「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(61ページ目) - Weblio英語例文検索

When the phase shifter pattern is formed by patterning a transparent film 4a, the formation and alignment of the phase shifter pattern with respect to a metallic layer 3 for forming the light shielding film of a mask substrate 2 are executed by using alignment mark patterns disposed at the metallic layer 3.例文帳に追加

透明膜４ａをパターニングして位相シフタパターンを形成する際に、マスク基板２の遮光膜形成用の金属層３に設けられた位置合わせマークパターンを用いて、金属層３に対する位相シフタパターンの形成位置合わせを行う。 - 特許庁

To solve a matter that the wiring resistance increases due to formation of surface copper oxide when direct writing patterning interconnect line is formed using nano copper metal particles, and to mount a semiconductor device on a semiconductor by lowering the resistance after writing.例文帳に追加

ナノ銅金属粒子を用いた直描方式パターニング配線を形成するに際して、表面酸化銅形成により配線抵抗が大きくなるという問題点を解決して、描画後の低抵抗化を図り、半導体に実装可能にする。 - 特許庁

Thereafter, a multilayer film of semiconductor films 11a and 1a insulated from each other by the insulating layer 11b is formed on the insulating substrate 10A by patterning followed by formation of a gate insulating film 2 and a gate electrode on the semiconductor film 11a.例文帳に追加

そして、パターニングにより、絶縁基板１０Ａ上に、絶縁層１１ｂにより互いに絶縁された半導体膜１１ａ，１ａの積層膜を形成し、続いて、半導体膜１ａの上にゲート絶縁膜２とゲート電極とを形成する。 - 特許庁

To provide a resin composition for an optical waveguide, which has superior adhesion to a clad layer, can reduce a loss in an optical waveguide, and has high patterning property in forming a core, and to provide an optical waveguide using the same.例文帳に追加

クラッド層に対する優れた密着性を有するとともに、光導波路の低損失化の向上が図られ、かつコア形成時の良好なパターニング性を備えた光導波路用樹脂組成物およびそれを用いた光導波路を提供する。 - 特許庁

After applying a resist 113 on the insulation film 112 and patterning the resist 113 so as to expose a part of the wire densely forming area and the wire sparsely forming area, the insulation film 112 is etched by treating the resist 113 as a mask.例文帳に追加

絶縁膜１１２上にレジスト１１３を塗布し、密の配線の形成領域上の一部と疎の配線の形成領域とが露出するようにレジスト１１３のパターニングを行った後、レジスト１１３をマスクとして絶縁膜１１２をエッチングする。 - 特許庁

The pattern 15 can be constituted of a transmissive thin film formed on the surface of a semiconductor layer formed on the light emitting layer 12 and having the light emitting surface or can be formed by patterning the surface of the semiconductor layer having the light emitting surface.例文帳に追加

同心円状パターンは、半導体発光層上に形成され、前記発光面を有する半導体層表面に形成された透光性薄膜から構成されるか、もしくは前記発光面を有する半導体層表面をパターニングしても良い。 - 特許庁

In a process before isolation of the gate electrodes 10n, 10p by patterning gate electrode material, thermal treatment of high temperature of at least 700°C is made not to perform, so that the interdiffusion of dopant in a process before gate electrode formation is prevented.例文帳に追加

また、ゲート電極材料をパターニングしてゲート電極１０ｎ、１０ｐを分離する以前の工程では、７００℃以上の高温の熱処理を行わないようにすることで、ゲート電極形成前の工程における不純物の相互拡散を防止する。 - 特許庁

The seal part 130 for charging liquid crystal between a TFT array substrate 110 and a counter substrate 120 while holding the substrates at predetermined intervals is formed by using an on-chip spacer 131 which is formed to a given height by using patterning by photolithography.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板１１０と対向基板１２０との間を所定の間隔に維持しその基板間に液晶を封止するシール部１３０を、フォトリソグラフィによるパターニングを用いて所定の高さに形成されたオンチップスペーサ１３１で形成する。 - 特許庁

To provide a composition with less waveguide loss against a light having a wavelength ranging from visible rays to near infrared rays, and excellent in crack resistance and with excellent patterning property when applying radiation, and to provide an optical waveguide composed of the composition.例文帳に追加

可視域から近赤外域に亘る広範囲の波長を有する光について、導波路損失が少なく、しかも耐クラック性や、放射線照射によるパターニング性等に優れた組成物、及び該組成物からなる光導波路を提供する。 - 特許庁

Hereby, as in a structure in which a Si layer, a silicon germanium layer, and a Si layer are stacked sequentially, when the silicon germanium layer is introduced as an intermediate layer, it is possible to pattern only the silicon germanium layer without patterning the upper layer or the lower layer.例文帳に追加

これにより、Ｓｉ層／シリコンゲルマニウム層／Ｓｉ層が順次積層された構造のようにシリコンゲルマニウム層が中間層として導入された時、上部層や下部層のパターニングなしにシリコンゲルマニウム層のみを選択的にパターニングできる。 - 特許庁

A device like this is provided by performing ion-implantation, for example of boron, with an amorphous silicon film 3, and then patterning to form island-like semiconductor films 4a and 4b, and selectively implanting, for example, boron or phosphorous into either of them.例文帳に追加

このような装置は、非結晶シリコン膜３に例えばボロンのイオン注入を行った後、パターニングして島状の半導体膜４ａ、４ｂを形成し、いずれか一方に選択的に例えばボロン又はリンを注入することで得ることができる。 - 特許庁

To provide a pattern formation process of a semiconductor element for doubling a pattern density by double patterning technology in a partial region while forming a pattern having various widths simultaneously, and to provide a semiconductor element having a structure to which the process can be easily applied.例文帳に追加

多様な幅を有するパターンを同時に形成しつつ、一部領域ではダブルパターニング技術によりパターン密度を倍加させる半導体素子のパターン形成工程及び該工程を容易に適用可能な構造の半導体素子を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method for highly accurately performing patterning when performing pattern-forming by using a flexible substrate, and to provided an electronic element and an organic electroluminescent element each having a pattern-formed layer using the method.例文帳に追加

可撓性基板を用いてパターン形成する場合に、高精度にパターニングを行うことができる蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 - 特許庁

The ink channel has an ink channel 11 which supplies the recording head 1 with ink ejected therefrom for patterning, and an ink channel 12 used for measuring the quantity of ink ejected from the recording head 1.例文帳に追加

インク流路は、パターン形成時に記録ヘッド１から吐出するインクを記録ヘッド１に供給するパターン形成用インク流路１１と、記録ヘッド１から吐出する吐出インク量の測定に供される測定用インク流路１２とを有する。 - 特許庁

To provide an ink jet printer capable of highly reliably printing or patterning, by preventing occurrence of nozzle plugging due to evaporation of a solvent when using an ink containing a volatile solvent such as a water-based ink or a solvent-based ink.例文帳に追加

本発明は、水性インクや溶剤インク等、揮発する溶媒の入ったインクを用いる場合の、溶媒の蒸発によるノズル詰まりの発生を防止し、高信頼なプリント、或いはパターニングを行う事の出来るインクジェットプリンタを提供する事を課題とする。 - 特許庁

Then the scanning portion of each laser beam is decided, so that the portion may be irradiated twice with laser beams having different scanning directions in at least a portion obtained by patterning and the semiconductor film is partially crystallized so that the scanning portions may be hit by the beam spots.例文帳に追加

そして、少なくともパターニングすることで得られる部分に、走査方向の異なるレーザー光を２回照射するように、各レーザー光の走査部分を定め、該走査部分にビームスポットがあたるように、半導体膜を部分的に結晶化する。 - 特許庁

The method includes, for at least one process condition, obtaining values for at least one metric expressing a splitting correlated process quality as function of design parameters of the pattern and/or split parameters for the multiple patterning lithographic process.例文帳に追加

方法は、少なくとも１つのプロセス条件に関して、多重パターニングリソグラフプロセスに関するパターンの設計パラメータ及び／又は分割パラメータの関数として、分割に関連したプロセス品質を表す少なくとも１つの計量に関する値を得ることを含む。 - 特許庁

The hologram exposure device 100 is used for manufacturing at least one substrate 33 and the oblong multiple patterning hologram optical element including a plurality of holograms 13 arranged in an array in the longitudinal direction on the substrate 33.例文帳に追加

本発明のホログラム露光装置１００は、少なくとも一つの基材３３と、この基材３３上に一列に縦方向に並んで配置された複数のホログラム１３とを含む細長状の多面付けホログラム光学素子１５を製造するために用いられる。 - 特許庁

Then, the array substrate is manufactured by performing the patterning of a transparent conductive film 13 having the same pattern as that of the pixel electrode 8 with the resist pattern 13 as a mask, ion-irradiating the transparent conductive film 10 and forming the transparent conductive pattern 13.例文帳に追加

そして、前記レジストパターン１１をマスクとして、前記透明導電膜１０にイオン照射することによりパターニングを行い、前記画素電極８と同じパターンの透明導電パターン１３を形成することによりアレイ基板が製造できる。 - 特許庁

The method comprises laminating a fluorinated polymer layer 103 on substrates 101, 102, patterning the fluorinated polymer to form a relief pattern, and laminating an organic semiconductor or conductive material layer on the substrates 105, 106 using solution.例文帳に追加

この方法は、基板１０１，１０２上のフッ素化ポリマー層１０３を積層し、リリーフパターンを形成するためにフッ素化ポリマーをパターン化し、溶液から基板１０５，１０６上に有機半導体又は導電性材料層を積層することを含む。 - 特許庁

The patterning process includes a first etching process for etching the processed film in a first etching condition and a second etching process for etching further the processed film in a second etching condition different from the first etching condition.例文帳に追加

このパターニング工程は、第１のエッチング条件で前記被処理膜のエッチングを行なう第１エッチング工程、および、第１のエッチング条件とは異なる第２エッチング条件で前記被処理膜のエッチングを更に行なう第２エッチング工程を含む。 - 特許庁

To prevent needless grooves from being formed on the surface of a substrate and to prevent needless cavities from being generated in an imbedded oxide film by covering the exposed edge region of the imbedded oxide film formed by patterning with a nitride film.例文帳に追加

パターン形成した埋込み酸化膜のエッジ領域を窒化膜にて覆うことにより露出させず、これにより基板本体の表面に不要な凹溝が形成されたり、或いは埋込み酸化膜に不要な空洞が形成されるのを防止する。 - 特許庁

The ink is stably formed on the resin letterpress printing plate 104 from an anilox roll 101, and therefore, the ink can be uniformly supplied to an anilox roll 101 with a doctor roll 102 by supplying the ink selectively to a desired patterning effective area.例文帳に追加

アニロックスロール１０１から樹脂凸版１０４にインキを安定形成するために、所望のパターニング有効領域に選択的にインキ供給することで、ドクターロール１０２を用いてアニロックスロール１０１に均一にインキを供給することが可能となる。 - 特許庁

To manufacture a plate for forming an oil film by using a rigid material and to constitute the whole of an apparatus for applying patterning films with a rigid material so as to enhance the durability and to continuously form various oil masking patterns stably.例文帳に追加

オイル膜を形成するためのプレートをリジッドな素材で作製することを可能にし、パターニング膜塗布装置を全てリジッドなもので構成することにより、耐久性を向上させ、安定して多種類のオイルマスキングパターンを連続して形成させる。 - 特許庁

To provide an ink jet unit ensuring highly reliable printing or patterning by preventing clogging of nozzle due to evaporation of solvent when aqueous ink or solvent ink containing an evaporating solvent is used.例文帳に追加

本発明は、水性インクや溶剤インク等の蒸発する溶媒を用いたインクを用いる場合の溶媒の蒸発によるノズルつまりの発生を防止し、高信頼な印刷、あるいはパターニングを行うことのできるインクジェット装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

An emitter lead-out electrode 10a, to be connected to a base layer, is formed by forming a second silicon material layer on an insulation film 8 with a connection hole 9 formed on the insulation film 8 on a base layer 7 in a state of embedding, and patterning it.例文帳に追加

ベース層７上の絶縁膜８に形成された接続孔９を埋め込む状態で、絶縁膜８上に第２のシリコン系材料層を形成し、これをパターンニングしてベース層に接続されるエミッタ取り出し電極１０ａを形成する。 - 特許庁

The insulation layer 1 in the laminate can be wet-etched, and it is of a single-layer structure or of a laminated structure by two or more insulating unit layers, the insulation layer is wet-etched to conduct patterning by using dry film resists 4, 5, and the electronic component is manufactured.例文帳に追加

該積層体における絶縁層１はウェットエッチング可能で、単層構造又は２層以上の絶縁ユニット層の積層構造であり、該ウェットエッチングにより絶縁層のパターニングをドライフィルムレジスト４，５を用いて行い、電子部品を製造する。 - 特許庁

Owing to such a physical property, a hole injection transport layer composition in which optimization of the material and element design can be made and a patterning film forming of high precision can be carried out in a short time and at low cost can be provided.例文帳に追加

このような物性的特性により、材料や素子設計の最適化を行うことができ、かつ簡便、短時間、低コストで精度の高いパターニング成膜を行うことができる正孔注入輸送層用組成物を提供することができる。 - 特許庁

To provide a direct-write patterning method which can very easily and simply cope with the direct writing method from data from a computer in a bright room, even with printed boards having through-holes in the manufacturing technology of electronic circuits.例文帳に追加

電子回路の製造技術において、極めて簡便に、かつ明室下で可能な、コンピュータからのデータの直接描画方法に対応することができる直描作製方法であり、かつスルーホールを有する配線板も直描作製可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyimide resin-containing negative photosensitive resin composition which unnecessitates the use of an organic solvent as a developer and can be developed with only an aqueous alkali solution, and to provide a reaction development patterning method using the photosensitive resin composition.例文帳に追加

現像液として有機溶媒の使用を不要とし、アルカリ水溶液のみにより現像可能なポリイミド樹脂含有ネガ型感光性樹脂組成物および該感光性樹脂組成物を使用する反応現像画像形成法を提供する。 - 特許庁

Even if a defective part is generated at the first Schottky barrier electrode 30a when sputter film-forming or patterning Ti, Ti is so film-formed as to cover the defective part in the forming process of the second Schottky barrier electrode 30b.例文帳に追加

Ｔｉをスパッタ成膜したりパタニングしたりするときに第一のショットキー障壁電極３０ａに欠損部分が生じても、第二のショットキー障壁電極３０ｂの形成工程において、欠損部分をカバーするようにＴｉが成膜される。 - 特許庁

To provide a conductive patterning composition having photosensitivity which can be patterned by a photolithographic method and which can develop the conductivity by heat treatment at a relatively low temperature and to provide a method for manufacturing a conductive pattern film by using the composition.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によりパターニングすることができる感光性を有し、かつ比較的低温の加熱処理で導電性を発現させることができる導電性パターニング組成物及びこれを用いた導電性パターン膜の製造方法を得る。 - 特許庁

The polymer film patterning method includes applying polymer ink onto the substrate after forming a resist layer patterned on the substrate, and then separating the resist layer to remove the applied polymer ink therefrom.例文帳に追加

ポリマー膜のパターニング方法において、基板上にパターニングされたレジスト層を形成後に、前記基板上にポリマーインクを塗布し、その後、前記レジスト層を剥離することで前記塗布されたポリマーインクを併せて除去することを特徴とするポリマー膜のパターニング方法。 - 特許庁

A plurality of upper layer wires 16 having protruding electrodes 17 are formed by patterning the metallic plate, then a plurality of semiconductor device having at least of the semiconductor constitutional body are obtained by cutting the sheet for forming the insulating layer.例文帳に追加

次に、金属板をパターニングすることにより突起電極１７を有する複数の上層配線１６を形成し、この後、絶縁層形成用シートを切断して少なくとも前記半導体構成体を１つ含む複数の半導体装置を得る。 - 特許庁

This formation method consists in forming a hydrophobic film 21 atop a glass substrate 2, patterning pixel electrodes 8 atop the hydrophobic film 21 and printing the respective pixel electrodes 8 and the entire surface of the hydrophobic film 21 exposed between the pixel electrodes 8 with color ink 11.例文帳に追加

ガラス基板２の上面に疎水性膜２１を形成し、この疎水性膜２１の上面に画素電極８をパタンニングし、各画素電極８およびこれら画素電極８間に露呈した疎水性膜２１の全表面にカラーインク１１を印刷する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING NANO CARBON AND NANO CARBON MANUFACTURED BY THE METHOD, DEVICE FOR MANUFACTURING NANO CARBON, METHOD OF PATTERNING NANO CARBON AND NANO CARBON BASE MATERIAL PATTERNED BY USE OF THE METHOD AND ELECTRON EMISSION SOURCE USING THE PATTERNED NANO CARBON BASE MATERIAL例文帳に追加

ナノカーボンの製造方法及びその方法を用いて製造されたナノカーボン、ナノカーボンの製造装置、ナノカーボンのパターン化方法及びその方法を用いてパターン化されたナノカーボン基材及びそのパターン化されたナノカーボン基材を用いた電子放出源 - 特許庁

A thin film conductor is formed on at least one out of a surface and a back of the core substrate 9a by using any one out of a vapor deposition method, an ion plating method, an ion beam method, a vapor growth method and a sputtering method and patterned, and conductor patterns 19-22 are formed by patterning.例文帳に追加

コア基板９ａの表裏面の少なくともいずれかに蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、気相成長法、スパッタリング法のいずれかによって薄膜導体を形成した後にパターニングして導体パターン１９〜２２を形成する。 - 特許庁

To provide a method for easy patterning for a mat carpet, requiring no hand work, capable of always uniformly forming the same pattern for everybody and capable of neatly forming race and pattern with long and short pile like a relieved engraving for everybody.例文帳に追加

手作業ではなく、同じ図柄を誰にでも常に均一に構成することができ、溝も図柄もパイルの長短で浮き上がる版画のように、スッキリした形態にて誰にでも形成することができるマットじゅうたんの簡易な柄だし方法を提供する。 - 特許庁

A thermal oxide film 4 which serves as a pad oxide film is made 5-30 nm thick on a silicon substrate 2, and a silicon nitride film which serves as a CMP stopper is accumulated to 100-300 nm, and patterning is performed by resist so that becomes a desired element isolation region.例文帳に追加

シリコン基板２に対し、パッド酸化膜となる熱酸化膜４を５〜３０ｎｍ形成し、ＣＭＰストッパーとなるシリコン窒化膜６を１００〜３００ｎｍ堆積させ、それを所望の素子分離領域になるようレジスト８にてパターニングを行う。 - 特許庁

To acquire a multilayer circuit board which reduces the mixed noise in the case of cross talk considered to be generated by the voltage of a main power source plain, and a sub-power source plain of the multilayer circuit board in the vicinity of a filter arranged in an adjacent layer, and to acquire a patterning method of the multilayer circuit board.例文帳に追加

多層回路基板の主電源プレーンとサブ電源プレーンの電圧が隣接層に配したフイルタ近傍でクロストークとする場合に混入するノイズを低減する多層回路基板及び多層回路基板のパターニング方法を得る。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for manufacturing a color filter for liquid crystal display device which can be formed as a pattern by a photolithographic method in a single base of manufacturing line, can have layers that does not require patterning to be formed, and is suitable for small-lot production.例文帳に追加

１基の製造ラインで、フォトリソグラフィ法によりパターンとして形成し、また、パターニングを要しない層を形成するとができ、且つ少量生産に好適な液晶表示装置用カラーフィルタの製造装置、及び製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical solution supplying apparatus, capable of suppressing the mixing of air bubbles into the discharged chemical solution, and to provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of suppressing the occurrence of patterning failure resulting from the air bubbles mixed into the chemical solution.例文帳に追加

吐出薬液に気泡が混入することを抑制することができる薬液供給装置、および薬液に混入した気泡に起因するパターン形成不良の発生を抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Inspection electrodes 31a are formed on the through-holes 22 by carrying out electrolytic plating by using the conductive layer 12 for a plating electrode, and a wiring layer 12a is formed by peeling off the insulation sheet 21 and by applying a patterning process to the conductive layer 12 100 to provide the inspection table.例文帳に追加

導体層１２をめっき電極にして、電解めっきを行い、貫通孔２２に検査電極３１ａを形成し、絶縁シート２１を剥離して、導体層１２をパターニング処理して配線層１２ａを形成し、検査治具１００を得る。 - 特許庁

The first metal layer 23 has a patterning in a prescribed shape and is composed of a circuit pattern 231 electrically connected to the light emitting unit 4 and a heat radiating pattern 232 having a function to radiate heat generated in the light emitting unit 4.例文帳に追加

第１の金属層２３は、所定形状にパターニングされ、発光装置４と電気的に接続された回路パターン２３１と、発光装置４で発生した熱を放熱するための機能を有する放熱用パターン２３２とで構成されている。 - 特許庁

To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁