「patterning」に関連した英語例文の一覧と使い方(64ページ目) - Weblio英語例文検索

A forgery prevention medium includes a support body, patterning optical anisotropy layers having two or more regions different in birefringence and a printing layer in this order, and a laminated film having a retardation of 50 nm or less is stuck on the printing layer.例文帳に追加

支持体、２つ以上の複屈折性の異なる領域を有するパターニング光学異方性層、および印刷層をこの順に含む偽造防止媒体であって、該印刷層の上にレターデーションが５０ｎｍ以下のラミネートフィルムが貼り合わされている偽造防止媒体。 - 特許庁

The method includes patterning a current collector 102 to have at least one electrolyte opening, disposing an electrolyte 106 into or through at least one opening, and disposing catalyst, at least in part, over the disposed electrolyte.例文帳に追加

少なくとも１つの電解質開口部を有するように集電体１０２をパターニングし、少なくとも１つの開口部の中に、又は開口部を通じて電解質１０６を配置し、及び配置された電解質上に少なくとも部分的に触媒を配置する。 - 特許庁

To provide manufacturing methods of an electron emission element and an electron source converging beams and reducing leak by forming the film and patterning an electron emission layer so that the electron emission layer is prevented from receiving physical and chemical damage in micro holes at high controllability.例文帳に追加

微細孔内に制御良く、電子放出層が物理的・化学的ダメージを受けないように電子放出層を成膜およびパターニングすることにより、ビーム収束および、リークの低減を目的とした電子放出素子及び電子源の製造方法を提供する。 - 特許庁

To stabilize an uneven pattern equal to or smaller than a diffraction limit by specifying conditions for stably patterning a photoresist layer when utilizing a hyper-resolution for an exposure beam in a method for forming fine patterns with contrast enhancement photolithography.例文帳に追加

コントラスト増強フォトリソグラフィ法で微細パターンを形成する方法において、露光ビームに超解像を利用する際に、フォトレジスト層に安定したパターン形成を行なうための条件を規定することにより、回析限界以下の凹凸パターン形状を安定させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display device bringing about no influence on patterning accuracy of electrodes, wiring and elements formed on a transparent substrate due to heat or moisture in the liquid crystal display device using the transparent substrate made of a transparent resin.例文帳に追加

透明樹脂からなる透明基板を用いた液晶表示装置において、熱および水分などによって透明基板に形成される電極、配線および素子などのパターン精度が影響を受けない液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Or an electrode for a solid polymer fuel cell installs a patterning layer including carbon particle regions having different particle diameters in the in-plane direction of the catalyst layer.例文帳に追加

毛管圧の異なる領域によるパターンニング層を触媒層の面内方向に配置した固体高分子型燃料電池用電極、又は、粒径の異なるカーボン粒子領域によるパターンニング層を触媒層の面内方向に配置した固体高分子型燃料電池用電極。 - 特許庁

A ferroelectric thin film of the ferroelectric piezoelectric element is formed by introducing a photosensitive group to a ferroelectric precursor sol formed by sol-gel method, applying the precursor sol to a basic material and fine patterning a ferroelectric gel thin film thus obtained by optical fabrication.例文帳に追加

強誘電体圧電素子の強誘電体薄膜を、ゾル−ゲル法で形成された強誘電体の前駆体ゾルに感光基を導入しその前駆体ゾルを基体に塗布して得られた強誘電体ゲル薄膜を光ファブリケーションにより微細パターニングして形成した。 - 特許庁

In the method, patterning is directly applied to the organic thin film formed on a substrate, based on a mask having micro apertures with a scale of micron to nanometer by a dry etching process or vacuum ultraviolet radiation.例文帳に追加

ミクロンからナノメータースケールの微細開口を有するマスクをもとに、基板上に形成された有機物薄膜をドライエッチングプロセスまたは真空紫外光照射により直接パターニングを行なうことを特徴とする有機薄膜の製造方法とそれによる有機薄膜。 - 特許庁

To provide a resist pattern causing no intermixing on an interface between an upper resist layer and a lower resist layer and thereby, having a favorable profile, and to provide a method for forming a resist pattern, and a method for patterning a thin film using the resist pattern, and a method for manufacturing a thin film magnetic head.例文帳に追加

上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.例文帳に追加

例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

After first-layer wiring L1 having a conductor film 16d using aluminum as a main constituent is subjected to patterning by a dry etching method, a sidewall protection film 18 of the machining sidewall and a photoresist pattern 17a used as an etching mask are removed by plasma ashing treatment.例文帳に追加

アルミニウムを主成分とする導体膜１６ｄを有する第１層配線Ｌ１をドライエッチング法によってパターニングした後、その加工側壁の側壁保護膜１８およびエッチングマスクとして使用したフォトレジストパターン１７ａをプラズマアッシング処理によって除去する。 - 特許庁

The material, thickness, refractive index, and light absorbance of the anti-reflective film 5 are set so that reflection can be reduced both for the light source wavelength and visible light to be used for photomask patterning, thus suppressing reflection of light by the wiring layer or the light shielding film.例文帳に追加

この反射防止膜５の材料、膜厚、屈折率、光吸収率をフォトマスクパターンニング時に使用される光源波長と可視光とに対して反射を低減させることができるように設定して、配線層や遮光膜による反射を抑制する。 - 特許庁

Next, the silicon substrate 3 is coated with a photoresist and an aligner is used to perform the patterning of the coated silicon substrate 3 through a photomask and the patterned silicon substrate is exposed and developed to be subjected to dry etching to form a minute flow channel groove 8 high in accuracy and having a cross section high in aspect ratio.例文帳に追加

次に、シリコン基板３にフォトレジストをコーティングし、アライナーを使用してフォトマスクでパターンニングをし、露光・現像して、その後、シリコン基板３をドライエッチングすることにより、微小で精度の高い、高アスペクト比の断面を有する流路溝８を作製する。 - 特許庁

To provide a novel polyorganosiloxane compound excellent in heat resistance, transparency, low-dielectric property and solvent resistance and suitable for interlayer dielectric films on TFT substrates, a photosensitive resin composition and a heat curable resin composition comprising the same, and a patterning process.例文帳に追加

耐熱性、透明性、低誘電率特性、耐溶剤性に優れ、ＴＦＴ基板用層間絶縁膜として好適である新規なポリオルガノシロキサン化合物、これを含む感光性樹脂組成物および熱硬化性樹脂組成物並びにパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method includes coarsely patterning at least one thin-film material (720-740) on a flexible substrate (710) and forming a plurality of thin-film elements on the flexible substrate (710) with a automatic-aligning imprint lithography (SAIL) process.例文帳に追加

本発明の方法は、可撓性基板（710）上で少なくとも１つの薄膜材料（720〜740）を粗くパターン形成すること、及び自動位置合わせインプリントリソグラフ（SAIL）工程を利用して、可撓性基板（710）上に複数の薄膜素子を形成することからなることを特徴とする。 - 特許庁

Because the frame is made of aluminum or a stainless alloy, the mesh is made of a synthetic resin or the stainless alloy and the thin plate is made of the synthetic resin or a metal, excellent water resistance, or the like, is attained even in the case an ink or a coating material for patterning is a water base.例文帳に追加

枠がアルミニウム、ステンレス合金であること、メッシュが合成樹脂又はステンレス合金であること、薄板が合成樹脂又は金属であることにより、模様付け用のインク又は塗料が水性の場合において、耐水性などに優れたものとなる。 - 特許庁

A plurality of supply terminals 28, used for supplying power to a semiconductor element 3, are formed by patterning an output side electrode layer S2, and the supply terminals 28 are connected to the power supply layer 25 by a via 26 for capacitors.例文帳に追加

半導体素子３への電源供給に用いる複数の電源供給端子２８を出力側電極層Ｓ２をパターニングすることにより形成するとともに、これらの電源供給端子２８をキャパシタ用ビア２６によって電源層２５と接続する。 - 特許庁

After the surface of a wire 3 on a wiring board 1 is changed into roughened surface 4 by chemical etching or the like, a solder resist 6 is coated for patterning on the surface of the wiring board 1, then the solder resist 6 having an opening 7 is cured in an inert gas atmosphere.例文帳に追加

化学エッチング法等により配線基板１の配線部３の表面を粗面４とし、その配線基板１の表面上にソルダーレジスト６をパターニングした後、得られた開口部７を有するソルダーレジスト６を窒素等の不活性ガス雰囲気中でキュアする。 - 特許庁

This method for producing the micro-patterning culture substrate 2 includes coating the cell culture substrate 2 with the water-soluble photocurable polymer 3, and then irradiating the water-soluble photo-curable polymer 3 with light via a master pattern 4 and patterningthe water-soluble photo-curable polymer 3 on the cell culture substrate 2.例文帳に追加

細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３を塗布し、水溶性光硬化性ポリマー３へマスクパターン４を介して光照射して細胞培養基材２上に水溶性光硬化性ポリマー３をパターニングすることで作成される。 - 特許庁

A halftone/shading layer 2 consisting of a zirconium oxide film having the same film thickness as the film thickness of shading regions is formed by reactive sputtering, etc., on a transparent substrate 1 and is subjected to a patterning treatment by dry etching, etc., by which the shading regions 2a and a translucent layer 2c is formed.例文帳に追加

透明基板１上に遮光領域膜厚と同じ膜厚を有する酸化ジルコニウム膜からなるハーフトーン兼遮光層２を反応性スパッタ等で形成し、ドライエッチング等にてパターニング処理して遮光領域２ａ及び半透明層２ｃを形成する。 - 特許庁

A halftone material film 11 and a resist film 21 are formed on a transparent substrate 1 consisting of synthetic quartz or the like and the resist film 21 is subjected to a series of patterning procedures such as patternwise exposure and development to form a resist pattern 21a on the halftone material film 11.例文帳に追加

合成石英等からなる透明基板１上に、ハーフトーン材料膜１１及びレジスト膜２１を形成し、レジスト膜２１をパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、ハーフトーン材料膜１１上にレジストパターン２１ａを形成する。 - 特許庁

A pattern formation method according to an embodiment comprises the steps of: forming a heat-shrinkable first film 101 on a base material 100; patterning the first film 101; and heating and shrinking the patterned first film 101.例文帳に追加

本実施形態によるパターン形成方法は、基材１００上に熱収縮性のある第１膜１０１を形成する工程と、前記第１膜１０１をパターニングする工程と、パターニングした前記第１膜１０１を加熱して収縮させる工程とを備える。 - 特許庁

To provide frame plating method for forming a plated film by using a mold formed with a patterning of resist, which can easily and surely prevent falling down of a resist frame with a high aspect-ratio to form a desired plated film.例文帳に追加

本発明は、レジストをパターニングして形成した型を用いてめっき膜を形成するフレームめっき方法に関し、高アスペクト比のレジストフレームの倒れを容易に確実に防止して所望のめっき膜を形成できるフレームめっき方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Next, patterning is applied to the first core layer so as to form first cores 53a and second cores 53b that cross one another, further, a second clad layer is formed, then, a waveguide body 51 with the first and the second cores embedded in the first and the second clad layers are manufactured.例文帳に追加

ついで、第１コア層をパターニングして、互いに直交する第１コア５３ａおよび第２コア５３ｂを形成し、さらに第２クラッド層を形成して、第１および第２コアが第１および第２クラッド層に埋設された導波路体５１を作製する。 - 特許庁

A coating film containing a cross-linked hydrophilic resin particle is applied on the surface of the building materials, and then water-based ink containing substantially no binding agent is discharged on the coating film surface so that coloring and/or patterning of the building materials are/is performed at the of resolution of 150-600 DPI.例文帳に追加

建材表面に、架橋された親水性樹脂粒子を含有する塗膜を施し、次いで該塗膜表面に、結合剤を実質的に含まない水系インクを吐出し、１５０〜６００ＤＰＩの解像度で建材の着色及び又は模様付けを行う。 - 特許庁

To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

A new patterning method is employed, which is characterized in that at least a substrate and a dispersion system are used, a distribution of particle concentration is produced in a layer of the dispersion system formed on the substrate by a distribution of heat quantity given to the dispersion system, and then subjected to a curing process.例文帳に追加

少なくとも基板と、分散系を用い、該分散系に与えられた熱量の分布により、基板上に形成した該分散系層内に濃度分布を形成し、しかる後に硬化処理を行うことを特徴とする、新規のパターニング方法を採用する。 - 特許庁

In a mask pattern (a) for patterning word lines and data lines, lengths of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 having end parts neighboring each other are varied to shift their ends from each other, and further the ends of word lines WL1, WL2, WL5 and WL6 are slanted.例文帳に追加

ワード線やデーター線をパターニングするためのマスクパターン（ａ）において、終端部の隣り合うワード線ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５、ＷＬ６の長さを変えて先端をずらし、さらにワード線端ＷＬ１、ＷＬ２、ＷＬ５，ＷＬ６を斜めに角を落とす。 - 特許庁

To provide a transparent conductive film on which fine patterning can be applied, prevented from change of characteristics and lowering of transmittance caused by gas or moisture, and to provide a manufacturing method of the same, an electro-optical device provided with the transparent conductive film, and elecronic equipment.例文帳に追加

透明導電膜についての微細なパターニングを可能にし、しかもガスや水分の影響による特性変化や透過率の低下を防止した、透明導電膜とその形成方法、およびこの透明導電膜を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color conversion filter capable of reducing the cost by reducing the quantity of material for manufacturing a color conversion layer, capable of preventing color mixture, and capable of patterning in high precision.例文帳に追加

本発明は、製造に際しての色変換層形成用材料の使用量を軽減することによりコストを低減し、かつ混色が容易に防止でき、さらに高精細なパターニングが可能である色変換フィルタの製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide a film carrier tape that reduces the full-etching warping or curling of a conductive layer which becomes one of warping indexes at the time of patterning the conductive layer by widening the selection width for the chemical structure of a polyimide film, and also to provide a method of manufacturing the tape.例文帳に追加

ポリイミドフィルムにおける化学構造の選択の幅を広げ、導電層にパターニングを行った際の、反りの指標の一つとなる導電層フルエッチング時のそりやカールを低減させることができるフィルムキャリアテープおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the patterning method of a conductive thin film, a conductive film 2 is formed on a substrate 1 by using a conjugated polymer (conductive polymer), and a material with a nonconjugate action, for example, an alkaline ink 3 is applied to the conductive film 2.例文帳に追加

導電性の薄膜のパターニング方法であって、基板１に共役系高分子（導電性ポリマー）によって導電性膜２を形成し、その導電性膜２に共役を切る作用のある材料、例えばアルカリ性のインク３を塗布することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for patterning a functional film in which irradiation energy of electromagnetic waves per unit area is reduced sharply, irradiation time is shortened, and facility of light source is reduced in size, and to provide an electromagnetic wave irradiator and an electronic apparatus.例文帳に追加

単位面積当たりの電磁波の照射エネルギー量の大幅な低減と照射時間の短縮とを図り、光源の設備の小型化を図った機能性膜パターン形成装置、機能性膜パターン形成方法、電磁波照射装置、および電子機器を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, regions A1, A2, A3 of a diffraction optics 1 are divided successively into a circular and two annular regions in this order in the radial direction, and an eight step stair structure is manufactured in the region A1 by repeating patterning and etching processes.例文帳に追加

回折光学素子１を領域Ａ１、Ａ２、Ａ３はそれぞれ半径方向に円形及び円環形領域に３分割し、領域Ａ１においてパターニング及びエッチングの工程を繰り返すことにより領域Ａ１に８段の階段構造を製作する。 - 特許庁

To provide a paper patterning sheet for a concrete decorative form, for extremely easily performing its manufacture, by forming an excellent and beautiful continuous recess-projection pattern even on a surface of a long size concrete mold such as a concrete foundation of a house.例文帳に追加

住宅のコンクリート基礎等の長尺のコンクリート成形体の表面にも良好且つきれいな連続した凹凸模様を形成することができ、且つその製造も極めて簡単に行い得るコンクリート化粧型枠用の紙製模様付けシートを提供する。 - 特許庁

To provide, regarding an element molding die used for molding an optical element and the like, one that restrains early formation of a solidified layer through the restrained heat conduction by use of ceramics and enables a fine patterning by a photolithography formulation.例文帳に追加

光学素子等を成型する際に用いる素子成型用金型に関し、セラミックスを用いることで熱伝導が抑制されて早期の固化層形成が抑えられ、またフォトリソグラフィー処方による微細なパターン加工を可能とした素子成型用金型を提供する。 - 特許庁

On a semiconductor substrate 1, a first gate insulated film 2 is formed, a polycrystalline silicon film used as a floating gate 3 is subsequently allowed to grow, the floating gate 3 is subjected to patterning into a doughnut shape, a mouth shape, or U shape, and a second gate insulated film 4 is formed.例文帳に追加

半導体基板１上に、第１のゲート絶縁膜２を形成し、続けてフローティングゲート３となる多結晶シリコン膜を成長させ、フローティングゲート３をドーナッツ状，ロ字状またはコ字状にパターンニングした後、第２のゲート絶縁膜４を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a wiring board capable of patterning a wiring layer from a conductive layer without generating any problem concerning a base layer having a conductive layer on the base layer surface and a through-hole conductor packed with a resin packing body.例文帳に追加

基層表面に導体層を有すると共に、樹脂充填体が充填されたスルーホール導体を有する基層等について、諸問題を生じることなく、導体層から配線層をパターニングすることができる配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

A silicon nitride film having a thickness of at least not less than three times of that of the lower electrode is provided on the interlayer insulating film with a plug formed, after patterning the silicon nitride film in a line shape in some cases, the deep hole is formed by depositing the thick insulating film.例文帳に追加

プラグが形成された層間絶縁膜上に、下部電極の厚さの少なくとも３倍以上の厚さからなる窒化シリコン膜を設け、場合によっては前記窒化シリコン膜をライン状にパターン化した後、厚い絶縁膜を堆積して深孔を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the TFT array substrate, deformations of the glass substrate generated in a heat treatment process, such as the thermal shrinkage or the thermal expansion, are estimated previously, a pattern size is magnified or reduced only for the deformation previously estimated before the heat treatment process, and exposure and the patterning are performed.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ基板の製造方法において、熱処理工程で生じるガラス基板の熱収縮または熱膨張等の変形を、熱処理工程の前に予め見積もった変形量だけパターン寸法を拡大または縮小して露光し、パターニングする。 - 特許庁

To provide an asphalt under-layment material and a surface finish material used therefor capable of realizing the under-layment material having a rain water course eliminating sash bar in clay tile roofing and forming excellent slip prevention efficiency, effective asphalt spreading prevention efficiency and a beautiful color having difficulty in fading and/or a patterning surface in the surface.例文帳に追加

瓦葺きにおける縦桟を不要とする雨水流路を有し、優れた防滑性能、効果的なアスファルト滲み防止性能、および、表面に消えにくく褪色の少ない美しい色彩および／叉は模様面を形成した屋根下葺き材を実現する。 - 特許庁

The region in which the reinforcing tape does not exist between the reinforcing tapes 6 adhered to both the sides of the lower surface of the insulating film 2, is disposed under the region in which the part of the copper layer 1 is eliminated by patterning at a conductor pattern forming time or in the lower vicinity region.例文帳に追加

絶縁フィルム２の下面両側に貼り付けられた補強テープ６間の補強テープが存在しない領域を、導体パターン形成時のパターンニングにより銅層１の一部が無くなった領域の下方又は下方近傍領域に配置する。 - 特許庁

To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate or the like formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁

To provide a method for patterning a metal foil, which can form a pattern to have different thickness depending on parts with a simple process, and to provide an electric wiring substrate and a manufacturing method therefor, a semiconductor device and a manufacturing method therefor, and a circuit board and an electronic device.例文帳に追加

簡単な工程で、部分的に異なる厚みを有するように形成することができる金属箔のパターニング方法、配線基板及びその製造方法、半導体装置及びその製造方法、回路基板並びに電子機器を提供することにある。 - 特許庁

Because the interference filter FR completed first can be covered with the first transparent etching stopper layer 54, the completed interference filter FR is not damaged in a patterning of the interference filter FB to be completed next and interference filters with various hues can be formed successively.例文帳に追加

最初に完成された干渉フィルタＦ_R を第１の透明エッチングストッパ層５４で覆うことができるため、次に完成すべき干渉フィルタＦ_B のパターニングの際に完成済み干渉フィルタＦ_R を損傷せず、異なる色相の干渉フィルタを順に形成できる。 - 特許庁