「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of an electron source in which the lower electrode can be patterned in cross-sectionally trapezoidal shape and the yield of manufacture can be made greater compared with the case of patterning the lower electrode using a lift-off method.例文帳に追加

下部電極を断面台形状の形状にパターニングすることができ且つリフトオフ法を利用して下部電極をパターニングする場合に比べて製造歩留まりを高めることができる電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a piezoelectric substance having high piezoelectric performance, a manufacturing method thereof, a piezoelectric element, a liquid discharge head using the same, which exhibits uniform and high discharge performance and can perform executing fine patterning, and a liquid discharge apparatus.例文帳に追加

大きな圧電性を有する圧電体、その製造方法及び圧電素子並びにそれを用いた均一で高い吐出性能を示し、微細なパターニングを行うことが可能な液体吐出ヘッド及び液体吐出装置を提供する。 - 特許庁

On the occasion of the patterning, the resin layer 102 is etched up to the bottom electrode 13a, so that resin forming the resin layer 102 does not substantially remain on the surface of the bottom electrode 13a facing the spaces 14a.例文帳に追加

該パターニングにあたり、液媒収容空間１４ａに面する下部電極１３ａの表面上に樹脂層１０２を構成する樹脂が実質的に残存しないように樹脂層１０２を下部電極１３ａまでエッチングする。 - 特許庁

To provide a resist patterning method yielding finer resist patterns than resolution of an exposure apparatus and capable of processing, in a relatively short process, even a multilayer photoresist film (having a plurality of layers), and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

露光装置の解像度に比べて微細なレジストパターンが得られると共に、多層（複数層）のフォトレジスト膜を用いても比較的に短いプロセスで処理できるレジストパターニング方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step for thickening a resist pattern by coating the surface of the pattern with the thickening material after forming the pattern on an underlayer and a step for patterning the underlayer by etching through the pattern.例文帳に追加

下地層上にレジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布し該パターンを厚肉化する工程と、該パターンを用いてエッチングにより下地層をパターニングする工程とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the patterning method using a liquid material while using an inkjet system, the liquid material is prevented from extruding by forming a concave structure by laser in the inside of a bent portion in a wiring forming route on the substrate.例文帳に追加

インクジェット方式を用いた液体材料によるパターニング方法において、基板上の配線形成経路における折れ曲り部の内側にレーザにより凹構造を形成することによりの液体材料のはみだしを防止する。 - 特許庁

Next, after a gate insulation film and a semiconductor layer are formed sequentially, a conductive film of MoW alloy is stacked and patterning is carried out using the same etchant as that for the gate line to form a data line having a source electrode and a drain electrode.例文帳に追加

次に、ゲート絶縁膜及び半導体層を順次に形成した後、MoW alloyの導電膜を積層し、ゲート線用エッチング液と同一なエッチング液でパターニングしてソース電極を有するデータ線及びドレーン電極を形成する。 - 特許庁

The TiN anti-reflective film 21 having the flat surface is formed in order to prevent the occurrence of halation during the patterning of a layered wiring including the AlCu film 20, and also, to prevent penetration of an etchant during the wet etching.例文帳に追加

平坦な表面を有するＴｉＮ反射防止膜２１を形成することで、ＡｌＣｕ膜２０を含む積層配線のパターニングに際して、ハレーションを防止し、また、ウェットエッチングに際してエッチング液の浸透を防止する。 - 特許庁

Another configuration includes the patterning of both gate electrode layers with the advantage of utilizing the drain extension and source/drain implants as the gate doping implants and the option of offsetting the two patterns to create an asymmetric device.例文帳に追加

別の構成では、両ゲート電極層のパターン形成を含み、ドレイン延長部及びソース／ドレインの注入をゲートのドーピングの注入として使用する利点と、２つのパターンをずらし、非対称デバイスを生成するという選択肢がある。 - 特許庁

This patterning method includes at least three steps of etching processes, in which a fluorine-containing gas is used for etching at a first step, a chlorine-containing gas is used for etching at a second step, and a bromine-containing gas is used for etching at a third step.例文帳に追加

このパターニング法は、少なくとも３段階のエッチングプロセスを含み、第一の段階ではフッ素を含むガスが、第二の段階では塩素を含むガスが、第三の段階では臭素を含むガスがエッチングのために使用される。 - 特許庁

To provide a porous metal oxide film excellent in patterning fitness, adhesiveness to a substrate and electroconductivity, and furthermore, a display element using the porous metal oxide film excellent in driving stability.例文帳に追加

パターニング適性、基板との密着性、導電性に優れた金属酸化物多孔質膜を提供することであり、更にかかる金属酸化物多孔質膜を用いた駆動安定性に優れた表示素子を提供することである。 - 特許庁

To prevent film peeling of an auxiliary electrode 8 formed by shadow mask patterning in order to reduce a sheet resistance of a translucent electrode 7 in an active matrix type organic EL display device using a top emission type organic EL element.例文帳に追加

トップエミッション型有機ＥＬ素子を用いたアクティブマトリクス型有機ＥＬ表示装置において、透光性電極７のシート抵抗を低減させるためにシャドーマスクパターニングにより形成される補助電極８の膜剥がれを防止する。 - 特許庁

A pulse-like solid-state laser 13 of a small pulse width emitting infrared radiation is used for patterning the front-side electrode 3 made of zinc oxide and formed on a transparent electrically-insulating substrate 2 in manufacturing a photovoltaic module.例文帳に追加

光起電モジュールの製造時に透明な電気絶縁性の基板２上に成膜された酸化亜鉛製の前側電極層３をパターン加工するために、赤外放射を発する短いパルス幅のパルス状固体レーザ１３が使用される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing nanoparticles excelling in dispersibility in both resin and a developing solution and having excellent transmissivity and patterning property, and to provide a photosensitive element using the photosensitive resin composition, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加

樹脂中及び現像液中の双方でナノ粒子の分散性が良く、透過率、パターニング性に優れるナノ粒子を含有した感光性樹脂組成物及び、それを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To improve corrosion resistance of Al or an Al alloy without complicating a process for patterning a semiconductor layer and a layered metal film comprising a high melting point metal film and a low resistance metal film made of Al or an Al alloy.例文帳に追加

半導体層及び高融点金属膜とＡｌまたはＡｌ合金からなる低抵抗金属膜との積層金属膜をパターン形成するに当たり、工程を複雑化することなく、ＡｌまたはＡｌ合金の耐腐食性を改善する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive polyimide precursor composition having good suitability to patterning, giving a cured film excellent in adhesion to a sealing resin and producible in a short producing step without carrying out the reprecipitation of a polymer and to obtain a method for producing the composition.例文帳に追加

良好なパターン加工性を有し、硬化膜の封止樹脂との密着性に優れ、ポリマーの再沈を経由せずに、短い製造工程で製造可能な感光性ポリイミド前駆体組成物およびその製造方法を得ることができる。 - 特許庁

To provide a resin which is a thermocurable or radiation-curable functional epoxy resin having high level heat resistance, electrical properties and optical properties and low shrinkage when being cured, and excellent in dispersibility and patterning property.例文帳に追加

熱硬化性あるいは放射線硬化性の機能性エポキシ樹脂であって、高いレベルでの耐熱性および電気特性、光学特性を有し、硬化時の収縮率が低く、分散性、パターニング性に優れた樹脂を提供する。 - 特許庁

By using patterning sections corresponding to thin-film transistors and by using a mask corresponding to an aligning key in the amorphous silicon crystallizing process, only necessary parts are crystallized and a decrease is achieved in process time.例文帳に追加

本発明では薄膜トランジスタに対応するパターン部とアラインキーに対応するマスクを利用して非晶質シリコンを結晶化することによって、必要な部分だけを結晶化できて工程時間を短縮させることができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of microdevice capable of realizing an MEMS(Micro Electro Mechanic System) or rugate filter with a high operating characteristic by patterning a thick functional material film in a high aspect ratio by an easy and practical manufacturing method.例文帳に追加

簡易で実用的な製造方法によって厚膜の機能性材料膜を高アスペクト比にパターニングして、動作特性の高いＭＥＭＳやルゲートフィルタなどを実現することが可能な微細装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a forming method of an etching mask capable of improving uniformity of CD of a pattern in double patterning, and forming an etching mask having uniform and excellent CD, and to provide a control program and a program storage medium.例文帳に追加

ダブルパターニングにおけるパターンのＣＤの均一性を向上させることができ、ＣＤが均一で良好なエッチングマスクを形成することのできるエッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a photosensitive ceramic sheet capable of adequately adhering with a support in a patterning process and easily peeling in a peeling process by reducing adhesiveness with the support.例文帳に追加

パターン加工工程においては支持体と充分密着した感光性セラミックスシートを、剥離工程においては基板との密着性を低くして容易に剥離することができる感光性セラミックスシートの加工方法を提供すること。 - 特許庁

After forming the overcoat layer 14 on a transparent substrate 13 so as to cover a color conversion filter layer, a photosensitive material 21 is formed so as to cover the overcoat layer, and patterning is applied to the photosensitive material by photolithography.例文帳に追加

色変換フィルター層を覆うように透明な基板１３上にオーバーコート層１４を形成した後、このオーバーコート層を覆うように感光性材料２１を形成し、この感光性材料２１をフォトリソグラフィによりパターニングする。 - 特許庁

Alternatively, a patterning foamable resin sheet formed into a patternwise shape using the foamed foamable resin sheet having a hue different from that of the foamable resin material sheet 1 is superposed on a plurality of the foamable resin material sheets 1 laminated within the mold 3 and hermetically sealed to be foamed under heating.例文帳に追加

金型３内に積層した複数枚の発泡樹脂素材板１の上に、その色彩と異なる発泡済みの発泡樹脂板で模様形状とした模様用発泡樹脂板を重ねて、密封し、加熱発泡させてもよい。 - 特許庁

To provide a multiple patterning ceramic substrate and a ceramic wiring substrate, which ensure providing brazing materials in given positions regardless of the sizes etc. of pads for brazing, allowing skip of conventional setting procedures, and to provide a method of manufacturing the substrate.例文帳に追加

ロウ付け用パッドの大きさなどに拘わらずロウ材を所定の位置に確実に配設でき、且つ従来のセッティング工程が省略できる多数個取りセラミック基板およびセラミック配線基板ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

A tool hole 115 is provided at a conductive metal plate base 110, a solution releasing metal layer 120 is formed on it by plating, and further a metal layer 130 is laminated, patterning is made with resist 140, and a wiring part 130A is formed.例文帳に追加

導電性金属板基材１１０に治具穴１１５を設け、その上に溶解剥離性金属層１２０をメッキ形成し、更に金属層１３０を積層してレジスト１４０でパターニングして配線部１３０Ａを形成する。 - 特許庁

To provide a lithographic apparatus in which a radiation beam which illuminates a patterning means polarizes to the substantially radial direction, and a diaphragm intercepts the diffraction polarized to the radial direction of patterned radiation.例文帳に追加

パターニング手段を照明する放射線ビームがほぼ半径方向に偏光し、ダイアフラムが、パターン形成された放射線の半径方向に偏光した回折部分を遮断するよう構築、配置構成されるリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

In this semiconductor device, in a step of patterning lamination films 205 to 207 containing a polycrystalline silicon film 206 as a base lead-out electrode, a base emitter layer forming region and a collector layer forming region are eliminated by the use of the same mask.例文帳に追加

ベース引き出し電極となる多結晶シリコン膜２０６を含む積層膜２０５〜２０７をパターニングする工程において、同一のマスクを用いてベース・エミッタ層形成領域とコレクタ層形成領域とを除去する。 - 特許庁

Further, the image forming support apparatus refers to the Description of the TIFF format (200), separates a high image quality image from other images (characters and line drawings or the like) (202 to 208) and applies patterning to only the high image quality image and provides an output of the result to a CTP apparatus (210).例文帳に追加

また、ＴＩＦＦフォーマットのＤｅｓｃｒｉｐｔｉｏｎを参照して（２００）、高画質画像イメージとその他の（文字や線画等）イメージを分離して（２０２〜２０８）、高画質画像イメージのみを面付けしてＣＴＰ装置へ出力する（２１０）。 - 特許庁

Adhesion between the color filters 201R, 201G, 201B and the transparent base film 220 is preferable and, even when the amount of pigment in the color filter increases, so that the color filter can be prevented from coming off in a patterning process of the color filter.例文帳に追加

カラーフィルタ２０１Ｒ、２０１Ｇ、２０１Ｂと透明下地膜２２０との接着は良好であり、カラーフィルタ中の顔料を多くしても、カラーフィルタのパターニング工程において、カラーフィルタが剥離する現象を防止することが出来る。 - 特許庁

To provide a mask for conductive film patterning, by which the process can be shortened, appearance defects such as flaw, blot and spark mark can be prevented, productivity can be greatly improved, and accordingly, usability in the subsequent process and durability during use can be improved remarkably.例文帳に追加

工程を短かくでき、キズ、滲み、スパーク跡などの外観欠点がなく、生産性が著しく優れ、したがって後工程での使い易さや、使用時の耐久性を著しく改良した導電膜パターン化用マスクを提供する。 - 特許庁

More particularly, the element is a lanthanide element such as the ytterbium (Yb), and the patterning has a structure (for example, a gate) including silicon and/or germanium doped with the lanthanide element, for example such as the ytterbium (for example, a Yb doped gate).例文帳に追加

より詳細には、上記元素はイットリビウム（Ｙｂ）等のランタニド元素であり、上記パターニングは、例えばイットリビウム等のランタニド元素がドープされたシリコン及び／又はゲルマニウム含有構造（例えばゲート）である（例えばＹｂドープゲート）。 - 特許庁

To provide an inkjet recording head preventing the deterioration of patterning precision by the deformation of a discharge port pattern shape, while suppressing the deformation by reflecting light from a base plate surface in the pattern exposition of the discharge port.例文帳に追加

吐出口のパターン露光における基板面からの反射光による吐出口パターン形状の変形を抑制しつつ、その変形抑制によるパターニング精度の低下を防止可能なインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

A material membrane constituting a TFT is laminated and formed on an insulating membrane substrate, and then a resist mask, having a plurality of regions whose thickness of the membrane is different to one another, is formed at the uppermost layer of the material membrane by conducting patterning.例文帳に追加

ＴＦＴを構成する材料膜を絶縁膜基板上に積層して成膜してから、膜厚が互いに異なる複数の領域を有するレジストマスクを上記材料膜の最上層にパターニングして形成する。 - 特許庁

After closely and uniformly applying conductive ink to a display area where many pixel areas are arranged like a matrix on a main surface of an insulating substrate 1 by using an ink jet (IJ) method and curing the ink, patterning is performed by photolithography using resist.例文帳に追加

絶縁基板１の主面に多数の画素領域がマトリクス状に配置された表示領域にインクジェット（ＩＪ）法を用いて隙間なく均一に透明導電膜インクを塗布・硬化した後、レジストを用いたホトリソグラフィでパターニングする。 - 特許庁

By using the material subjected to spin-on processing to the hard mask, a process can be executed by using a single tool, and usage of a single curing step is enhance, which is not normally used in a patterning process of the conventional technique, in which a CVD hard mask is used.例文帳に追加

ハード・マスクにスピンオンされた材料を使用すると、プロセスが単一のツールで実施でき、ＣＶＤハード・マスクが使用される従来技術のパターニング・プロセスで通常使用されない単一の硬化ステップの使用が可能になる。 - 特許庁

To provide a resin composition, an adhesive film and a resin varnish which are excellent in the precision in the registering for the application of a resin composition when applied on a substrate and besides which is improved in the resolution in a patterning treatment in the photolithographic technique.例文帳に追加

基板上に適用したときに、樹脂組成物の適用のための位置合わせ精度に優れる上に、フォトリソグラフィ技術におけるパターニング処理の解像度を向上させる樹脂組成物、接着フィルム及び樹脂ワニスを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element which carries out patterning of an organic EL layer by using a photolithography method, and which is superior in light-emitting characteristics and life characteristics.例文帳に追加

本発明は、フォトリソグラフィー法を用いて有機ＥＬ層をパターニングする有機ＥＬ素子の製造方法であって、発光特性および寿命特性に優れる有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film pattern having a narrow pattern, which is independent of the kind of a resist film and an optical limit of an exposure apparatus or the like, and thus to further provide a method for making a thin film patterning narrower.例文帳に追加

レジスト膜の種類や露光器などの光学的限界によらず、狭小なパターンを有する薄膜パターンを作製する方法を提供し、もって薄膜パターニングを狭小化する方法を提供することをも目的とする。 - 特許庁

To provide a deposition method and display material in a display material manufacturing process which realize accurate deposition of thin films of different characteristics by patterning on the same substrate and flat and uniform coating of liquid materials.例文帳に追加

特性の異なる薄膜を同一基板上に精度よくパターニング成膜することと、液体材料を平坦かつ均一に塗布させることを可能とする表示体製造プロセスにおける成膜方法および表示体を提供すること。 - 特許庁

To provide an intermediate layer material composition for a three- layer resist process soluble in an organic solvent, excellent in storage stability and free of a problem in trailing shape and line edge roughness in patterning of an upper layer resist and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時に裾引き形状、ラインエッジラフネスに問題のない３層レジストプロセス用中間層材料組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for nano imprint excellent in pattern formability and mold releasability, can form a good pattern, and give a pattern after the etching that is small in line edge roughness, and to provide a pattern and a patterning method using this.例文帳に追加

パターン形成性およびモールド剥離性に優れ、良好なパターンが形成でき、かつエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターンおよびパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system configured to condition a radiation beam, a patterning device capable of modulating the radiation beam, a substrate table constructed to support a substrate, and a projection system configured to project the modulated radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明システム、放射線ビームを変調するパターニングデバイス、基板を支持する基板テーブル、および変調した放射線ビームを基板の目標部分に投影する投影システムを有する。 - 特許庁

Then, etching is performed in three steps: (1) patterning of the ITO film along the resist pattern 8, (2) formation of the lower layer contact hole 41 by an etching liquid such as buffered hydrofluoric acid, and (3) removal of an "eaves-like part" 6a of the ITO film.例文帳に追加

そして、（１）レジストパターン８に沿ったＩＴＯ膜のパターニング、（２）バッファードフッ酸等のエッチング液による下層コンタクトホール４１の作成、及び（３）ＩＴＯ膜の「ひさし状部分」６ａの除去という３段階のエッチングを行う。 - 特許庁

To provide an etching-durable photosensitive resin composition which can be exposed for patterning with a small quantity of exposure light, which prevents misalignment of the pattern, which has excellent stripping property without leaving an unnecessary resin, and which can prevents a metal plate from rust.例文帳に追加

少ない露光量でパターン露光ができ、パターンの位置ズレを防止でき、剥離性に優れていて、不安な樹脂残りがなく、金属板のサビを防止することができる耐エッチング性感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

Further, in this patterning method for the insulating layer, by simplifying a conventional usual lithographic process, an etching process and a stripping process, the processes are simplified, process cost is reduced and process time is shortened.例文帳に追加

また、本発明による絶縁層のパターニング方法は、従来の通常的なリソグラフィ工程、エッチング工程及びストリッピング工程を単純化することによって、工程の単純化、工程コストの低減及び時間短縮の効果をもたらす。 - 特許庁