a radiation beam; and a support medium constructed to support a patterning device capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体とを含む。 - 特許庁

The method of forming a planar CMOS transistor divides the step of forming the gate layer into a first step of patterning a resist layer with a first portion of the gate layer pattern and then etching the polysilicon with the pattern of the gates.例文帳に追加

プレーナＣＭＯＳトランジスタを形成する方法は、ゲート層を形成する工程を、ゲート層パターンの第一の部分でレジスト層をパターン形成し、次にゲートのパターンで多結晶シリコンをエッチングする第一の工程に分割する。 - 特許庁

A detection system for detecting particle contamination in a lithographic apparatus includes an illumination system that directs a radiation beam onto a section of a surface of a patterning device to generate at least first and second components of patterned radiation.例文帳に追加

リソグラフィ装置におけるパーティクル汚染を検出する検出システムは、パターニングデバイスの表面のセクション上に放射ビームを導き、パターン付き放射の少なくとも第１の成分および第２の成分を生成する照明システムを含む。 - 特許庁

After forming a gate insulating film 12a on a semiconductor substrate 10, a gate electrode 14a, and an interlayer insulating film 16a are formed by depositing a polysilicon layer, thermal oxidation, etching the shoulder of an oxide film, and patterning a gate.例文帳に追加

半導体基板１０の表面にゲート絶縁膜１２ａを形成した後、ポリシリコン層の堆積、熱酸化、酸化膜の肩部エッチング、ゲートパターニングの処理によりゲート電極層１４ａ及び層間絶縁膜１６ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming an optical waveguide which includes a core having various shapes such as a branch by only a simple step of irradiation with light or the like while eliminating a step of patterning a core by development.例文帳に追加

現像によるコア部のパターニング工程を含まずに、光の照射等の簡易な工程のみによって、分岐状等の種々の形状を有するコア部を含む光導波路を形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To realize manufacturing method of a semiconductor device which can reduce nonuniformity in the line width of a thin film after patterning on the occasion, when the thin film formed on a semiconductor wafer is patterned into a prescribed shape.例文帳に追加

本発明は、半導体ウェーハ上に形成された薄膜を所定の形状にパターニングする際に、そのパターニング後の薄膜の線幅のばらつきを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Subsequently, a non-magnetic layer 8 and a lower magnetic pole 9 are selectively formed by polishing the entire body by a CMP method until at least the frame pattern 50 is exposed and patterning the precursory non- magnetic layer and the precursory lower magnetic pole layer.例文帳に追加

続いて、ＣＭＰ法によって少なくともフレームパターン５０が露出するまで全体を研磨し、前駆非磁性層および前駆下部磁極層をパターニングすることにより、非磁性層８および下部磁極９を選択的に形成する。 - 特許庁

In forming an oxidized film on the surface of the Al film and patterning an ITO film, the erosion of the Al film is prevented and the Al oxidized film/the ITO film exhibit the function as antireflection films in the pixel electrodes 66.例文帳に追加

また、Ａｌ膜の表面に酸化膜を形成しておき、ＩＴＯ膜をパターニングする際、Ａｌ膜が侵されるのを防止し、かつ、画素電極６６では、Ａｌ酸化膜／ＩＴＯ膜が反射防止膜としての機能を発揮させる。 - 特許庁

By continuously patterning the second composite nano-crystalline layer 6, the semiconductor layer 3b, and the conductive layer 12a, a pattern of a drift part 6, a polycrystalline silicon layer 3, and an lower electrode 12 is formed.例文帳に追加

次に、第２の複合ナノ結晶層６ａおよび半導体層３ｂおよび導電性層１２ａを連続的にパターニングすることでドリフト部６および多結晶シリコン層３および下部電極１２をパターン形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

And then, a third impurity injection mask consisting of the gate electrode is formed by patterning the mask 35 again, and the n-type impurity is injected in low concentration with the third impurity injection mask used as a mask.例文帳に追加

次に、第２の不純物注入マスク３５を再度パターニングしてゲート電極からなる第３の不純物注入マスクを形成し、この第３の不純物注入マスクをマスクとしてｎ型不純物を低濃度に注入する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electron source in which the lower electrode can be patterned in cross-sectionally trapezoidal shape and the yield of manufacture can be made greater compared with the case of patterning the lower electrode using a lift-off method.例文帳に追加

下部電極を断面台形状の形状にパターニングすることができ且つリフトオフ法を利用して下部電極をパターニングする場合に比べて製造歩留まりを高めることができる電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric substance having high piezoelectric performance, a manufacturing method thereof, a piezoelectric element, a liquid discharge head using the same, which exhibits uniform and high discharge performance and can perform executing fine patterning, and a liquid discharge apparatus.例文帳に追加

大きな圧電性を有する圧電体、その製造方法及び圧電素子並びにそれを用いた均一で高い吐出性能を示し、微細なパターニングを行うことが可能な液体吐出ヘッド及び液体吐出装置を提供する。 - 特許庁

On the occasion of the patterning, the resin layer 102 is etched up to the bottom electrode 13a, so that resin forming the resin layer 102 does not substantially remain on the surface of the bottom electrode 13a facing the spaces 14a.例文帳に追加

該パターニングにあたり、液媒収容空間１４ａに面する下部電極１３ａの表面上に樹脂層１０２を構成する樹脂が実質的に残存しないように樹脂層１０２を下部電極１３ａまでエッチングする。 - 特許庁

Next, after a gate insulation film and a semiconductor layer are formed sequentially, a conductive film of MoW alloy is stacked and patterning is carried out using the same etchant as that for the gate line to form a data line having a source electrode and a drain electrode.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜及び半導体層を順次に形成した後、MoW alloyの導電膜を積層し、ゲート線用エッチング液と同一なエッチング液でパターニングしてソース電極を有するデータ線及びドレーン電極を形成する。 - 特許庁

To provide a resist patterning method yielding finer resist patterns than resolution of an exposure apparatus and capable of processing, in a relatively short process, even a multilayer photoresist film (having a plurality of layers), and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光装置の解像度に比べて微細なレジストパターンが得られると共に、多層（複数層）のフォトレジスト膜を用いても比較的に短いプロセスで処理できるレジストパターニング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for thickening a resist pattern by coating the surface of the pattern with the thickening material after forming the pattern on an underlayer and a step for patterning the underlayer by etching through the pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the patterning method using a liquid material while using an inkjet system, the liquid material is prevented from extruding by forming a concave structure by laser in the inside of a bent portion in a wiring forming route on the substrate.例文帳に追加

インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、基板上の配線形成経路における折れ曲り部の内側にレーザにより凹構造を形成することによりの液体材料のはみだしを防止する。 - 特許庁

A plurality of anode electrodes 15 are formed by patterning on a TFT driving substrate 6, an oxide silicon base film 9' is formed so as to cover all the anode electrodes 15, and a resist film 8' is formed all over the oxide silicon base film 9'.例文帳に追加

ＴＦＴ駆動基板６に複数のアノード電極１５をパターニングし、全てのアノード電極１５を被覆するように酸化シリコン下地膜９’を形成し、酸化シリコン下地膜９’一面にレジスト膜８’を形成する。 - 特許庁

A ramp edge surface is worked/molded at deca-nanometer scale precision with no resist patterning, with the machining surface used as a barrier.例文帳に追加

任意の位置に任意の形状で、デカナノスケールの微細加工ができるという集束イオンビームの特長を利用して、レジストパターニングを必要とせず、デカナノスケールの精度でランプエッジ面を加工・成形して、その加工表面をバリアに用いる接合作製方法である。 - 特許庁

To provide a thin film transistor improved in element characteristics, and so having their uniform values by adjusting the position and direction of crystal growth by forming a seed in a line form for crystallization through the patterning of a capping layer.例文帳に追加

キャッピング層のパターニングを通じてライン形態シードを形成して結晶化することにより、結晶が成長する位置及び方向を調節して素子特性を向上させ、均一な値を有する薄膜トランジスターを提供する。 - 特許庁