「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁

The method includes coarsely patterning at least one thin-film material (720-740) on a flexible substrate (710) and forming a plurality of thin-film elements on the flexible substrate (710) with a automatic-aligning imprint lithography (SAIL) process.例文帳に追加

本発明の方法は、可撓性基板（710）上で少なくとも１つの薄膜材料（720〜740）を粗くパターン形成すること、及び自動位置合わせインプリントリソグラフ（SAIL）工程を利用して、可撓性基板（710）上に複数の薄膜素子を形成することからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide, regarding an element molding die used for molding an optical element and the like, one that restrains early formation of a solidified layer through the restrained heat conduction by use of ceramics and enables a fine patterning by a photolithography formulation.例文帳に追加

光学素子等を成型する際に用いる素子成型用金型に関し、セラミックスを用いることで熱伝導が抑制されて早期の固化層形成が抑えられ、またフォトリソグラフィー処方による微細なパターン加工を可能とした素子成型用金型を提供する。 - 特許庁

To provide frame plating method for forming a plated film by using a mold formed with a patterning of resist, which can easily and surely prevent falling down of a resist frame with a high aspect-ratio to form a desired plated film.例文帳に追加

本発明は、レジストをパターニングして形成した型を用いてめっき膜を形成するフレームめっき方法に関し、高アスペクト比のレジストフレームの倒れを容易に確実に防止して所望のめっき膜を形成できるフレームめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A plurality of supply terminals 28, used for supplying power to a semiconductor element 3, are formed by patterning an output side electrode layer S2, and the supply terminals 28 are connected to the power supply layer 25 by a via 26 for capacitors.例文帳に追加

半導体素子３への電源供給に用いる複数の電源供給端子２８を出力側電極層Ｓ２をパターニングすることにより形成するとともに、これらの電源供給端子２８をキャパシタ用ビア２６によって電源層２５と接続する。 - 特許庁

After the surface of a wire 3 on a wiring board 1 is changed into roughened surface 4 by chemical etching or the like, a solder resist 6 is coated for patterning on the surface of the wiring board 1, then the solder resist 6 having an opening 7 is cured in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

化学エッチング法等により配線基板１の配線部３の表面を粗面４とし、その配線基板１の表面上にソルダーレジスト６をパターニングした後、得られた開口部７を有するソルダーレジスト６を窒素等の不活性ガス雰囲気中でキュアする。 - 特許庁

Because the interference filter FR completed first can be covered with the first transparent etching stopper layer 54, the completed interference filter FR is not damaged in a patterning of the interference filter FB to be completed next and interference filters with various hues can be formed successively.例文帳に追加

最初に完成された干渉フィルタＦ_R を第１の透明エッチングストッパ層５４で覆うことができるため、次に完成すべき干渉フィルタＦ_B のパターニングの際に完成済み干渉フィルタＦ_R を損傷せず、異なる色相の干渉フィルタを順に形成できる。 - 特許庁

To provide a method for producing a zinc oxide based transparent conductive film forming material, capable of being used for a target for forming a transparent conductive film which has weather resistance while maintaining conductivity sufficient for practical use, and has an appropriate etching rate in patterning.例文帳に追加

実用に耐えうる導電性を保ちながら、かつ耐候性を備え、パターニングの際に適当なエッチングレートを有する透明導電膜を成膜するためのターゲットに用いることができる酸化亜鉛系透明導電膜形成材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preparing a photosensitive paste capable of achieving good patterning and capable of forming high reflectance partition walls that contribute toward enhancing luminance and color purity, and to provide a member for plasma display manufactured by using the photosensitive paste and a plasma display.例文帳に追加

良好なパターニングが可能であり、輝度や色純度向上に寄与する反射率の高い隔壁の形成が可能な感光性ペーストの製造方法およびその感光性ペーストを用いて作製されたプラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの提供。 - 特許庁

The forgery preventing foil has ≤20 μm total thickness, contains at least one patterning optical isotropic layer having two or more regions each having different birefringent property, wherein all of the regions in one layer is formed from the same composition.例文帳に追加

総厚が２０μｍ以下の偽造防止箔であって、複屈折性が異なる領域を二つ以上含むパターニング光学異方性層を少なくとも一層含み、同一層内における前記領域は全て、互いに同一の組成物から形成されている、偽造防止箔。 - 特許庁

An electron beam resist layer 21 is formed on a base material 11, and patterning processings such as pattern drawing and development of the electron beam resist layer 21 are carried out by using an electron beam exposure device to form an initial resist pattern 22 in a lattice shape at a prescribed position on the base material 11.例文帳に追加

基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。 - 特許庁

By combining CMP of high flatness in which patterning for making the area of an SiO_2 film uniform is unnecessary, and regulating the trench width and film thickness of an alignment pattern part for alignment of a semiconductor mask, the number of times of exposure processing is reduced to one.例文帳に追加

ＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングが不要な高平坦性のＣＭＰと組み合わせることと、半導体マスクの位置合わせ用アライメントパターン部の溝幅と絶縁膜の膜厚を規定することで、露光工程の回数を１回に低減する。 - 特許庁

The step between the position detecting groove 50 in which the insulator 51 is formed in this manner and other regions in the semiconductor substrate 1 is used to align the substrate with a mask for patterning for forming a conducting film or the like, after the isolation area is formed.例文帳に追加

このような態様にて絶縁物５１が形成された位置検出溝５０と半導体基板１の他の領域との段差は、前記素子分離領域形成後、導電膜等の形成に際し基板とパターニングのためのマスクとの位置合せに用いられる。 - 特許庁

Then, the atmosphere near the laser beam irradiation face of the film is exhausted from the exhaust hole, a laser beam is emitted under the atmosphere locally decompressed by this exhaust, and the laser beam irradiation part of the film is removed from the substrate to perform patterning.例文帳に追加

そして、透明導電膜のレーザ光照射面近傍の雰囲気を排気孔より排気し、この排気により局所的に減圧された雰囲気下でレーザ光を照射し、透明導電膜のレーザ光照射部分を基板上から除去してパターニングする。 - 特許庁

The method of patterning the organic metal film includes a step of forming the organic metal film 3 on a first base 21, a step of pressing a pressed region 310 set at part of the organic metal film 3 with an indenter 4 along the film thickness, and a step of etching the organic metal film 3.例文帳に追加

第１の基材２１上に有機金属膜３を形成する工程と、有機金属膜３の一部に設定した加圧領域３１０を圧子４により膜厚方向に加圧する工程と、有機金属膜３にエッチング処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the microcoil comprises the steps of forming a catalytic metal layer 3 on a part to be formed with the wiring 5 on a substrate layer 2 made of epoxy resin, and patterning the epoxy resin containing a photoreactive curing agent to form a form 6, on a part in which the layer 3 does not exist.例文帳に追加

エポキシ樹脂の下地層２の上の配線５が形成される予定の部分に触媒金属層３を形成し、光反応性硬化剤を含有するエポキシ樹脂をパターニングして触媒金属層３が存しない部分に型枠６を形成する。 - 特許庁

The mask force device is releasably connected to the mask in order to provide an accelerating force to the mask so that a projection optical system in a lithographic apparatus may accurately project a pattern imparted by the patterning device onto a target portion of a substrate by using a radiation beam.例文帳に追加

マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。 - 特許庁

In the multiple patterning substrate 1, a plurality of substrate regions 2a to 2o to be taken out as substrates are formed, wherein a heating body 6 is provided for the substrate regions 2a to 2o and gaps 3 are formed at peripheral sides of the substrate regions 2a to 2o except for one side.例文帳に追加

基板として取り出されるべき基板領域２ａ〜２ｏが複数形成された多数個取り基板１であって、基板領域２ａ〜２ｏには発熱体６が設けられており、基板領域２ａ〜２ｏの一辺を除く周囲の辺には空隙３が形成されている。 - 特許庁

And also, since the male terminal side member 4 and the female terminal side members 2, 3 are formed with the use of a patterning process and a plating process of resist, a fine connector capable of corresponding to further downsizing of a portable equipment or the like, or wiring connection at an IC level can be obtained.例文帳に追加

また、雄端子側部材４と雌端子側部材２、３とをレジストのパターニング工程とめっき工程とを用いて作成したので、携帯機器などの更なる小型化やＩＣレベルでの配線接続に対応可能な微細なコネクタを得ることができる。 - 特許庁

The method involves a step of being required for using first and second etch mask layers, that are constructed of materials such that the second mask (formed over the first mask) can act as a mask during the patterning of the first mask (bottom mask).例文帳に追加

この方法では第１および第２のエッチングマスク層を使用することが必要であり、これらの層は、第１のマスク（下層マスク）のパターン化の際に第２のマスク（第１のマスクの上に形成される）がマスクとしての役割を果たすことができるような材料で構成される。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask blank, to which a high-level quality about defects is required, by reducing the number of high oxide defects in a size of 60 nm or more and less than 150 nm, the defect containing more oxygen than in the surrounding area in a thin film for patterning.例文帳に追加

パターン形成用薄膜中のその周囲よりも多く酸素を含有する６０ｎｍ以上１５０ｎｍ未満の大きさの高酸化物欠陥数を低減させ、高いレベルの欠陥品質を要求されるマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition used for patterning due to double exposure, suitably used for a liquid immersion exposure process, such as water, without requiring separate formation of an upper layer film, and which os suitably used for forming a first resist layer.例文帳に追加

二重露光によるパターンニングに用いられ、上層膜を別途形成する必要がなく、水等の液浸露光プロセスにも好適に用いられることが可能であり、第一のレジスト層を形成するために好適に用いられる感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a reticle for a stepper which can arrange convex portions more uniformly on a substrate which laminates semiconductor layers, and to provide a manufacturing method for a patterning substrate, a manufacturing method for a semiconductor multilayer substrate, and a manufacturing method for a semiconductor light-emitting element, using the reticle.例文帳に追加

半導体層を積層する基板上に凸部をより一様に配置しうるステッパー用レチクル、そのレチクルを用いた、パターン加工基板の製造方法、半導体積層基板の製造方法および半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Patterning is performed on the transparent conductive film by laser using a transparent electrode film constituted by addition (co)polymer of cyclic olefin in which copolymerization ratio of norbornene and ethylene is 80:20 to 90:10 and melt volume rate is 0.8 to 2.0 cm^3/10 minutes as a substrate.例文帳に追加

ノルボルネンとエチレンとの共重合比率が８０：２０〜９０：１０、メルトボリュームレートが０．８〜２．０ｃｍ^３／１０分である環状オレフィンの付加（共）重合体よりなる透明電極フィルムを基板として用いて、透明導電膜がレーザーによりパターニングされる。 - 特許庁

To provide a semiconductor element in which adverse effects due to damage occurring during polishing or dry etching in a manufacturing process are eliminated, and a problem of difficulty in patterning by wet etching is solved, consequently reliability is improved.例文帳に追加

製造工程における研磨またはドライエッチングの際に発生したダメージによる悪影響を解消すると共に、ウェットエッチングによるパターニングが難しいという問題を解決することができ、信頼性を向上させることができる半導体素子を提供する。 - 特許庁

A substrate 1 with a speaker is provided with a multilayer printed wiring board part 3 formed by laminating a plurality of thermoplastic films to which patterning is applied, and a speaker 4, a communication means 5 and a drive control means 6 are buried within the multilayer printed wiring board part 3.例文帳に追加

スピーカ付基板１は、パターニングが施された熱可塑性フィルムを複数積層して形成される多層プリント配線基板部３を備え、この多層プリント配線基板部３の内部にスピーカ４、通信手段５、駆動制御手段６を埋設した構成である。 - 特許庁

Electrodes and the resistive body are formed by patterning by utilizing the adhesion of an exfoliated film comprising a photosensitive adhesive film so as to exfoliate and remove a conductive resin layer and a resistive layer.例文帳に追加

感光性粘着フィルムからなる剥離フィルムの粘着性を利用して、導電性樹脂層および抵抗体層を剥離、除去することによって、均一な膜厚の電極および抵抗体をパターニング形成することにより、前記課題を解決することができた。 - 特許庁

After patterning a wiring pattern 2 and a connection terminal 3 with positive type photosensitive resist 6 on an insulating substrate 1, the photosensitive resist 6 on the wiring pattern 2a covering the connection terminal 3 part and solder resist 4 is removed selectively thus forming the solder resist 4.例文帳に追加

絶縁基板１上にポジ型の感光性レジスト６で配線パターン２と接続端子３をパターニングした後、接続端子３部およびソルダーレジスト４を被覆する配線パターン２ａ上の感光性レジスト６を選択的に除去した後、ソルダーレジスト４を形成する。 - 特許庁

To provide a film manufacturing method in which a bank can be formed by a simpler process without requiring a patterning process by a printing method or a lithography and minuteness of the patterns and reduction of the material usage can be achieved.例文帳に追加

本発明の目的は、印刷法またはフォトリソグラフィによるパターニング工程を要せずに、より簡単なプロセスでバンクを形成することができ、これによりパターンの微細化および材料使用量の低減化を図ることができる膜製造方法を提供する。 - 特許庁

The intersecting point array is manufactured in a roll-to-roll environment utilizing a plastic web in accordance with an improved embossing lithographic technique which provides required high precision and high throughput and conquests the normal limit of the conventional patterning technique.例文帳に追加

交点アレイは、必要とされる高精細度および高スループットを提供し、さらに従来技術のパターニング技法の通常の制限を克服する、改善されたエンボス加工リソグラフィ技法に従って、プラスチックウェブを利用するロール・ツー・ロール環境において製造される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color-filter substrate which reduces deflection of a photomask by a simple method and forms a plurality of color filters by performing patterning processes, such as pattern exposure and developing, by using the photomask that is fixed and held in a mask holder.例文帳に追加

フォトマスクのたわみを簡易な方法で減少させ、マスクホルダーに固定保持さしたフォトマスクを用いてパターン露光、現像等のパターニング処理を行って複数の着色フィルタを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pixel electrode and its formation method by which the very fine patterning of the pixel electrode is attained and the change of characteristics and the degradation of transmissivity due to the influence of gas and moisture is prevented, and to provide an optoelectronic device and electronic apparatus provided with the pixel electrode.例文帳に追加

画素電極についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、画素電極とその形成方法、およびこの画素電極を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

The patterns 8 for process monitor are formed by ion milling processing with the same stage as the stage for previously forming the film having an ion milling rate higher than that of the MR elements 6 to a film thickness thicker than the film thickness of the MR elements 6 and patterning the MR elements 6.例文帳に追加

加工モニタ用パターン８は、磁気抵抗効果素子６よりもイオンミリングレートが大きな膜を磁気抵抗効果素子６の膜厚よりも厚く形成しておき、磁気抵抗効果素子６をパターン化する工程と同じ工程でイオンミリング処理によってパターン形成する。 - 特許庁

To provide a patterning method, a manufacturing method of an electro-optical device and the device, a manufacturing method of a semiconductor device and the device, and a manufacturing method of a piezoelectric driving element and the element, capable of improving productivity without degrading machining accuracy.例文帳に追加

加工精度を損なうことなく生産性を向上させることができるパターニング方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、半導体装置の製造方法、半導体装置、圧電駆動素子の製造方法及び圧電駆動素子を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic detector, in particular, capable of reducing properly damage on an integrated circuit caused by a thin film process in patterning formation for a magnetoresistance effect element, and capable of compactifying the magnetic detector, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

特に、磁気抵抗効果素子のパターニング形成の際の薄膜プロセスによる集積回路へのダメージを適切に軽減できるとともに、磁気検出装置の小型化を実現できる磁気検出装置及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To simply and rapidly perform press molding by facilitating the design of material formulation, a pattern of the surface and the like and enlarging freedoms thereof in a patterning molding of a cement type inorganic material useful for a building material such as an external wall material, a tile and an interior material by pressing.例文帳に追加

外壁材、瓦、内装材等の建材として有用なセメント系無機質材のプレスによる模様付け成形において、材料配合や表面柄等の設計を容易とし、それらの自由度を大きくして簡便かつ迅速にプレス成形を可能とする。 - 特許庁

This forms a charge shield layer 250 which overlies exposed portion of a pattern 230 of the charge capture layer exposed, and after forming a gate layer 500 which fills up a recessed member, a gate layer 500 is treated by spacer etching and processed by patterning with a gate 501 of spacer formation.例文帳に追加

これにより露出した電荷捕獲層のパターン２３０の露出部分上を覆う電荷遮断層２５０を形成し、リセスされた部位を充填するゲート層５００を形成した後、ゲート層５００をスペーサエッチングしてスペーサ形態のゲート５０１でパターニングする。 - 特許庁

Next, patterning is applied to the first core layer so as to form first cores 53a and second cores 53b that cross one another, further, a second clad layer is formed, then, a waveguide body 51 with the first and the second cores embedded in the first and the second clad layers are manufactured.例文帳に追加

ついで、第１コア層をパターニングして、互いに直交する第１コア５３ａおよび第２コア５３ｂを形成し、さらに第２クラッド層を形成して、第１および第２コアが第１および第２クラッド層に埋設された導波路体５１を作製する。 - 特許庁

A coating film containing a cross-linked hydrophilic resin particle is applied on the surface of the building materials, and then water-based ink containing substantially no binding agent is discharged on the coating film surface so that coloring and/or patterning of the building materials are/is performed at the of resolution of 150-600 DPI.例文帳に追加

建材表面に、架橋された親水性樹脂粒子を含有する塗膜を施し、次いで該塗膜表面に、結合剤を実質的に含まない水系インクを吐出し、１５０〜６００ＤＰＩの解像度で建材の着色及び又は模様付けを行う。 - 特許庁

To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

A new patterning method is employed, which is characterized in that at least a substrate and a dispersion system are used, a distribution of particle concentration is produced in a layer of the dispersion system formed on the substrate by a distribution of heat quantity given to the dispersion system, and then subjected to a curing process.例文帳に追加

少なくとも基板と、分散系を用い、該分散系に与えられた熱量の分布により、基板上に形成した該分散系層内に濃度分布を形成し、しかる後に硬化処理を行うことを特徴とする、新規のパターニング方法を採用する。 - 特許庁

Primary conductive film patterns 56a symmetrical to each other form secondary conductive film patterns 66 on the primary conductive film patterns 56a formed on the active region 51, and then form the secondary conductive film patterns 66 and primary conductive film patterns 56a by sequencial patterning.例文帳に追加

互いに対称である第１導電膜パターン５６ａは、活性領域５１上に形成された第１導電膜パターン５６ａ上に第２導電膜６６を形成し、第２導電膜６６と第１導電膜パターン５６ａを順次にパターニングして形成する。 - 特許庁

A thin-film capacitor wherein a metal oxide of perovskite crystal structure is used as a dielectric layer is formed on a first substrate, which is then transferred on a second substrate where an electronic circuit is formed, for patterning and electric connection of the thin-film capacitor.例文帳に追加

ペロブスカイト結晶構造を有する金属酸化物を誘電体層とする薄膜コンデンサを第１の基板上に形成し、その後、電子回路が形成された第２の基板上に転写した後、上記薄膜コンデンサのパターニング、電気的な接続を行う。 - 特許庁

An organic EL panel 100 is prepared by patterning organic EL elements optimum for respective monochromatic colors of three primary colors RGB into stripes, and beams 107 of monochromatic colors RGB from the panel 100 are adjusted by a liquid crystal panel 108 to obtain output beams 110 of monochromatic colors RGB.例文帳に追加

３原色ＲＧＢそれぞれの単色に最適な有機ＥＬ素子をストライプ状にパターン化した有機ＥＬパネル１００からの各単色ＲＧＢ光１０７を液晶パネル１０８で調光して各単色ＲＧＢ出力光１１０とする。 - 特許庁

Patterning to a photoresist layer formed on a crystal substrate is performed on a front side and a rear side in respectively different steps and further, before developing a photoresist layer on one side, a photoresist layer formed on another side is covered with a protecting film which is immune to a developer.例文帳に追加

水晶基板に形成したフォトレジスト層へのパターニングを表面側と裏面側をそれぞれ別の工程で行い、更に一方の面のフォトレジスト層を現像する前に、他方の面に形成されたフォトレジスト層を現像液に耐性のある保護膜で覆う。 - 特許庁