「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a dielectric thin film device for solving a problem due to a residual stress actualized when the patterning of a dielectric thin film is performed by using conventional photo-lithography technology, and a problem due to a micro-fine residue.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー技術を用いて誘電体薄膜のパターニングを行った場合に顕在化する残留応力に起因する問題および微小残渣に起因する問題を解消することができる誘電体薄膜デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

In the TAB tape for semiconductor device, the inner lead 6 and a wiring pattern 5 are formed by patterning a conductor foil 11 by a wet-etching process using an etchant to which an inhibitor constituted of an organic compound or an inorganic compound is added.例文帳に追加

本発明の半導体装置用ＴＡＢテープでは、インナーリード６および配線パターン５が、有機化合物または無機化合物からなるインヒビタを添加したエッチャントを用いたウェットエッチングプロセスによって導体箔１１をパターン加工することにより形成されている。 - 特許庁

To provide an electrostatic capacitance-type input device in which a first electrode, a second electrode, an inter-layer insulating film, a relay electrode, and peripheral wiring can be formed by three times in total of patterning formation and a method for manufacturing the capacitance-type input device.例文帳に追加

計３回のパターニング形成によって、第１電極、第２電極、層間絶縁膜、中継電極、および周辺配線を形成することのできる静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This can prevent disconnection from being caused by a battery action via a developer in the video signal line, the drain electrode 104, the source electrode 105, and the like, in the case where ITO has a pinhole or the like in patterning the ITO.例文帳に追加

これによって、ＩＴＯをパターニングするときに、ＩＴＯにピンホール等が存在する場合に現像液を介した電池作用によって、映像信号線、ドレイン電極１０４、ソース電極１０５等が侵されて断線を引き起こすことを防止することが出来る。 - 特許庁

A first electrode and a second electrode separated from each other are formed on a substrate and after stacking a silicon layer in which amorphous silicon and polycrystalline silicon exist mixedly by the sputtering method or the chemical vapor deposition method, a semiconductor is formed by patterning the silicon film.例文帳に追加

基板上に互いに分離されている第１及び第２電極を形成し、非晶質と多結晶シリコンとが混在するシリコン膜をスパッタリング法または化学気相蒸着法で積層した後、前記シリコン膜をパターニングして半導体を形成する。 - 特許庁

In an etching process in which an active layer 1a of the semiconductor device is formed on by patterning a polysilicon layer after depositing the polysilicon layers on the insulating substrate 10, front surface of the substrate 10 exposed by removing the polysilicon layer is also slightly etched.例文帳に追加

絶縁性の基板１０にポリシリコン層を堆積した後、当該ポリシリコン層をパターニングして半導体装置の能動層１ａに形成するエッチング工程において、当該ポリシリコン層の除去により露出した基板１０の表面も若干エッチングする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which there is no limit with respect to film thickness, and reducing the gate electrode thickness is extremely easy and conductive types are differentiated by only one-time patterning, when a deposited polycrystalline silicon film is doped.例文帳に追加

膜厚に対する制限がなくゲート電極の厚さを低減することが極めて容易であり、且つ堆積する多結晶シリコン膜にドーピングを行う際に導電型を作り分けるためのパターニングを１回で済ます半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of patterning a lower layer film by which the film reduction of a resist pattern in the upper layer is suppressed and a pattern having sidewalls perpendicular to the film and a good square cross-sectional form can be formed with high resolution and high dimensional accuracy.例文帳に追加

下層膜をパターニングする方法において、その上層のレジストパターンの膜減りを抑制するとともに、垂直な側壁を有し、断面が矩形の良好な形状を有するパターンを高い解像度、かつ高い寸法精度で形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive laminated structure capable of forming a fine pattern conveniently by applying a low cost method of high material use efficiency, e.g. printing method, and including a higher mobility semiconductor layer having a high value added function other than patterning.例文帳に追加

印刷法のような低コストかつ材料使用効率の高い方法が適用でき、簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有し、より高移動度の半導体層を有する積層構造体を廉価に提供する。 - 特許庁

To provide a multiple patterning ceramic substrate which effectively prevents a ceramic base substrate from being divided carelessly at ends of split grooves as a starting point, and which can accurately and surely place electronic elements at respective sections partitioned by the split grooves.例文帳に追加

セラミック母基板が分割溝の端部を起点にして不用意に分割されることを有効に防止し、それにより分割溝で区分された各区画に電子素子を正確、かつ確実に搭載することが可能な多数個取りセラミック基板を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device and a manufacture thereof capable of finely patterning a polycrystalline silicon film without a portion not being left, and of easily preventing dielectric strength between an erasable electrode and a floating gate electrode.例文帳に追加

多結晶シリコン膜が部分的に残ることのない微細化を進めることができ、消去ゲート電極及びフローティングゲート電極間における耐圧劣化を容易に抑制することが可能な半導体記憶装置と、半導体記憶装置の製造方法とを提供する。 - 特許庁

During scanning, the overall homogeneity of the illumination may be improved by smearing out the inhomogeneities like this in such a way that additional movement is applied to a substrate table of the apparatus and a patterning device selected optionally in a direction at an angle with the scanning movement.例文帳に追加

走査中、装置の基板テーブル及び任意選択でパターン形成装置に、走査移動に対しある角度を持った方向に追加の移動を付与することによって、このような不均質部分がぼかされ、照明の全体的な不均質性を改善することができる。 - 特許庁

A carrier for culturing the cell has a finely processed surface obtained by peeling an ion beam irradiated layer of a highly polymeric material surface formed by patterning ion beams on the surface of the highly polymeric material containing carbon as a constituent element and irradiating the surface therewith.例文帳に追加

炭素を構成元素として含む高分子材料の表面にイオンビームをパターン化し照射することにより形成される該高分子材料表面のイオンビーム照射層を剥離させることにより得られる微細加工表面を有する細胞培養用担体。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device bringing about no influence on patterning accuracy of electrodes, wiring and elements formed on a transparent substrate due to heat or moisture in the liquid crystal display device using the transparent substrate made of a transparent resin.例文帳に追加

透明樹脂からなる透明基板を用いた液晶表示装置において、熱および水分などによって透明基板に形成される電極、配線および素子などのパターン精度が影響を受けない液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes patterning a current collector 102 to have at least one electrolyte opening, disposing an electrolyte 106 into or through at least one opening, and disposing catalyst, at least in part, over the disposed electrolyte.例文帳に追加

少なくとも１つの電解質開口部を有するように集電体１０２をパターニングし、少なくとも１つの開口部の中に、又は開口部を通じて電解質１０６を配置し、及び配置された電解質上に少なくとも部分的に触媒を配置する。 - 特許庁

To provide manufacturing methods of an electron emission element and an electron source converging beams and reducing leak by forming the film and patterning an electron emission layer so that the electron emission layer is prevented from receiving physical and chemical damage in micro holes at high controllability.例文帳に追加

微細孔内に制御良く、電子放出層が物理的・化学的ダメージを受けないように電子放出層を成膜およびパターニングすることにより、ビーム収束および、リークの低減を目的とした電子放出素子及び電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

Or an electrode for a solid polymer fuel cell installs a patterning layer including carbon particle regions having different particle diameters in the in-plane direction of the catalyst layer.例文帳に追加

毛管圧の異なる領域によるパターンニング層を触媒層の面内方向に配置した固体高分子型燃料電池用電極、又は、粒径の異なるカーボン粒子領域によるパターンニング層を触媒層の面内方向に配置した固体高分子型燃料電池用電極。 - 特許庁

A ferroelectric thin film of the ferroelectric piezoelectric element is formed by introducing a photosensitive group to a ferroelectric precursor sol formed by sol-gel method, applying the precursor sol to a basic material and fine patterning a ferroelectric gel thin film thus obtained by optical fabrication.例文帳に追加

強誘電体圧電素子の強誘電体薄膜を、ゾル−ゲル法で形成された強誘電体の前駆体ゾルに感光基を導入しその前駆体ゾルを基体に塗布して得られた強誘電体ゲル薄膜を光ファブリケーションにより微細パターニングして形成した。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board capable of patterning a wiring layer from a conductive layer without generating any problem concerning a base layer having a conductive layer on the base layer surface and a through-hole conductor packed with a resin packing body.例文帳に追加

基層表面に導体層を有すると共に、樹脂充填体が充填されたスルーホール導体を有する基層等について、諸問題を生じることなく、導体層から配線層をパターニングすることができる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A silicon nitride film having a thickness of at least not less than three times of that of the lower electrode is provided on the interlayer insulating film with a plug formed, after patterning the silicon nitride film in a line shape in some cases, the deep hole is formed by depositing the thick insulating film.例文帳に追加

プラグが形成された層間絶縁膜上に、下部電極の厚さの少なくとも３倍以上の厚さからなる窒化シリコン膜を設け、場合によっては前記窒化シリコン膜をライン状にパターン化した後、厚い絶縁膜を堆積して深孔を形成する。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 1, a first gate insulated film 2 is formed, a polycrystalline silicon film used as a floating gate 3 is subsequently allowed to grow, the floating gate 3 is subjected to patterning into a doughnut shape, a mouth shape, or U shape, and a second gate insulated film 4 is formed.例文帳に追加

半導体基板１上に、第１のゲート絶縁膜２を形成し、続けてフローティングゲート３となる多結晶シリコン膜を成長させ、フローティングゲート３をドーナッツ状，ロ字状またはコ字状にパターンニングした後、第２のゲート絶縁膜４を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the TFT array substrate, deformations of the glass substrate generated in a heat treatment process, such as the thermal shrinkage or the thermal expansion, are estimated previously, a pattern size is magnified or reduced only for the deformation previously estimated before the heat treatment process, and exposure and the patterning are performed.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板の製造方法において、熱処理工程で生じるガラス基板の熱収縮または熱膨張等の変形を、熱処理工程の前に予め見積もった変形量だけパターン寸法を拡大または縮小して露光し、パターニングする。 - 特許庁

To provide an asphalt under-layment material and a surface finish material used therefor capable of realizing the under-layment material having a rain water course eliminating sash bar in clay tile roofing and forming excellent slip prevention efficiency, effective asphalt spreading prevention efficiency and a beautiful color having difficulty in fading and/or a patterning surface in the surface.例文帳に追加

瓦葺きにおける縦桟を不要とする雨水流路を有し、優れた防滑性能、効果的なアスファルト滲み防止性能、および、表面に消えにくく褪色の少ない美しい色彩および／叉は模様面を形成した屋根下葺き材を実現する。 - 特許庁

The region in which the reinforcing tape does not exist between the reinforcing tapes 6 adhered to both the sides of the lower surface of the insulating film 2, is disposed under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at a conductor pattern forming time or in the lower vicinity region.例文帳に追加

絶縁フィルム２の下面両側に貼り付けられた補強テープ６間の補強テープが存在しない領域を、導体パターン形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁

To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate or the like formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a method for patterning a metal foil, which can form a pattern to have different thickness depending on parts with a simple process, and to provide an electric wiring substrate and a manufacturing method therefor, a semiconductor device and a manufacturing method therefor, and a circuit board and an electronic device.例文帳に追加

簡単な工程で、部分的に異なる厚みを有するように形成することができる金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁

To provide a packaging material that has excellent cushioning properties and cushioning functions for preventing patterning or scratching of an object to be packaged, even without using a protective material or a cushioning material for preventing the object to be packaged, such as nonwoven fabric or a foamed cushioning material, from being patterned or scratched.例文帳に追加

不織布や気泡クッション材のような被包装物の型入り・傷入りを防止するための保護材料やクッション材料を使用せずとも、クッション性に優れ、被包装物の型入り・傷入りを防止できるクッション機能を備えた包装材料を提供する。 - 特許庁

To provide a lighting tool suitable for use for a headlight for a vehicle or the like composed of a plurality of light source modules made in a compact shape with a simple structure and with a freedom in designing and light-distribution patterning enlarged.例文帳に追加

本発明は、簡単な構成により、小型に構成され得、さらにデザインや配光パターンの自由度が大きくなるようにした、複数の光源モジュールから成る車両前照灯等の車両用灯具に適した灯具を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a mask pattern (a) for patterning word lines and data lines, lengths of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 having end parts neighboring each other are varied to shift their ends from each other, and further the ends of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 are slanted.例文帳に追加

ワード線やデーター線をパターニングするためのマスクパターン（ａ）において、終端部の隣り合うワード線ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５、ＷＬ６の長さを変えて先端をずらし、さらにワード線端ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５，ＷＬ６を斜めに角を落とす。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film on which fine patterning can be applied, prevented from change of characteristics and lowering of transmittance caused by gas or moisture, and to provide a manufacturing method of the same, an electro-optical device provided with the transparent conductive film, and elecronic equipment.例文帳に追加

透明導電膜についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、透明導電膜とその形成方法、およびこの透明導電膜を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color conversion filter capable of reducing the cost by reducing the quantity of material for manufacturing a color conversion layer, capable of preventing color mixture, and capable of patterning in high precision.例文帳に追加

本発明は、製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減することによりコストを低減し、かつ混色が容易に防止でき、さらに高精細なパターニングが可能である色変換フィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a patterning substrate for cell culture to be used for making cells adhere onto a base in a high-precision pattern fashion to culture the cells, and to provide a cell culturing substrate onto which cells are made to adhere in a high-precision pattern fashion.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To eliminate a complication of preparing a patterning substrate when conventionally different species of cells coexisting in vivo tissue are cocultured, a culture in which cells are in a patterned state is examined so as to develop a cell function closer to that of organism.例文帳に追加

従来、生体組織において共存する異種の細胞を共培養する場合、より生体に近い細胞の機能を発現させるために細胞をパターニングした状態での培養が検討されているが、そのパターニング基材の作製の煩雑さを解消することにある。 - 特許庁

To provide a surge protective circuit and a surge absorbing element of an electronic equipment wherein energy of a surge voltage form commercial power source line is attenuated by being converted into heat, the remaining surge voltage is discharged by a pattern gap, and mounting can be carried out easily by patterning a resistor and the gap integrally with other circuit components on a printed circuit board.例文帳に追加

電子機器のサージ保護回路内に設けた、サージ吸収素子を抵抗とパターンギャップで構成しコノサージ吸収素子をプリント基板の他の回路の能動素子や受動素子と一緒に形成し、組み立て工数を減少させてコストダウンを計る。 - 特許庁

Light is applied from a lower part to perform back exposure, wherein a shadow generated by a light-shielding region of the mask and that generated by the gate electrode 320 become non-exposure regions of a resist layer, and patterning is performed to form the source and drain electrodes 350, 360.例文帳に追加

下方から光を照射し、マスクの遮光領域によって生じる影とゲート電極３２０によって生じる影とが、レジスト層の非露光領域となるような背面露光を行い、パターニングしてソース電極３５０およびドレイン電極３６０を形成する。 - 特許庁

To establish a technique for producing a decorative leather product having a high modeling degree by making a pattern on a leather by transfer printing, silk screen printing, ink-jet printing, etc., based on digital image data, integrating the patterning with a three dimensionalization.例文帳に追加

本発明は、デジタル画像データを元に転写プリント、シルクスクリーンプリント、インクジェットプリント等による模様化を皮革に施して、この模様化と立体化とを一体化させて装飾的、且つ造形度の高い皮革製品をつくる技術を確立しようとするものである。 - 特許庁

To provide a cold cathode and its manufacturing method that enable to control the orientation of a field emission electron source capable of decreasing the operating drive voltage and the degree of vacuum of operation and to build up a cold cathode structure having a large-area wherein patterning in a desired shape can be made.例文帳に追加

動作駆動電圧、動作真空度が低減可能な電界放出電子源を配向制御することができ、所望の形状にパターニングできる大面積冷陰極構造の構築を可能にする冷陰極及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A bonding pad electrode 20, that is connected to the wiring layer 14 via the connection hole 16a by patterning while depositing a conductive material such as Al alloy, is deposited on the upper surface of the substrate, and a connection layer 20A for connecting the electrode 20 to the electrode 18 are formed.例文帳に追加

基板上面にＡｌ合金等の導電材を堆積してパターニングすることにより接続孔１６ａを介して配線層１４につながるボンディングパッド電極２０と、この電極２０を電極１８に接続する接続層２０Ａとを形成する。 - 特許庁

In the method, patterning is directly applied to the organic thin film formed on a substrate, based on a mask having micro apertures with a scale of micron to nanometer by a dry etching process or vacuum ultraviolet radiation.例文帳に追加

ミクロンからナノメータースケールの微細開口を有するマスクをもとに、基板上に形成された有機物薄膜をドライエッチングプロセスまたは真空紫外光照射により直接パターニングを行なうことを特徴とする有機薄膜の製造方法とそれによる有機薄膜。 - 特許庁

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel polyorganosiloxane compound excellent in heat resistance, transparency, low-dielectric property and solvent resistance and suitable for interlayer dielectric films on TFT substrates, a photosensitive resin composition and a heat curable resin composition comprising the same, and a patterning process.例文帳に追加

耐熱性、透明性、低誘電率特性、耐溶剤性に優れ、ＴＦＴ基板用層間絶縁膜として好適である新規なポリオルガノシロキサン化合物、これを含む感光性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After first-layer wiring L1 having a conductor film 16d using aluminum as a main constituent is subjected to patterning by a dry etching method, a sidewall protection film 18 of the machining sidewall and a photoresist pattern 17a used as an etching mask are removed by plasma ashing treatment.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする導体膜１６ｄを有する第１層配線Ｌ１をドライエッチング法によってパターニングした後、その加工側壁の側壁保護膜１８およびエッチングマスクとして使用したフォトレジストパターン１７ａをプラズマアッシング処理によって除去する。 - 特許庁

The material, thickness, refractive index, and light absorbance of the anti-reflective film 5 are set so that reflection can be reduced both for the light source wavelength and visible light to be used for photomask patterning, thus suppressing reflection of light by the wiring layer or the light shielding film.例文帳に追加

この反射防止膜５の材料、膜厚、屈折率、光吸収率をフォトマスクパターンニング時に使用される光源波長と可視光とに対して反射を低減させることができるように設定して、配線層や遮光膜による反射を抑制する。 - 特許庁

Next, the silicon substrate 3 is coated with a photoresist and an aligner is used to perform the patterning of the coated silicon substrate 3 through a photomask and the patterned silicon substrate is exposed and developed to be subjected to dry etching to form a minute flow channel groove 8 high in accuracy and having a cross section high in aspect ratio.例文帳に追加

次に、シリコン基板３にフォトレジストをコーティングし、アライナーを使用してフォトマスクでパターンニングをし、露光・現像して、その後、シリコン基板３をドライエッチングすることにより、微小で精度の高い、高アスペクト比の断面を有する流路溝８を作製する。 - 特許庁